一种具有点矩阵光栅结构的电镀制品的制法，其包含：在一基材表面成形一光致抗蚀剂层；以点矩阵光刻手段将具有全像效果的图案移转至该光致抗蚀剂层，显影后使留在该基材上的光致抗蚀剂具有全像效果的点矩阵光栅结构；在基材与光致抗蚀剂形成一导电薄膜而为一电镀基材；将该电镀基材以电镀手段令表面形成一电镀体后取出；从该电镀基材上剥离该电镀体，该电镀制品的表面形成对应于电镀基材的表面具有点矩阵光栅结构；通过其上光栅结构产生光学上的干涉效应，人眼即可看出电镀制品的表面呈现不同图案与色彩。
【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：黄自筑，黄诗韵，许晋诚，
申请(专利权)人：慧芳股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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