本发明专利技术公开了一种旋转可调α源照射装置，其特征在于：包括有支架，所述支架上架设有回转平台，所述回转平台上设有多个样品培养皿，所述回转平台下方的支架上架设有可升降的α源照射机构，所述回转平台由电机驱动。本发明专利技术设计合理，通过调节放射源高度，样品台转速，粒子出口角度等方式对细胞所受辐射的剂量进行调节，具有造价便宜，可进行不同剂量，剂量率和LET照射，照射剂量准确，可控性好等性能。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及ー种ー种旋转可调a源照射装置，它用于研究粒子在细胞中的辐射效应以及其机理。
技术介绍
随着科技的发展，环境中低剂量、低剂量率辐射的危害性越来越受到人们的重视。 按照D. Brenner的计算，人体所受到的氡气及其子代放射的a粒子的辐射占人体所受总环境辐射量的55%，为了研究a粒子的辐射效应及其机理，辐射生物学家研制了各种各样的 a源照射装置，目前可分为通过加速器产生的a粒子和通过放射性源产生的a粒子等两种方式。前者的优点是可进行不同剂量、剂量率和LET照射，照射剂量准确，可控性好，但造价昂贵。后者造价便宜，对技术要求相对较低，但这种装置由于采用快门控制的剂量照射方式，很难达到我们对低剂量和低剂量率照射的要求。因此需要ー种能够对照射剂量进行准确控制的a粒子照射装置。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了弥补已有技术的不足，提供了ー种旋转可调a源照射装置， 解决了已有的a源照射装置，不能同时具有造价便宜，可进行不同剂量，剂量率和LET照射，照射剂量准确，可控性好等性能。本专利技术是通过以下技术方案来实现的ー种旋转可调a源照射装置，其特征在于包括有支架，所述支架上架设有回转平台，所述回转平台上设有多个样品培养皿，所述回转平台下方的支架上架设有可升降的 a源照射机构，所述回转平台由电机驱动。所述的样品培养皿为圆形，且均布在回转平台上。所述的可升降的a源照射机构包括有固定板，所述固定板上安装有a放射源，所述固定板下端固定安装有导杆，所述导杆的底端固定安装在螺母固定座上，所述螺母固定座的移动通过电机带动精密滚珠丝杠驱动。所述的固定板下方的支架上设置有定位板，所述定位板中部设有定位孔，所述定位孔中有所述导杆穿过。旋转可调a源照射装置在实验过程中将需要进行照射的物体放置在样品台的培养皿中，其原理是根据其所需要的辐射量的大小进行放射源高度，样品台转速以及粒子出口角度的调节；通过调节放射源高度，样品台转速，粒子出口角度等方式对细胞所受辐射的剂量进行调节。放射源的升降运动是通过底端的精密滚珠丝杠完成，最大调节量为137_， 位置精度为0. 05_。样品平台的由伺服电机带动减速器而实现的，因此可对平台的旋转速度进行精确调节。粒子出口处的狭缝模板可以替换，从而保证其出口角度可在I 7度之间进行变换。所述的样品台一次可放置多组样品，样品台通过伺服电机带动蜗轮蜗杆减速器的方式沿进行旋转，从而使样品依次通过α源的出口进行照射，通过调整伺服电机的转速从而可对样品单位时间内通过α源的照射次数进行调节。α源的照射出口处缝隙大小由专用模板控制，可以通过更换模板的方式对粒子的出口角度进行调节。因此，通过以上三种方式均可对对细胞所受辐射的剂量进行调节。本专利技术的优点是本专利技术设计合理，通过调节放射源高度，样品台转速，粒子出口角度等方式对细胞所受辐射的剂量进行调节，具有造价便宜，可进行不同剂量，剂量率和LET照射，照射剂量准确，可控性好等性能。附图说明图I为本专利技术主剖视图。图2为本专利技术俯视图。具体实施例方式参见附图，一种旋转可调α源照射装置，包括有支架1，支架I上架设有回转平台 2，回转平台2上设有多个样品培养皿3，回转平台2下方的支架I上架设有可升降的α源照射机构4，回转平台4由电机5驱动；所述的样品培养皿3为圆形，且均布在回转平台2 上；所述的可升降的α源照射机构4包括有固定板6，固定板6上安装有α放射源7，固定板6下端固定安装有导杆8,导杆8的底端固定安装在螺母固定座11上，螺母固定座11的移动通过电机带动精密滚珠丝杠9驱动；所述的固定板6下方的支架上设置有定位板10， 定位板10中部设有定位孔,所述定位孔中有导杆8穿过。权利要求1.一种旋转可调α源照射装置，其特征在于包括有支架，所述支架上架设有回转平台，所述回转平台上设有多个样品培养皿，所述回转平台下方的支架上架设有可升降的α 源照射机构，所述回转平台由电机驱动。2.根据权利要求I所述的一种旋转可调α源照射装置，其特征在于所述的样品培养皿为圆形，且均布在回转平台上。3.根据权利要求I所述的一种旋转可调α源照射装置，其特征在于所述的可升降的α源照射机构包括有固定板，所述固定板上安装有α放射源，所述固定板下端固定安装有导杆，所述导杆的底端固定安装在螺母固定座上，所述螺母固定座的移动通过电机带动精密滚珠丝杠驱动。4.根据权利要求I所述的一种旋转可调α源照射装置，其特征在于所述的固定板下方的支架上设置有定位板，所述定位板中部设有定位孔，所述定位孔中有所述导杆穿过。全文摘要本专利技术公开了一种旋转可调α源照射装置，其特征在于包括有支架，所述支架上架设有回转平台，所述回转平台上设有多个样品培养皿，所述回转平台下方的支架上架设有可升降的α源照射机构，所述回转平台由电机驱动。本专利技术设计合理，通过调节放射源高度，样品台转速，粒子出口角度等方式对细胞所受辐射的剂量进行调节，具有造价便宜，可进行不同剂量，剂量率和LET照射，照射剂量准确，可控性好等性能。文档编号C12M1/42GK102604829SQ20121006455公开日2012年7月25日 申请日期2012年3月13日 优先权日2012年3月13日专利技术者刘志宏, 吴杰锋, 商明明, 张怀斌, 薛延河, 陈建林 申请人:合肥聚能电物理高技术开发有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：吴杰锋，刘志宏，薛延河，陈建林，张怀斌，商明明，
申请(专利权)人：合肥聚能电物理高技术开发有限公司，
类型：发明
国别省市：
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