一种旋转可调α源照射装置制造方法及图纸

技术编号:8199476 阅读:190 留言:0更新日期:2013-01-10 16:23
本实用新型专利技术公开了一种旋转可调α源照射装置,其特征在于:包括有支架,所述支架上架设有回转平台,所述回转平台上设有多个样品培养皿,所述回转平台下方的支架上架设有可升降的α源照射机构,所述回转平台由电机驱动。本实用新型专利技术设计合理,通过调节放射源高度,样品台转速,粒子出口角度等方式对细胞所受辐射的剂量进行调节,具有造价便宜,可进行不同剂量,剂量率和LET照射,照射剂量准确,可控性好等性能。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种一种旋转可调α源照射装置,它用于研究粒子在细胞中的辐射效应以及其机理。
技术介绍
随着科技的发展,环境中低剂量、低剂量率辐射的危害性越来越受到人们的重视。按照D. Brenner的计算,人体所受到的氡气及其子代放射的α粒子的辐射占人体所受总环境辐射量的55%,为了研究α粒子的辐射效应及其机理,辐射生物学家研制了各种各样的α源照射装置,目前可分为通过加速器产生的α粒子和通过放射性源产生的α粒子等两种方式。前者的优点是可进行不同剂量、剂量率和LET照射,照射剂量准确,可控性好,但造价昂贵。后者造价便宜,对技术要求相对较低,但这种装置由于采用快门控制的剂量照射方式,很难达到我们对低剂量和低剂量率照射的要求。因此需要一种能够对照射剂量进行准确控制的α粒子照射装置。
技术实现思路
本技术的目的是为了弥补已有技术的不足,提供了一种旋转可调α源照射装置,解决了已有的α源照射装置,不能同时具有造价便宜,可进行不同剂量,剂量率和LET照射,照射剂量准确,可控性好等性能。本技术是通过以下技术方案来实现的一种旋转可调α源照射装置,其特征在于包括有支架,所述支架上架设有回转平台,所述回转平台上设有多本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种旋转可调α源照射装置,其特征在于:包括有支架,所述支架上架设有回转平台,所述回转平台上设有多个样品培养皿,所述回转平台下方的支架上架设有可升降的α源照射机构,所述回转平台由电机驱动。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:吴杰锋刘志宏薛延河陈建林张怀斌商明明
申请(专利权)人:合肥聚能电物理高技术开发有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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