洁净防静电的存储柜制造技术

本实用新型专利技术公开了一种洁净防静电的存储柜，包括柜体，其特征在于，所述的柜体内设置有除湿机和过滤网；所述的过滤网设置于所存储的物品与除湿机之间。本实用新型专利技术中的洁净防静电的存储柜，利用过滤网可过滤灰尘等杂物，防止灰尘污染玻璃基片。利用除湿机可降低存储柜内的湿度，提高干燥程度。离子发生器产生的离子可有助于防止静电产生。除湿机除湿过程中所吹出的气体，可将离子发生器产生的离子吹向存储柜内的各个位置，有助于提高除静电效果。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种洁净防静电的存储柜。
技术介绍
在光学元件制造行业中，包括玻璃深加工与玻璃镀膜，都会涉及到光学元器件的存储。由于玻璃制品的光学元件基本上都怕潮，通常的做法是将光学元器件存放在干燥柜中。目前有用干燥剂干燥的柜子，也有用电子设备除湿的干燥柜。这些干燥柜只考虑了湿度的因素，没有涉及到洁净指标，所以在过程加工中的光学元件不能存放在干燥柜中，因此这些干燥柜只能存放原材料或最终的成品。但在实际光学元件加工中，过程的中转是既需要洁净，又需要干燥的。现有技术中的带洁净功能的电子干燥柜，但由于其结构复杂，成本很高，不适于生产过程中周转使用。在光学镀膜前道工序中，涉及到玻璃基片的清洗、擦拭等工序，清洗或擦拭完后的洁净基片需要存放到洁净空间等待下一道工序，也就是镀膜。通常的做法是将洁净的基片存放于100级超净工作台中。但超净工作台是不带干燥功能的，玻璃基片存放几个小时后就因为受潮不能镀膜了。所以存放于超净工作台中的洁净基片需要在很短时间内转移到下一道镀膜工序，从某种意义上来说，清洗或擦拭过的玻璃基片最好是即时地流入下一道工序。这将影响生产的安排和生产成本。因为没有足够的清洗或擦拭能力时，将会造成镀膜机器等待基片，有较多的闲置时间，造成有效产出时间降低。如果有配备足够大的清洗或擦拭能力时，又造成清洗或擦拭时间的闲置，因为镀膜往往需要较长一段时间，而在这段时间内不需要基片，所以这是一个矛盾。为解决这一矛盾，需要基片有一个缓冲时间，也就是说如果能把清洗干净的基片存放于洁净干燥的存储装置内，在需要镀膜的时候，直接又能提供。因此，提供一种既能够保持洁净，又能保持干燥的存储柜，是本领域内急需解决的技术问题。
技术实现思路
本技术的目的是为了克服现有技术中的不足，提供一种既能保持洁净，又能保持干燥的洁净防静电的存储柜。为实现以上目的，本技术通过以下技术方案实现洁净防静电的存储柜，包括柜体，其特征在于，所述的柜体内设置有除湿机和过滤网；所述的过滤网设置于所存储的物品与除湿机之间。优选地是，所述的柜体内设置有离子发生器。优选地是，所述的离子发生器设置于除湿机吹出的风的路线上。优选地是，所述的柜体内设置有两层以上的平行排列的隔板。本技术中的洁净防静电的存储柜，利用过滤网可过滤灰尘等杂物，防止灰尘污染玻璃基片。利用除湿机可降低存储柜内的湿度，提高干燥程度。离子发生器产生的离子可有助于防止静电产生。除湿机除湿过程中所吹出的气体，可将离子发生器产生的离子吹向存储柜内的各个位置，有助于提高除静电效果。附图说明图1为本技术中剖视图。具体实施方式以下结合附图对本技术进行详细的描述如图1所示，洁净防静电的存储柜，包括柜体1，柜体1为长方体结构，设置有内腔， 用于存储玻璃基片2等物体。柜体1内设置有6层隔板3。每层隔板3上都可放置玻璃基片2。柜体1内设置有除湿机4，除湿机4具有出气管41。空气经除湿机4干燥处理后， 从出气管41吹出。出气管41朝上开口，将干燥处理后的空气向上吹出。柜体1内设置有过滤网5。过滤网5设置于玻璃基片2与除湿机4之间。经干燥处理后的空气穿过过滤网5，吹向玻璃基片2。这样设置可防止除湿机4将灰尘吹至玻璃基片2上。柜体1内设置有离子发生器6。离子发生器6设置于除湿机4吹出的风的路线上。 除湿机4吹出的干燥空气可将离子发生器6产生的离子吹向柜体1内的各个位置。本技术中的实施例仅用于对本技术进行说明，并不构成对权利要求范围的限制，本领域内技术人员可以想到的其他实质上等同的替代，均在本技术保护范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.洁净防静电的存储柜，包括柜体，其特征在于，所述的柜体内设置有除湿机和过滤网；所述的过滤网设置于所存储的物品与除湿机之间。2.根据权利要求1所述的洁净防静电的存储柜，其特征在于，所述的柜体内设置有离子发生...

【专利技术属性】
技术研发人员：汤兆胜，罗新华，
申请(专利权)人：上海兆九光电技术有限公司，
类型：实用新型
国别省市：