蒸镀气体供给装置制造方法及图纸

技术编号:7602160 阅读:188 留言:0更新日期:2012-07-22 04:39
本发明专利技术公开蒸镀气体供给装置,该蒸镀气体供给装置在用于制造半导体元件或平板显示器的薄膜蒸镀工序时,在每个蒸镀工序能够供给均匀量的蒸镀气体。本发明专利技术的蒸镀气体供给装置(100),包括:蒸镀物质储藏部(200),用于储藏蒸镀物质;蒸镀物质蒸发部(300),用于对蒸镀物质加热而产生蒸镀气体;以及载气供给部(400),用于供给载气,该蒸镀气体供给装置还包括蒸镀物质供给部(500),该蒸镀物质供给部配置在蒸镀物质储藏部(200)和蒸镀物质蒸发部(300)之间,蒸镀物质供给部(500)在每个蒸镀工序,向蒸镀物质蒸发部(300)供给恒定量的蒸镀物质。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及均勻地供给蒸镀物质的蒸镀气体供给装置。更具体而言,涉及在用于制造半导体元件或平板显示器的薄膜蒸镀エ序时每个蒸镀エ序都能够供给均勻量的蒸镀气体的蒸镀气体供给装置。
技术介绍
在制造半导体元件或平板显示器吋,蒸镀多种薄膜。作为这种薄膜蒸镀方法,大体可以例举物理气相蒸镀法(PVD physical vapor deposition)和化学气相蒸镀法(CVD chemical vapor deposition;。化学气相蒸镀法是将作为蒸镀对象的物质以气体形态移动到基板表面上,并通过气体的反应在基板表面上蒸镀薄膜的方法,根据蒸镀物质的不同的选择,能够形成各种薄膜,具有通过较简单的エ序能够进行大量的作业处理的优点,因而得到广泛应用。
技术实现思路
技术问题在化学气相蒸镀法的情况下,蒸镀压カ直接受到从供给蒸镀物质的蒸镀气体供给装置供给的蒸镀气体的流量(即,蒸镀气体压力)的影响。即,在化学气相蒸镀法中,为了适当控制蒸镀压力,尤其需要正确调节蒸镀气体供给装置的蒸镀气体的压力。蒸镀气体的压カ调节在需要精密且一定地调节蒸镀速度时尤其重要。但是,在以往的蒸镀气体供给装置中,根据产生蒸镀气体的蒸镀物质蒸发部中所残留的蒸镀物质的量,蒸镀物质的蒸发量不同,因此不能够正确调节蒸镀气体的压力。此外,随着蒸镀物质被加热而重复挥发以及凝縮过程,在蒸镀物质的表面形成的凹凸形状及表面积持续变化,同吋,在蒸镀物质的表面产生的蒸镀气体的蒸发量发生变化,所以不能够正确调节蒸镀气体的压力。如上所示,若在不能够正确调节蒸镀气体的压カ的状态下执行蒸镀エ序,则存在形成在基板上的薄膜的重复性和合格率降低的问题。技术方案本专利技术是为了解决上述技术问题而做出的,其目的在干,提供ー种蒸镀气体供给装置,该蒸镀气体供给装置向蒸镀物质蒸发部供给均勻量的蒸镀物质,从而在每个蒸镀エ 序能够供给均勻量的蒸镀气体。此外,本专利技术的目的在干,提供ー种蒸镀气体供给装置,该蒸镀气体供给装置在执行完蒸镀エ序之后,将残留在蒸镀物质蒸发部的蒸镀物质排出到外部,从而在每个蒸镀エ 序能够供给均勻量的蒸镀气体。专利技术效果根据本专利技术,在薄膜蒸镀ェ序时每个蒸镀ェ序都能够供给均勻量的蒸镀气体,所以具有大幅提高薄膜蒸镀ェ序的重复性和合格率的效果。附图说明 100蒸镀气体供给装置200蒸镀物质储藏部210吹洗供气管220过滤部250蒸镀物质供给管260第二监视窗270冷却単元300蒸镀物质蒸发部310加热器312电源线314温度測定器400载气供给部410供气管420排气管500蒸镀物质供给部510主体520旋转供给台530充填部540隔离板550供给孔560第一传感器570第二传感器580逆流防止气体供给590飞散防止凸缘600 蒸镀物质排出部610 蒸镀物质支撑台620 翻转致动器622:第一空气压カ管624 第三传感器630 蒸镀物质保管筒640 第三监视窗642:透明窗650 闸阀652 闸主体654 闸660 气缸662 第二空气压カ管技术方案为了实现上述目的,本专利技术的蒸镀气体供给装置,其特征在干,包括蒸镀物质储藏部,储藏蒸镀物质;蒸镀物质蒸发部,对上述蒸镀物质加热而产生蒸镀气体;以及载气供给部,供给载气,该蒸镀气体供给装置还包括蒸镀物质供给部,该蒸镀物质供给部配置在上述蒸镀物质储藏部和上述蒸镀物质蒸发部之间,上述蒸镀物质供给部在每个蒸镀エ序,向上述蒸镀物质蒸发部供给规定量的上述蒸镀物质。