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本实用新型属于化学工程学精细化工设备。它是由日本Ｔ．Ｋ．Ｋ公司生产的胶体（砂轮）磨改进而成，在原胶体磨的下磨盘（５）增加了一个分散盘（１），提高了转速，改变了轴的联接方式，降低了原设备高度，提高了分散效率和使分散相的内相粒径分散得更细，比原...
该专利属于中国科学院感光化学研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院感光化学研究所授权不得商用。

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