一种高透明聚酯薄膜及其制备方法技术

技术编号:7452527 阅读:154 留言:0更新日期:2012-06-22 15:17
本发明专利技术涉及一种聚酯薄膜及其制备方法,尤其是一种高光透过率、低雾度的高透明聚酯薄膜及其制备方法。为了解决现有技术中在整个聚酯薄膜中添加抗粘连粒子降低薄膜的光学性能的问题,本发明专利技术提供了一种高透明聚酯薄膜,该聚酯薄膜包括聚酯薄膜基材和抗粘连粒子,所述聚酯薄膜基材的厚度为12-250μm,所述抗粘连粒子通过水性树脂粘结在所述聚酯薄膜基材的表面;本发明专利技术提供的高透明聚酯薄膜具有良好的光学性能,其透光率为85-95%,雾度为0.5-1.8%,可用作光学薄膜,广泛应用于液晶显示设备。本发明专利技术还提供了一种高透明聚酯薄膜的制备方法,该制备方法工艺简单,易于操作。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种聚酯薄膜及其制备方法,尤其是一种高光透过率、低雾度的高透明聚酯薄膜及其制备方法
技术介绍
双向拉伸聚酯薄膜具有诸多优良特性机械强度高、光学性能优良、电绝缘性能佳、阻隔性能好、使用温度范围宽(_70°C -200°C )、耐化学腐蚀性及尺寸稳定性良好等,因此广泛应用于包装、电子电力以及照相、磁性产品等领域。近年来由于液晶显示方面的发展,聚酯薄膜在光学领域方面也有重要应用。从目前液晶显示面板的结构来看,有至少一半以上的液晶显示组件使用的是聚酯膜片。聚酯薄膜在光学应用方面比起包装或电子电力方面的应用有更高的要求,除了机械强度、热稳定性等方面,还要求更优异的光学性能。比如用于液晶显示面板里的扩散膜和增亮膜方面,要求作为基膜的聚酯薄膜的光透过率达到90%以上,用作液晶显示保护膜用的基膜甚至要求达到94%以上。除了高的光透过率,还要求低的雾度,有些光学用基膜要求雾度达到1 %以内。目前普通包装用的聚酯基膜一般光透过率为85 %左右,雾度为3 %左右,这样的光学性能很难达到光学应用的要求。影响薄膜光学性能的因素,除了聚酯原料本身外,还跟制膜配方和工艺有关。在普通的聚酯薄膜生产中,为了适应可加工性的要求,聚酯表层必须含有少量的微细固体粒子, 以起到薄膜收放卷的抗粘连作用。一般这样的无机粒子为二氧化硅、磷酸钙、高岭土等,粒子直径一般在1-6 μ m之间。传统的做法是先将无机微粒添加到聚酯原料中做成母料切片, 然后通过母料添加的方式将无机粒子添加到整个薄膜(单层挤出)或薄膜表层(ABA三层共挤中的A层)中。如图1所示,现有聚酯薄膜包括聚酯薄膜基材1和添加在整个薄膜中的无机抗粘连粒子2。这些无机粒子的添加虽然解决了膜表面的抗粘连性问题,但不可避免地降低了薄膜的光学性能。一方面,无机粒子阻止部分光线使得光透过率降低;另一方面, 这些微粒会使部分光线偏离原来的方向使得雾度提高。虽然可以通过减少无机粒子的添加量来改善光学性能,但其效果并不理想,而且会明显降低薄膜的加工性能。虽然采用ABA三层结构使得中间层可以不用添加无机微粒,从而一定程度上减缓光学性能的下降,但其效果往往不是很明显(实际上使用三层共挤的目的主要还是为了减少母料的用量而降低材料成本)。按目前国内的聚酯原料和绝大多数的生产线和工艺水平很难生产出高要求的光学级聚酯薄膜,现阶段国内所使用的光学级聚酯基膜几乎全部从国外进口。国外生产光学级聚酯薄膜的厂家主要集中在日本和韩国,这些厂家无论是在原料上还是在工艺上都各自进行严格地保密。国内厂商要生产出高品质的光学级聚酯薄膜,需要在原料和工艺上有所突破。
技术实现思路
4本专利技术所要解决的技术问题是在整个聚酯薄膜中添加抗粘连粒子降低了薄膜的光学性能(透明度降低及雾度提高)。为了解决上述技术问题,本专利技术提供一种高透明聚酯薄膜,本专利技术采用在线涂布技术将抗粘连粒子粘结在聚酯薄膜基材表面。一方面,表面粒子的存在达到了薄膜抗粘连效果,而且粒子粒径可以比添加型的更微小、抗粘连效果更为明显;另一方面,由于抗粘连粒子仅粘结在膜表面,尽可能低地减少了抗粘连粒子对基膜光学性能的影响。为了达到上述目的,本专利技术采用下述技术方案第1项,本专利技术提供一种高透明聚酯薄膜,它的特点是,所述聚酯薄膜包括聚酯薄膜基材和抗粘连粒子,所述聚酯薄膜基材的厚度为12-250 μ m,所述抗粘连粒子通过水性树脂粘结在所述聚酯薄膜基材的表面。