玻璃基板再生装置（１０）是对以大致水平支撑的状态由搬运装置搬运的基板进行再生处理的装置，朝向不良基板的搬运方向依次具备第１碱性液处理部（１２）、酸性液处理部（１４）以及第２碱性液处理部（１６）。第１碱性液处理部（１２）向从基板搬入部（１１）所搬入的不良基板喷射碱性液，剥离最上层的树脂层。酸性液处理部（１４）向由喷淋水洗部（１３）淋洗完的不良基板喷射酸性液，剥离中间层的金属层。第２碱性液处理部（１６）向由喷淋水洗部（１５）淋洗完的不良基板喷射碱性液，剥离最下层的树脂层。根据玻璃基板再生装置（１０），可在短时间内完成玻璃基板（２）的再生处理，亦可抑制玻璃基板（２）的损伤。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种玻璃基板再生装置，其从液晶显示装置等所使用的彩色滤光器的 制造工序中所产生的不良基板(未满足质量基准的基板)再生玻璃基板。
技术介绍
图15是表示彩色液晶显示装置所使用的彩色滤光器的一例的剖面图。彩色滤光器101具备有玻璃基板2、形成于玻璃基板2上的黑阵列(BM) 3、红色的 着色像素(R像素)4R、绿色的着色像素(G像素)4G、蓝色的着色像素(B像素)4B(以下将 RGB各像素总称为“着色像素4”)、ITO (铟锡氧化物，Indium Tin Oxide)等的透明电极5、 光间隔片(PS)以及垂直取向部(VA)7。作为这种构造的彩色滤光器101的制造方法，已知 光蚀刻法、印刷法以及喷墨法。图16是表示光蚀刻法的各工序的流程图。首先，将BM形成于玻璃基板上(SlOl)。接着，清洁玻璃基板(S102)，在玻璃基 板上涂布RGB的任一种着色光阻剂，并进行预干燥(S103)，之后为了使基板上的着色光阻 剂干燥、硬化，而进行预烘焙(S104)。然后，使用光掩模将基板上的着色光阻剂进行曝光 (S105)，在进行显影处理后(S106)，使已图形化的着色光阻剂硬化(S107)。重复进行上述 S102 S107的处理直到在玻璃基板上形成R、G、B3色像素为止(S108)。然后，在着色像素 上形成透明电极膜后(S109)，在透明电极上形成PS、VA(S110)。经由以上的工序，而制造图 15所示的彩色滤光器。此外，关于对玻璃基板上的BM的形成，例如可采用如下的方法，将金属薄膜形成 于玻璃基板上，在金属薄膜上涂布光阻剂后，利用光蚀刻法进行曝光、显影、蚀刻，而形成BM 形状的图形。或者，采用如下的方法，将黑色的光阻剂涂布于玻璃基板上，再利用光蚀刻法 将此黑色的光阻剂进行曝光及显影，而形成具有BM形状的图形(所谓的树脂BM)。又，随着彩色滤光器用玻璃基板的大型化，而有回避采用由金属薄膜形成的BM的 倾向。这是由于和使用铬等金属并利用真空装置形成金属薄膜相比，使用黑色的树脂光阻 剂进行光蚀刻的方法在价格及环境两个方面更为有利。虽然要求上述彩色滤光器具有高的可靠性，但是如图16所示，其制造需要经过很 多工序，在这过程中可能产生灰尘或树脂渣等异物的附着或混入、针孔、图形欠缺等缺陷。 发生这种缺陷的基板是不满足质量基准的不良基板，会降低合格率。又，随着近年来的大画 面液晶电视的普及，彩色滤光器用玻璃基板发生大型化，厚度Imm以下且一边的长度长达 1 2m的玻璃基板已经在使用。因为这种玻璃基板易破损，所以不良基板的废弃作业本身 伴随着危险。因此，人们寻求一种能够将不满足质量基准的不良基板再生为玻璃基板的玻璃基 板再生装置。由玻璃基板再生装置所再生的玻璃基板能够再投入到制造工序中。图17是表示彩色滤光器用玻璃基板的再生处理的流程图。对在PS、VA形成工序以后所产生的不良基板(具有和图15的彩色滤光器一样的叠层构造)进行再生时，首先，依次进行第1碱性液处理(S201)、刷洗(S202)以及喷淋水 洗(S203)，剥离位于玻璃基板的最上层的PS、VA膜。接着，进行酸性液处理(S204)及喷淋 水洗(S205)，剥离中间层透明电极。然后，依次进行第2碱性液处理(S206)、刷洗(S207) 以及喷淋水洗(S208)，并将玻璃基板表面的BM、R像素、G像素、B像素剥离。然后，利用刷 洗(S209)除去微量地残留于玻璃基板上的清洁残渣，通过除去水分而使玻璃基板变成干 燥(S210)。图18是表示以往的玻璃基板再生装置的图。玻璃基板再生装置90进行用以剥离不良基板1表面的树脂膜(PS、VA、BM以及着 色像素)的碱性液处理(图17的S201、S206)，并具备有储存槽91、泵92、喷嘴93、碱性液 补充槽94、剥离液补充槽95以及回收盘96。