【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术针对分子抗蚀剂组合物、使用该分子抗蚀剂组合物对衬底进行图案化的方 法以及通过加工形成的产品。
技术介绍
图案化表面的方法是已知的并且包括光刻技术，以及最近发展的软接触打印技 术，例如微接触打印(参见，例如美国专利No. 5，512，131)。在微接触打印中，使用弹性模具 将一个自组装单层(“SAM”)沉积在衬底上。制备具有横向尺寸小至40nm的SAM。SAM能 被用作为一种抗蚀剂以在衬底上形成一个特征，例如，通过蚀刻未被SAM覆盖的衬底的一 部分。但是，SAMs并不特别稳定，并已知具有针孔和缘于非完整单层覆盖的其他缺陷。甚 至当产生密集的单层时，大多数SAMs不能对广泛用于商业制作过程中的各种各样的蚀刻 剂提供足够的抗蚀性。光刻过程使用一种聚合抗蚀剂，此抗蚀剂可使用光图案化。尽管光刻抗蚀剂更稳 定并相对于SAMs对各种各样的蚀刻剂提供更好的抗蚀性，光刻要求专门的设备和化学物 并通常局限于平的衬底。所需要的是一个低成本的方法用于使用抗蚀剂对衬底进行图案化，所述抗蚀性图 案可获得低于500 μ m的横向尺寸，并应用于各种各样的衬底、蚀刻剂和几何形状。专利技...
【技术保护点】
一种用于对衬底图案化的方法，方法包括： 在衬底上沉积包括有机胺的分子抗蚀剂组合物，其中有机胺通过非共价键相互作用粘附在衬底上而形成图案，所述图案具有至少一个大约５００μｍ或更少的横向尺寸；并且与未被图案覆盖的一部分衬底反应以在其上形成特征，其中特征具有由图案限定的横向尺寸。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
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