经涂布的玻璃表面和涂布玻璃基片的方法技术

本发明专利技术公开了具有涂层的基片。该涂层由多个层形成。至少一个所述层包括镍－铬－钼合金且至少两个另外的层包括银。本发明专利技术还公开了用于基片的涂层。本发明专利技术另外公开了一种将涂层涂敷至基片的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于基片或基片表面的涂层。背景通过影响和改善加热、冷却和照明，窗户技术的发展已经减少了能量消耗。最佳的窗户可以接受太阳能增益(solar gain)并提供净热(net heating)。最佳化可以来自用于窗户或玻璃的涂层。已经开发了各种类型的涂层。实例包括在整个光谱范围内反射以减少来自太阳的强光或过热的阳光控制涂层，和减少辐射热损失(通常是由于通过窗户的显著传热)的低发射率涂层。低发射率涂层是众所周知的。该涂层通常对热红外线(IR)具有高反射率，并对可见光谱具有高透射率。因而，它们是热红外线低发射的。一些这样的涂层可以接纳太阳的近红外线(NIR)以帮助加热建筑物，如在寒冷气候中。一些这样的涂层可以反射回肌札如在温暖气候中。低发射率光学性能通常通过应用具有某种固有特性的材料而获得，或者可将多种材料组合以获取特定的所需性能。具有相应的固有特性(即高透射率和低发射率) 的材料的一个实例，可以是锡或铟的掺杂氧化物，其中，调节掺杂物水平可以调整透射率和反射率之间的波长截止(cutoff)。适用于提供低发射率的另一类材料包括很薄的金属膜。形成红外线反射膜的膜通常为传导性金属如银、金或铜。银膜为高度反射的。很薄的膜的反射率可以被薄膜干涉效应抑制。例如，在金属层的前部和后部增加介电层，会减小该薄膜对有限范围波长的反射率。 包括这些材料的涂层可以制成对可见辐射或光高度透明，而对OTR保持反射。这些涂层通常包括一层或两层红外线反射膜和两层或多层的透明介电膜。该红外线反射膜减小通过该涂层的热传导。该介电膜通常用于红外线反射膜的抗反射，并用于调节涂层的其他性能和特性，如颜色和耐用性。这样的膜通常具有> 1. 5的光/太阳能增益比值(LSG)(可见光透射率除以太阳能热增益系数)。太阳能热增益系数(Solar Heat Gain Coefficient)是表示由窗户透射的入射太阳能热辐射比例的量度。可见光透射率描述可以可通过的可见光的量。它们各自可以独立地通过不同涂层而改变。一般的低发射率涂层具有各自夹在两个透明介电膜涂层之间的一个或两个银层。 为了获得改进的性能，一些现有体系和设备采用三重银涂层或使用阻挡层(barrier)作为吸收层。通过增加银膜的数量，可以增加红外线反射。遗憾的是，增加银膜的数量也减小了可见光透射，并且会对涂层的颜色有负面影响或降低涂层的耐用性。例如，三重银涂层具有主要为绿色的外观，这是令人不满意的。此外，控制该涂层的颜色是困难的，这可导致颜色不一致。因此，提供了用于玻璃基片的涂层，其相对于现用的涂层和设备，提供改进的性能、颜色的控制或改善，和制造的简易性。专利技术概述提供了包含涂层的基片。该涂层由多个层形成。至少一个该层包括合金或超合金。 提供了至少两个另外的包括银的层。还提供了用于基片的涂层。该涂层包括合金或超合金层、第一银层和第二银层。另外提供了涂布基片的方法。该方法包括下列步骤通过溅射将第一层涂布至基片形成涂层，该第一层包括合金或超合金。通过溅射将第二层涂布至该基片，该第二层包括银材料。也通过溅射将第三层涂布至该基片，该第三层包括金属，其中该第一、第二和第三层形成用于玻璃基片的涂层的至少一部分。前述涂层和方法提供了相对于现用设备的优势。通过使用合金或超合金，例如镍-铬-钼合金或超合金，可以削弱穿过基片的透射。更具体地，可以获得在热红外线(IR) 中的高反射率和在可见光谱中的高透射率。在基片表面上由低发射率材料形成的该涂层可以反射显著量的辐射热，由此降低通过基片的总热流。还可以设置该低发射率涂层，通过改变允许通过基片的可见光和/或辐射的量，以得到高太阳能增益、中太阳能增益或低太阳能增益。