单晶及其制造方法、以及光隔离器及使用其的光加工器技术

本发明专利技术提供一种光隔离器用单晶及其制造方法、以及光隔离器及使用其的光加工器，该光隔离器用单晶在波长1064nm以上的波长区域或低于1064nm的波长区域内，具备超过TGG单晶的法拉第旋转角，且能够实现大型化。本发明专利技术涉及的单晶的特征在于，由铽铝石榴石单晶构成，主要是铝的一部分被镥取代。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种作为法拉第旋转器(Faraday rotator)优选的单晶及其制造方法、以及光隔离器及使用其的光加工器。
技术介绍
一直以来，光隔离器被用于光通信，而近年来随着光加工器的发展，光加工器也开始需要光隔离器。此时，要求对应的波长主要是Nd:YAG激光的波长1064nm。近年来，作为适用于该波长的材料，一直对铽镓石榴石(TGG = Tb3Gii5O12)单晶进行开发并已实用化(非专利文献1)。但是，由于TGG中作为原料成分的氧化镓蒸发剧烈，所以结晶难以大型化，这成为了其成本无法降低的原因。因此，期望开发出具有比TGG更大的法拉第旋转角(费尔德 (Verdet)常数)且能够以低成本进行生产的材料(非专利文献1)。为了解决上述TGG的课题，一直在进行关于铽铝系石榴石(TAG = Tb3Al5O12)单晶培育的开发。作为TAG的培育法，已知基于熔液生长法(LPE法)的制造方法，其中，所述熔液生长法是将衬底晶体置于过冷状态的坩埚内熔液，在其表面使晶体以膜状进行生长的方法 (非专利文献2)。另外，也有关于铽钪铝石榴石(TSAG = TbJc2Al3O12)单晶培育的研究，也有报本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：真田和夫，岛村清史，比略拉·恩卡纳西翁·安东尼亚·加西亚，
申请(专利权)人：株式会社藤仓，独立行政法人物质·材料研究机构，
类型：发明
国别省市：