所述聚酯薄膜的透光率为85-95%,雾度为 0. 5-1. 8%。所述水性树脂干燥后粘附在所述聚酯薄膜基材的表面,水性树脂的作用是将抗粘连粒子粘结在所述聚酯薄膜基材的表面;粘附在聚酯薄膜基材表面的水性树脂可以是连续的,也可以是不连续的。连续的水性树脂可以形成水性树脂粘结层。第2项,本专利技术提供一种如技术方案1所述的高透明聚酯薄膜,它的特点是,所述聚酯薄膜基材的厚度为12-72 μ m。第3项,本专利技术提供一种如技术方案1所述的高透明聚酯薄膜,它的特点是,所述聚酯薄膜基材的厚度为50-250 μ m。第4项,本专利技术提供一种如技术方案1所述的高透明聚酯薄膜,它的特点是,聚酯薄膜基材原料包括聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)或其共聚改性聚酯,优选为PET或PEN。所述聚酯原料的特性粘度值为 0. 55-0. 70dl/g,玻璃化转变温度一般要求大于65°C,最好大于70°C,熔点一般要求大于 250°C,最好大于260°C,其他性能指标符合国家相关标准。所述抗粘连粒子为无机粒子,通过水性树脂粘结在聚酯薄膜基材表面。第5项,本专利技术提供一种如技术方案4所述的高透明聚酯薄膜,它的特点是,所述抗粘连粒子为二氧化硅颗粒,所述水性树脂包括水溶性聚丙烯酸酯、水溶性聚氨酯或水溶性磺化聚酯。第6项,本专利技术提供一种如技术方案1至5之一所述的高透明聚酯薄膜,它的特点是,所述水性树脂和抗粘连粒子在粘结在所述聚酯薄膜基材表面之前,先配制成涂布液,通过涂布技术涂布到所述聚酯薄膜基材表面,干燥后,抗粘连粒子通过水性树脂粘结在所述聚酯薄膜基材表面;所述涂布液的组成如下(下述百分含量为重量百分含量)水性树脂0.9-8%胶体硅0. 1-2%其余为纯净水;所述水性树脂是指树脂水溶液中的固体有效成分;所述胶体硅是指胶体硅水溶液中的固体有效成分。第7项,本专利技术提供一种如技术方案6所述的高透明聚酯薄膜,它的特点是,所述涂布液的组成如下(下述百分含量为重量百分含量)水性树脂2.5-6%胶体硅0.5-1.6%其余为纯净水;所述水性树脂是指树脂水溶液中的固体有效成分;所述胶体硅是指胶体硅水溶液中的固体有效成分;所述聚酯薄膜基材厚度优选为100-250 μ m。第8项,本专利技术提供一种高透明聚酯薄膜的制备方法,它的特点是,所述聚酯薄膜厚度为12-250 μ m,包括聚酯薄膜基材,所述聚酯薄膜基材外表面通过水性树脂粘结有抗粘连粒子或颗粒,所述聚酯薄膜制备方法如下所述聚酯薄膜基材采用双向拉伸工艺制备,所述双向拉伸工艺包括原料干燥,熔融挤出,铸片,纵向拉伸,横向拉伸,热定型,冷却,牵引, 收卷工序;在所述纵向拉伸和横向拉伸工序之间增加了涂布工序,在所述纵向拉伸工序完成之后,在所述涂布工序中,将含有所述水性树脂和抗粘连粒子的涂布液涂布到聚酯薄膜基材表面,所述涂布液的组成如下(下述百分含量为重量百分含量)水性树脂 0.9-8%胶体硅0. 1-2%其余为纯净水;所述水性树脂是指树脂水溶液中的固体有效成分;所述胶体硅是指胶体硅水溶液中的固体有效成分;所述涂布液在横向拉伸的预热段完成干燥。第9项,本专利技术提供一种如技术方案8所述的高透明聚酯薄膜的制备方法,它的特点是,所述涂布液的组成如下(下述百分含量为重量百分含量)水性树脂 2.5-6%胶体硅0.5-1.6%其余为纯净水;所述水性树脂是指树脂水溶液中的固体有效成分;所述胶体硅是指胶体硅水溶液中的固体有效成分;所述聚酯薄膜基材厚度优选为12-150 μ m。第10项,本专利技术提供一种如技术方案1所述的高透明聚酯薄膜,它的特点是,所述聚酯薄膜厚度为12-72 μ m,所述涂布工序中采用的涂布方式为凹版涂布或棒式涂布。第11项,本专利技术提供一种如技术方案1所述的高透明聚酯薄膜,它的特点是,所述聚酯薄本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:不公告发明人
申请(专利权)人:宁波长阳科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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