该涂层提供太阳能热增益/可见光比值的显著改善。例如，当构建于内表面，如隔热玻璃(insulating glass)基片的#2表面时，该涂层可以包括在约20%至约50%范围内的可见光透射。与具有可比性能的其他涂层相比，该涂层还提供制造的简易性和涂层颜色控制的简易性。该涂层体系还可以使垂直于玻璃表面或成锐角观察时颜色不一致的可能性最小。 例如，可以提供经涂布的制品。该经涂布的制品可以包括具有一对主表面的基片，和涂敷到至少一个该主表面的涂层。该涂层可以包括多个层。该经涂布的制品沿着和经涂布的主表面基本垂直的方向的色坐标值，可基本等于沿着和经涂布的主表面成锐角的方向的色坐标值。另外，或者换而言之，该制品沿着和经涂布的主表面基本垂直的方向的色坐标值，对于沿着和经涂布的主表面成锐角的方向的色坐标值的变化(variation)，可相对于已知的经涂布的制品减小。因此，该涂层对广泛的设计和建筑应用具有吸引力。其他优势和特征将通过以下描述、附图，以及所附权利要求变得清楚。附图简述附图说明图1是对根据本专利技术实施方案的一个实例的基片上的涂层进行说明的图。图2是对图1的基片上的涂层(包括适当的层材料的实例)进行说明的图。图3是对涂布机的实例进行说明的示意图，该涂布机可用于制造图1中所示的基片上的涂层的方法的一个实例。图4是图1的涂层的部分截面图，该涂层根据本专利技术实施方案的一个实例涂敷至 IG单元。图5是显示其中镍-铬-钼合金的量越来越大的所述涂层样品，在380nm至780nm 范围的不同波长下的玻璃侧反射值的曲线图。实施例1的层最厚，而实施例5的最薄。图6是显示实施例1至5的膜侧反射曲线的曲线图。图7是显示实施例1至5的透射曲线的曲线图。专利技术详述本专利技术总的涉及其上具有涂层的基片。更特别的，本专利技术涉及具有涂层的基片20，该涂层可以是低发射率涂层。还提供用于沉积该涂层的方法和设备。基片20可以是任意的透明、基本透明或可透光的基片，如玻璃、石英、任何塑料或有机聚合物基片，或任何其他适当材料或材料的组合。另外，该基片可以是两种或多种不同材料的层压品，并且可以为多种厚度。除了膜或涂层之外，基片20也可设置为包括低发射性能，例如，可以通过调节玻璃基片中的铁含量所实现的。在一个实施方案中，基片20为浮法玻璃。或者，基片20可以是一种具有低发射性能的玻璃，比如，但不限于硼硅酸盐或 PYREXTM0涂层10可以是薄膜涂层。因此，将低发射率涂层10涂敷于基片20的表面。如本文所述，涂层10可以是一个或多个低发射率涂层，并且可以是显微薄的、实际上不可见的金属层或金属氧化物层或者多个所述层或所述层的组合，所述层沉积在基片20的表面上。 该低发射率涂层10可以是对可见光透明或基本透明的，并且可以是对红外线辐射不透明或者基本不透明的。因此，在基片20表面上的涂层10可以由低发射的材料形成，并且或者可以设置为，通过改变允许通过基片20的可见光和/或辐射的量，得以改变例如太阳能增益的量。该低发射率涂层10具有反射辐射的红外线能量的一般性能，因此倾向于将辐射热保留在其出现的玻璃相同侧上。涂层10可以设置成如图1中所示的层体系。在实施方案的一个实例中，该层体系由在基片20上或者附着到基片20的多个层组成。因此，膜区可以为单层或多层。因而，一层或多层膜或多个膜区可以形成实施方案的一个实例的涂层10。该膜区以层的形式提供。 该一层或多层的厚度可以是一致的，或者可以是不同的。同样，单个层的厚度可以跨其宽度或长度不同。在一个实例中，该膜区或其部分可以在本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．包含基片和涂敷至该基片的涂层的制品，所述涂层包含多个层，其中至少一个层包括镍－铬－钼合金且至少两个另外的层包括银。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：R·L·斯图尔，
申请(专利权)人：顶峰企业公司，
类型：发明
国别省市：US