液晶曝光装置制造方法及图纸

在曝光装置中将基板接触支撑于卡盘这一方法，有可能会因附着于基板的尘埃而发生仿照基板保持形状的“里面转印”，或者因基板与卡盘的接触顺序等而在基板上发生皱折等使平坦度受损，发生曝光不良。为此，设置在卡盘上利用空气力使基板进行浮起的部件，通过以非接触方式保持基板，就能够防止有可能因接触状态而发生的平坦度的损害和皱折的发生，将曝光图案在基板上高精度地进行曝光。另外，通过设置恒温(定温)部件，就能够防止使其浮起的基板的温度变化(上升)，所以不会有基板的浮起曝光所导致的逊色。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及曝光装置。例如涉及液晶显示用面板的制造装置、尤其是将掩模上所描绘的图案在玻璃基板上进行曝光的液晶曝光装置。
技术介绍
作为显示用面板所使用的液晶显示器装置的TFT(Thin Film Transistor)基板及滤色片基板、等离子体显示器面板用基板以及有机EUElectroluminescence)显示面板用基板等，利用曝光装置通过光刻蚀技术在基板上形成图案来进行制造。一般而言，曝光装置具备将基板真空吸附进行保持的卡盘，并向卡盘上所保持的基板表面照射透过光掩模的光来进行曝光。在卡盘中以往就有基板保持面平坦和在基板保持面设置多个销形状的凸部这两者。后者借助于由销形状的凸部用多个点支撑基板，并通过将销形状的凸部以外的部分与基板的空间进行真空吸引而将基板真空吸附进行保持。在这种卡盘中，为了使大型基板均等地进行真空吸附，将销形状的凸部以外的部分与基板的空间分成多个真空区域来进行真空吸引。因此，在基板保持面上设置有用于形成多个真空区域的提坝部(线条)。在如玻璃基板等那样光透过的基板中，曝光时透过基板的光在卡盘进行反射，再次透过基板并到达基板的表面，由此将会发生卡盘的表面形状等在基板的表面显像这一现象。此现象被称之为“里面转印”。在以往的基板保持面平坦的卡盘中，基板里面的污渍堆积于卡盘并因该污渍而发生里面转印。相对于此，在基板保持面设置了销形状的凸部的卡盘中，较少发生污渍堆积所导致的里面转印。但是，若真空区域的吸附力太强，仿照基板保持面的形状的“里面转印”之类的现象将会发生，为此人们还提出将吸附力按两阶段进行切换的方案。具体而言就是，最初用较强的吸附力很快将基板保持在卡盘上，接着，为了避免“里面转印”而用较弱的吸附力保持基板以减小基板的变形来进行曝光。这里，为了将吸附力按两级进行切换，将设置在真空区域上的吸附孔所结连的真空力切换成高真空和低真空来实现。通常经由设置于卡盘上的多个上顶销来进行基板向卡盘的搭载。上顶销自卡盘的表面上升，在从机器人等的装卸臂接受基板以后再次下降，将基板放置于卡盘的表面。在曝光装置上要求减低曝光不良，同时还要求生产节拍时间的缩短以提高大量生产性能。为了缩短生产节拍时间，有效的方法是提高上顶销的下降、上升的速度，将基板很快地设置在卡盘上，并在曝光后迅速地进行拆卸。但是，若提高销的下降速度将基板靠近于卡盘，则基板与卡盘之间的空气就不会完全地逃到外部，空气残留于基板和卡盘的中央部使基板的中央部鼓起来，将发生平坦度受损之类的问题。而且，越是提高该速度，空气被关在里面而使中央部很大地鼓起之类的问题越是明显化。因此，为了缩短曝光装置的生产节拍时间，就需要在将基板搭载于卡盘时，将被关在基板与卡盘之间的空气有效地进行排出。因此，人们提出如下卡盘构造在卡盘表面的非真空区域设置从卡盘的中央连结到左右/上下两端的槽，同时在此槽上设置从卡盘表面侧 (基板安装侧)穿到里面(背面)的空气孔，由此使被基板和卡盘所关起来的空气，经由上述槽和空气孔迅速地(有效地)在卡盘的侧面和背面排出空气。这里，空气孔被指定成直径小于等于4毫米以便不会引起“里面转印”。如前述那样，借助于卡盘表面的提坝部设置真空区域和非真空区域，并在非真空区域设置有槽和空气孔以迅速地排出使基板接近于卡盘时发生的两者间的空气。另外，人们还提出如下曝光装置在真空区域设置销状的凸部和吸附孔，通过将吸气孔的真空度切换成高真空和低真空，在将基板安装于卡盘时以较强的吸附力保持基板，迅速地排出空气以缩短生产节拍时间而高速化，然后，在曝光时通过以较弱的吸附力进行保持，使与提坝部、凸部的接触所导致的接触变形减小，由此减少里面转印、也就是说减少不良发生。