该蒸镀气体供给装置还包括蒸镀物质排出部,该蒸镀物质排出部与上述蒸镀物质蒸发部连接而配置,上述蒸镀物质排出部在每个蒸镀エ序排出残留在上述蒸镀物质蒸发部中的上述蒸镀物质。该蒸镀气体供给装置还包括加热器,该加热器配置在上述蒸镀物质蒸发部的内侧。上述加热器还包括用于检测温度的温度检测器。上述蒸镀物质储藏部包括过滤部,该过滤部只使规定大小以下的上述蒸镀物质通Xlo上述蒸镀物质储藏部还包括第一监视窗,通过该第一监视窗能够观察储藏在内部的上述蒸镀物质。该蒸镀气体供给装置还包括第二监视窗,通过该第二监视窗能够观察从上述蒸镀物质储藏部向上述蒸镀物质供给部供给上述蒸镀物质。上述蒸镀物质供给部包括主体;旋转供给台,以能够旋转的方式设置在上述主体内部;充填部,形成在上述旋转供给台;隔离板,把上述主体内部上下划分;以及供给孔, 与上述充填部对应地形成在上述隔离板上,当在上述充填部中填充从外部供给的上述蒸镀物质,上述旋转供给台旋转任意角度而上述充填部位于上述供给孔的上部吋,填充在上述充填部中的上述蒸镀物质通过上述供给孔落下而被供给到上述蒸镀物质蒸发部。还能够包括第一传感器,该第一传感器用于检测上述旋转供给台是否旋转。还能够包括第二传感器,该第二传感器检测上述蒸镀物质是否落下。还能够包括逆流防止气体供给部,该逆流防止气体供给部用于防止蒸镀气体从上6述蒸镀物质蒸发部向上述蒸镀物质供给部回流。上述蒸镀物质通过蒸镀物质供给管供给到上述充填部,上述供给孔能够形成为, 与上述蒸镀物质供给管之间具有任意的角度距离。上述蒸镀物质排出部包括蒸镀物质支撑台,以能够上下翻转的方式设置在上述蒸镀物质蒸发部的内部;翻转致动器,连接到上述蒸镀物质支撑台的一端;以及蒸镀物质保管筒,用于保管从上述蒸镀物质蒸发部排出的上述蒸镀物质,通过上述翻转致动器的动作,上述蒸镀物质支撑台翻转,从而能够将上述蒸镀物质支撑台上的上述蒸镀物质移动到上述蒸镀物质保管筒。还能够包括管形状的加热器连接轴,该加热器连接轴形成在上述蒸镀物质支撑台,在该加热器连接轴的内侧插入上述加热器,上述加热器连接轴配置成与上述翻转致动器的旋转轴同轴。还能够包括第三传感器,该第三传感器用于检测上述翻转致动器是否旋转。还能够包括闸阀,与上述蒸镀物质支撑台联动地进行开闭;以及气压气缸,连接到上述间阀,在上述蒸镀物质支撑台翻转时,上述气压气缸开放上述间阀来排出上述蒸镀物质。上述蒸镀物质保管筒还能够包括第三监视窗,该第三监视窗用于确认上述蒸镀物质排出。上述蒸镀物质蒸发部还能够包括分散部,该分散部使上述蒸镀物质均勻地分散。上述蒸镀物质蒸发部还包括配置在内侧的导热部,通过上述导热部,上述加热器的热能够传导到上述蒸镀物质蒸发部的中心部。具体实施例方式后述的对本专利技术的详细说明是能够实施本专利技术的特定实施例的例子,參照所图示的附图。为了使得本领域的技术人员足以实施本专利技术,对这些实施例进行详细说明。本专利技术的多种实施例相互不同,但是应理解为没必要相互排斥。例如,在此记载的一个实施例的特定形状、结构及特性,只要不脱离本专利技术的精神及范围就能够通过其他实施例来实现。此外,各个公开的实施例内的个别构成要素的位置或配置只要不脱离本专利技术的精神及范围, 就能够做出变更。因此,后述的详细说明并不意图限定本专利技术,适当地讲,本专利技术的范围只由与其权利要求所主张的范围均等的所有范围以及所附的权利要求限定。图中类似的參照标记表示在多方面相同或类似的功能,长度、面积和厚度等以及形态为了便于说明,也可以夸张表现。下面,为了使得在本专利技术所属的
中具有一般知识的技术人员容易实施本专利技术,參照附图,对本专利技术的优选实施例进行详细说明。图1是示出本专利技术的一实施例的蒸镀气体供给装置100的结构的图。首先,參照图1,本专利技术的蒸镀气体供给装置100包括蒸镀物质储本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:李炳一朴暻完康浩荣金彻镐宋钟镐
申请(专利权)人:泰拉半导体株式会社
类型:发明
国别省市:

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