曝光装置、曝光方法以及设备制造方法制造方法及图纸

基于使用测量系统测量的晶片载台(WST1)的位置信息和晶片载台(WST1)的倾斜信息驱动晶片载台(WST1)。这允许高精度地驱动晶片载台(WST1)，其中当晶片载台(WST1)倾斜时对晶片载台的影响减小。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及，更详细而言，涉及经由光学系统通过能量束而将物体曝光的曝光装置及曝光方法，以及使用该曝光装置或曝光方法的设备制造方法。
技术介绍
传统上，在用于制造诸如半导体设备(集成电路等)或液晶显示器元件的电子设备(微型设备)的光刻工艺中，主要使用诸如利用步进和反复方法的投影曝光装置(所谓的步进机)，或者利用步进和扫描方法的投影曝光装置(所谓的扫描步进机(还被称为扫描仪))的曝光装置。在这些类型的曝光装置中，通常使用激光干涉仪来测量移动的晶片载台的位置， 该晶片载台固持在其上转印并且形成图案的诸如晶片或玻璃板的基板(以下统称为晶片)。然而，由于近来图案随着半导体设备的更高集成而更细微，造成对更高精度的晶片载台的位置控制性能的需要增加，并且作为结果，不再能够忽视由于激光干涉仪的光路上的环境气体的温度波动和/或温度梯度的影响而造成的测量值的短期变化。为了改进这种不便，已提出涉及曝光装置的各种专利技术，这些专利技术使用具有与激光干涉仪同一水平或更好的测量分辨率的编码器，作为晶片载台的位置测量设备(例如参照专利文献1)。然而，在专利文献1等中公开的浸液曝光装置中，仍然存在有待改进的问题， 诸如当受到液体蒸发时的气化热等的影响时晶片载台(安装在晶片载台上表面上的光栅) 变形的威胁。为了改进这种不便，例如在专利文献2中，作为第五实施例，公开了一种曝光装置，其配备有编码器系统，该编码器系统具有布置在由光透射部件所构成的晶片载台的上表面上的光栅，并且通过使测量束从设置在晶片载台下方的编码器主体进入晶片载台并照射在光栅上，并且通过接收在光栅中出现的衍射光，来测量晶片载台相对于光栅的周期方向的移位。在该装置中，由于利用玻璃盖覆盖光栅，因此光栅不易受到气化热的影响，这使得可以高精度地测量晶片载台的位置。然而，难于使用在涉及专利文献2的第五实施例的曝光装置中采用的编码器主体的设置，因为载台设备是具有所谓粗/微动结构的载台设备，该粗/微动结构是在平台上移动的粗动载台和固持晶片并且在粗动载台上相对于粗动载台相对移动的微动载台的组合， 并且在测量微动载台的位置信息的情况下，粗动载台位于微动载台与平台之间。此外，尽管在对晶片载台上的晶片进行曝光时，期望测量与晶片表面上的曝光点同一二维平面内的晶片载台的位置信息，但是在晶片载台相对于二维平面倾斜的情况下， 在例如从下方测量晶片载台的位置的编码器的测量值中，将包括因晶片表面与光栅设置表面的高度差引起的测量误差。引用列表专利文献美国专利申请公布第2008/0088843号美国专利申请公布第2008/0094594号
技术实现思路
根据本专利技术的第一方面，提供了第一曝光装置，其经由被第一支撑部件支撑的光学系统利用能量束将物体曝光，该装置包括可移动体，其固持该物体并且可沿预定平面移动；引导表面形成部件，其形成可移动体沿预定平面移动时使用的引导表面；第二支撑部件，其经由引导表面形成部件与引导表面形成部件分开设置在光学系统的相对侧，并且其与第一支撑部件的位置关系维持在预定状态；位置测量系统，其包括第一测量部件，该第一测量部件使用测量束照射与预定平面平行的测量表面并且从该测量表面接收光，并且基于第一测量部件的输出获得可移动体在预定平面内的位置信息，该测量表面布置在可移动体和第二支撑部件中的一个处并且第一测量部件的至少一部分布置在可移动体和第二支撑部件中的另一个处；以及倾斜测量系统，其获得可移动体相对于预定平面的倾斜信息。根据该装置，由位置测量系统获得可移动体在预定平面内的位置信息，并且由倾斜测量系统获得可移动体相对于预定平面的倾斜信息。