现有技术文献专利文献专利文献1日本专利公开特开2007-180125号公报在文献1的公知例子中，在卡盘整面上设置通过提坝部所划分的真空区域，为了防止“里面转印”，就需要在此真空区域设置许多销状的凸部以使基板进行点(微小面积) 接触，另外，还需要在非真空区域设置许多槽和小径空气孔，这就有卡盘表面的加工变得非常复杂使生产性变差之类的课题。另外，虽然可以将真空区域的吸附力切换成高真空和低真空，在曝光时减小吸附力使与基板的接触部的变形减小，以确保基板的平坦性，但只要用提坝部支撑基板并使其吸附接触，就会发生接触部的变形，所以难以完全地确保基板的平坦性。因此，仍存在仿照基板保持面的形状的“里面转印”的可能性。另外，伴随于基板的大型化，卡盘面亦大型化，因此，真空区域的数量不断增加，所以使构成真空区域的提坝部的高度相同在制作上较难，就有可能会因提坝部与基板的接触状态的差别而发生气密性的差别。具体而言，在因提坝部高度不一、尘埃混入等使基板与提坝部无法完全接触而在局部发生间隙的真空区域，空气从周围流入真空区域，即便用同一真空力(泵)吸出空气，也无法使全部真空区域的真空度相同。因此，在各个真空区域的吸引力上发生差异，据此就有基板的变形不同使平坦度受损而无法高精度地曝光掩模图案这种可能性。另外，还有可能发生仿照基板保持面的形状的“里面转印”。另外，在较大的基板中，很难从基板中心朝向外侧依次使其接触到卡盘，假使在最初从基板的外侧接触到卡盘，其次内侧进行接触的情况下，即便用空气孔、真空区域将卡盘和基板上所剩余的空气排除，因基板外侧与卡盘的接触摩擦而不会使基板的皱折伸展并变得平行。这根据如下现象就能够容易地理解，例如在敷设较大的毛绒毯时，若一旦因某种理由在中央部出现鼓起，则因毛绒毯与地板的接触摩擦而不会使毛绒毯变得平坦。也就是说，在卡盘整面上设置凸部、提坝部所组成的真空区域，对基板进行接触支撑(保持)这一方法中，假使如图15(1)所示那样基板变大就易于在基板的中央残留空气。 这一点向基板的下降速度变得越快就越变得显著。在因空气等而使中央部鼓起来的形状下将基板设置于卡盘时，纵使通过真空区域以真空力200将两者的空气进行排出，也会因基板的周边部与真空区域的接触摩擦而使基板不能变得平坦，所以如图15( 所示那样就有可能在基板上残留皱折201。本专利技术的目的就是实现以下事项之中至少一个以上。此外，以下事项有时候分别独立地实现，有时候多个同时实现。(1)防止“里面转印”。(2)缩短基板的卡盘搭载时间以缩短生产节拍时间。(3)通过将基板向卡盘平坦地进行保持就可以正确地曝光掩模的曝光图案(形状)，也就是说能够实现没有应变(变形)的高精度曝光。(4)可以提供卡盘制造简单的曝光装置。
技术实现思路
本专利技术为了上述目的而具备以下特征。此外，本专利技术有时候分别独立地具备以下特征，有时候则同时具备多个特征。本专利技术的第1特征在于设置将基板在卡盘上用空气膜(支承)使其浮起的浮起部件。具体而言就是采用如下机构在卡盘的表面设置吐出压缩空气的吐出口，借助于来自吐出孔的高压空气使基板浮起在卡盘表面，以非接触方式保持基板。本专利技术的第2特征在于设置将基板进行吸附保持的吸附保持部件。在使基板进行浮起的情况下，由于基板与卡盘之间没有接触阻力，基板在平面方向自由地进行移动，所以就要防止它以使基板的位置(旋转角度/姿态)相对于卡盘保持固定。作为此吸附保持部件之一就是(a)在上顶销的前端设置了吸附孔的带吸附孔上顶销。借助于此带吸附孔上顶销，使搬入时基板相对于卡盘的位置(旋转角度/姿态)从本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种在基板上曝光图案的曝光装置，包括：第１搭载部，搭载上述基板，上述第１搭载部具有：第１基板浮起部，使上述基板相对于上述第１搭载部进行浮起。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：徳山幹夫，渡部成夫，牧信行，小松伸寿，根本亮二，森顺一，高桥聪，
申请(专利权)人：株式会社日立高新技术，
类型：发明
国别省市：JP