【技术实现步骤摘要】
一种脉冲阴极弧放电电极
本技术涉及放电电极
，特别是涉及一种脉冲阴极弧放电电极。技术背景脉冲阴极弧光放电是发生在真空室中两金属电极间的一种低电压、高电流的等离子体放电现象。当在阴阳两极间施加一定的直流电压，并对阴极靶进行触发时，阴极靶就会被激发起弧，阴阳两极间将产生强大的阴极弧电流。在阴极，弧电流点高度集中在靶表面少数点状区域，这些点状区域被称为阴极斑点。在阴极斑点处产生离子云对阴极表面产生拽拉效应的强电场，从阴极斑点处产生的金属蒸汽流被高速电子流离化，由阴极斑点产生的等离子体流可用于固定位置的基底表面的沉积镀膜。该种镀膜方法，具有高沉积速率、高离化率、膜基附着力强，可镀材料广泛等优点。现有的文献中，对于脉冲离子镀阳极的设计都没有做出详细的描述，并且在镀膜系统中需要另外设计基底的固定器，在实验中需要改变靶基距时，操作繁琐。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是提供一种既可以方便取放样品基底固定器，又能灵活的改变阴极靶材和基底距离的脉冲阴极弧放电电极。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是提供一种脉冲阴极弧放电电极，包括固定底座、导电棒、导电圆盘和...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：杨伟平，施芸城，程丹丹，解艳凤，宗泽源，
申请(专利权)人：东华大学，
类型：实用新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。