因此，可考虑可移动体倾斜造成的位置误差而精确地驱动可移动体。在该情况下，引导表面用于在与预定平面正交的方向上引导可移动体，并且可以是接触型或非接触型。例如，非接触型引导方法包括使用诸如气垫的气体静压轴承的配置、使用磁浮的配置等。此外，引导表面不限于遵循引导表面的形状而引导可移动体的配置。例如，在使用诸如气垫的气体静压轴承的配置中，引导表面形成部件的与可移动体相对的相对表面被磨光以便具有高平面度，并且可移动体经由预定间隙以非接触方式引导以便遵循相对表面的形状。另一方面，在其中使用电磁力的马达等的一部分设置在引导表面形成部件处，马达等的一部分还设置在可移动体处，并且协同操作的引导表面形成部件和可移动体生成在与上述预定平面正交的方向上作用的力的配置中，通过预定平面上的力控制可移动体的位置。例如，还包括如下配置其中在引导表面形成部件处布置平面马达，并且在可移动体上生成包括预定平面内的彼此正交的两个方向和与预定平面正交的方向的方向上的力，并且在不布置气体静压轴承的情况下，使可移动体以非接触方式浮起。根据本专利技术的第二方面，提供了第二曝光装置，其经由被第一支撑部件支撑的光学系统利用能量束将物体曝光，该装置包括可移动体，其固持该物体并且可沿预定平面移动；第二支撑部件，其与第一支撑部件的位置关维持在预定状态；可移动体支撑部件，其设置在光学系统和第二支撑部件之间以便与第二支撑部件分开，当可移动体沿预定平面移动时，第二支撑部件在可移动体的与第二支撑部件的纵向方向正交的方向上的至少两个点处支撑可移动体；位置测量系统，其包括第一测量部件，该第一测量部件利用测量束照射与预定平面平行的测量表面并且接收来自测量表面的光，并且该位置测量系统基于第一测量部件的输出获得可移动体在预定平面内的位置信息，测量表面被布置在可移动体和第二支撑部件中的一个处并且第一测量部件的至少一部分布置在可移动体和第二支撑部件中的另一个处；以及倾斜测量系统，其获得可移动体相对于预定平面的倾斜信息。根据该装置，由位置测量系统获得可移动体在预定平面内的位置信息，并且由倾斜测量系统获得可移动体相对于预定平面的倾斜信息。因此，可考虑可移动体的倾斜造成的位置误差而精确地驱动可移动体。在该情况下，可移动体支撑部件在可移动体的与第二支撑部件的纵向方向正交的方向上的至少两个点处支撑可移动体，这意味着在与第二支撑部件的纵向方向正交的方向上在如下位置支撑可移动体，例如仅在两端处或者在两端和与二维平面正交的方向上的中间部分处，在与第二支撑部件的纵向方向正交的方向上的排除中心和两端的部分处，在与第二支撑部件的纵向方向正交的方向上的包括两端的整个部分等。在该情况下，支撑的方法除了接触支撑外，还广泛包括经由诸如气垫的气体静压轴承的支撑或者磁浮等的非接触支撑。本专利技术的第三方面提供了一种设备制造方法，其包括利用本专利技术的曝光装置将物体曝光；及将曝光的物体显影。本专利技术的第四方面提供了一种曝光方法，其中经由被第一支撑部件支撑的光学系统利用能量束将物体曝光，该方法包括基于第一测量部件的输出，获得可移动体至少在预定平面内的位置信息，第一测量部件在设置在可移动体和第二支撑部件中的一个上并且与预定平面平行的测量表面上照射测量束，并且接收来自测量平面的光，第一测量部件的至少一部分设置在可移动体和第二支撑部件中的另一个处，可移动体固持物体并且可沿预定平面移动，第二支撑部件通过其与光学系统之间的引导表面形成部件与引导表面形成部件分开设置在光学系统的相对侧并且其与第一支撑部件的位置关维持在预定状态，引导表面形成部件形成可移动体沿预定平面移动时的引导表面；以及基于可移动体在预定平面内本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：一之濑刚，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：