光学透镜装置、投影系统及成像设备制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种光学透镜装置，包括允许光线透过的中央区域和周边区域，一个透镜阵列形成在所述中央区域，所述周边区域具有光滑表面。采用本实用新型专利技术的光学透镜装置，通过较小孔径的投影透镜就能实现较高的光效率，容易制造且成本低。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及光学成像设备，特别是涉及一种光学透镜装置、投影系统及成像设备。
技术介绍
投影仪也称投影机，是通过光学组件以精确的放大倍率将物像放大投影在投影屏上以供观察的设备。在投影系统中，常将透镜阵列作为用于使光束形状均勻化或整形的光集成器使用。透镜的集光率E表征播发的光的面积和角度，简单定义为折射率η、立体角 Ω和面积六的函数，(^ = 112(^2(^。在投影系统中，光源越大通常意味着集光率E越大，这需要越大孔径的投射透镜。图1和图2展示了传统投影系统在使用不同孔径的投影透镜的光传播效果，如图1、2所示，由光源11射出的光线依次经照明光学系统12、图像发生器 13、投影镜头14后，在投射到屏幕15上。其中，图1表示在投影系统使用了较大孔径的投影透镜，对应较大的集光率，图2表示在投影系统使用较小孔径的投影透镜，对应较小的集光率。通常，在透镜阵列前的光束成整面分布，出透镜阵列后的光束成分块分布，在透镜阵列出口端，与在透镜阵列入口端相比，需要在更大的区域上收集光才能获得同样的能量，这就意味需要采用更大的孔径投影透镜在透镜阵列出口端收集光能量。但是，大孔径的投影透镜通常难以设计和制造，成本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：汤伟平，
申请(专利权)人：香港应用科技研究院有限公司，
类型：实用新型
国别省市：