在储存槽91中，储存已预先调整了各自的成分及浓度的处理液，包含碱性液及剥 离液。藉由泵92经由配管97向喷嘴93供给储存槽91内的处理液，并从喷嘴93向不良基 板1排出该处理液。利用未图示的清洁刷，和处理液的排出并行地清洁不良基板的表面，并 将PS、VA等树脂膜剥离。不良基板1 一边藉由未图示的搬运装置以一定速度在规定方向上 搬运，一边接受藉由处理液及清洁刷的剥离处理。向不良基板1所排出的处理液及被剥离的树脂(例如PS、VA形成中所使用的树 脂)从回收盘96经由配管100而回收到储存槽91中。所回收的树脂在储存槽91内沉淀 后从配管102排出到外部。或者，亦可将过滤器设置于储存槽91内并使树脂分离。每隔一定时间地测量储存槽91内的碱性液浓度及剥离液浓度。在浓度不够时，从 碱性液补充槽94及剥离液补充槽95分别经由配管98及配管99而向储存槽91补充碱性 液及剥离液。除了上述的图17及图18所示的玻璃基板再生方法以外，人们还提出了几种方法。 例如，在专利文献1中，记载了藉由将不良基板浸泡于包含有水溶性有机胺化合物和无机 碱性金属化合物的水溶液中而再生玻璃基板的方法。在专利文献2中，记载了下述方法在 将不良基板浸泡于浓度98%的浓硫酸10分钟后水洗，并浸泡于加温至55°C的、包含有烷基 二醇和乙二醇酯的碱性水溶液中，并根据需要而进行海绵摩擦(手擦)。在专利文献2中， 记载了进行一次酸性液处理和二次酸性液处理而将ITO膜、RGB像素以及BM剥离的方法。 在专利文献4中，记载了利用两级处理而将RGB像素及BM剥离的方法，该两级处理包括以 包含有无机酸的前处理液对不良基板进行前处理的工序、及以包含有碱性物质的剥离液对 不良基板进行后处理的工序。现有技术文献专利文献专利文献1 日本特开2001-124916号公报专利文献2 日本特开平7-230081号公报专利文献3 日本特开2006-154752号公报专利文献4 日本特开2002-179438号公报专利文献5 日本特开2003-279915号公报专利文献6 日本特开2005-189679号公报在上述的图17中，虽然为了便于图示，而连续地记载了 PS/VA剥离工序(第1碱性液处理)、透明电极剥离工序(酸性液处理)以及RGB像素/BM剥离工序(第2碱性液处 理)，但是因为这些各工序的处理时间相异，所以实际上，各工序是以独立的分批处理进行 的。因而，在玻璃基板的再生处理上耗费很多时间。又，在专利文献1 4的处理方法中，因为需要将不良基板浸泡于处理液10分 钟 2小时，所以具有玻璃基板受损的问题。又，因为最下层(玻璃基板表面)的树脂膜残 渣残留，所以一般在剥离后进行研磨处理，亦具有处理工序数量增加的问题。
技术实现思路
因而，本专利技术的目的在于提供一种玻璃基板再生装置，其不会损伤彩色滤光器用 玻璃基板，并可在短时间内将其上的树脂膜及金属膜剥离。本专利技术涉及一种玻璃基板再生装置，其一面搬运在玻璃基板上形成有1层以上 的、含有树脂及金属的任一种的层的不良基板，一面从不良基板再生玻璃基板。该玻璃基板 再生装置具备有第1碱性液处理部，用碱性液处理不良基板，并将位于不良基板的表面的 第1树脂层剥离；第1酸性液处理部，设置于第1碱性液处理部的下游，用酸性液处理不良 基板，并将位于不良基板的表面的金属膜剥离；以及第2碱性液处理部，设置于酸性液处理 部的下游，用碱性液处理不本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种玻璃基板再生装置，一面搬运在玻璃基板上形成有１层以上的、含有树脂及金属的任一种的层的不良基板，一面从上述不良基板再生上述玻璃基板，该装置至少具有：第１碱性液处理部，用碱性液处理上述不良基板，并将位于上述不良基板的表面的第１树脂层剥离；第１酸性液处理部，设置于上述第１碱性液处理部的下游，用酸性液处理上述不良基板，并将位于上述不良基板的表面的金属膜剥离；第２碱性液处理部，设置于上述酸性液处理部的下游，用碱性液处理上述不良基板，并将位于上述玻璃基板的表面的第２树脂层剥离。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：濑川达弥，
申请(专利权)人：凸版印刷株式会社，
类型：发明
国别省市：JP
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