磁性膜附着体及其制造方法技术

技术编号:7156951 阅读:211 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供一种在基体上附着磁性膜而成的磁性膜附着体的制造方法。该制造方法具备:准备基体的工序和在基体上形成包含交替地层叠的有机物膜及铁氧体膜的磁性膜的工序。在该制造方法中,形成磁性膜的工序交替地进行利用铁氧体镀膜法形成具有20μm以下的膜厚的铁氧体膜的工序和形成有机物膜的工序,该有机物膜是具有0.1μm以上20μm以下的膜厚的有机物膜,该有机物膜的膜厚t与杨氏模量E的比t/E为0.025μm/GPa以上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及在基体上附着磁性膜、特别是尖晶石型铁氧体膜而成的磁性膜附着体和磁性膜附着体的制造方法。
技术介绍
铁氧体镀膜法是提供优质的铁氧体膜的方法,例如公开于专利文献1中。铁氧体镀膜法具备准备至少含有亚铁离子的特定水溶液的步骤;使基体的表面接触特定水溶液,将狗2+离子或!^2+离子和其他的氢氧化金属离子吸附于基体的表面的步骤;通过将所吸附的狗2+离子氧化而得到!^3+离子,利用1 3+离子与特定水溶液中的氢氧化金属离子引起铁氧体结晶化反应,在基体的表面形成铁氧体膜的步骤。根据该铁氧体镀膜法,只要基体对于水溶液具有耐受性,就可以使用任何基体。另外,由于铁氧体镀膜法基于借助水溶液的反应,因此可以在比较低的温度下(常温 水溶液的沸点以下)生成尖晶石型的铁氧体膜。所以,铁氧体镀膜法与其他的铁氧体膜形成技术相比,在对基体的限定少的方面更为优异。另外,基于铁氧体镀膜法得到的铁氧体膜虽然是陶瓷,然而十分柔软,在容易处置的方面十分优异。作为有关铁氧体镀膜法的文献,有专利文献2 专利文献6及非专利文献1。专利文献2公开有实现所形成的铁氧体膜的均勻化及铁氧体膜的形成工序的反应速度的提高的技术。专利本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种磁性膜附着体的制造方法,其特征在于,包括准备基体的工序、和在所述基体上形成包含交替地层叠的有机物膜及铁氧体膜的磁性膜的工序,所述形成磁性膜的工序交替地进行利用铁氧体镀膜法形成具有20μm以下的膜厚的铁氧体膜的工序和形成有机物膜的工序,所述有机物膜是具有0.1μm以上20μm以下的膜厚的有机物膜,该有机物膜的膜厚t与杨氏模量E的比t/E为0.025μm/GPa以上。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:近藤幸一
申请(专利权)人:NEC东金株式会社
类型:发明
国别省市:JP

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1
相关领域技术
  • 暂无相关专利