胶体(砂轮)磨制造技术

技术编号:741908 阅读:141 留言:1更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术属于化学工程学精细化工设备。它是由日本T.K.K公司生产的胶体(砂轮)磨改进而成,在原胶体磨的下磨盘(5)增加了一个分散盘(1),提高了转速,改变了轴的联接方式,降低了原设备高度,提高了分散效率和使分散相的内相粒径分散得更细,比原设备便于操作。(*该技术在1997年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种主要用于液-液相和固-液相胶体物料的分散的改进胶体(砂轮)磨,其特征是在原胶体磨的下磨盘(5)下安装一个分散盘(1),砂轮的转速为4000-5000转/分,砂轮轴(7)与电机轴(8)通过高速环型皮带(2)联接。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:戴自梁赵作家陈琪
申请(专利权)人:中国科学院感光化学研究所
类型:实用新型
国别省市:11[中国|北京]

网友询问留言 已有1条评论
  • 来自[美国加利福尼亚州圣克拉拉县山景市谷歌公司] 2015年01月14日 00:24
    胶体(英语:Colloid)又称胶状分散体(colloidaldispersion)是一种均匀混合物,在胶体中含有两种不同状态的物质,一种分散,另一种连续。分散的一部分是由微小的粒子或液滴所组成,分散质粒子直径在1nm—100nm之间的分散系;胶体是一种分散质粒子直径介于粗分散体系和溶液之间的一类分散体系,这是一种高度分散的多相不均匀体系。
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