等离子体气化反应器制造技术

等离子体气化反应器容器具有上部部分，上部部分具有从底部部分向上延伸到容器的顶部的圆锥形壁，底部部分容纳碳质层，等离子体由等离子体炬喷射到碳质层中，该容器以可对有利于反应的完全性和可用反应产物的产量的气流和固体停留时间特性有用的方式布置。在一些例子中，这样的圆锥形壁与其他特征在布置方案中结合，所述其他特征例如为一个或多个布置用于得到更均匀分布的进料端口，包括具有带分布式进料机构的进料端口的示例。容器顶部在一些示例中具有竖直的出口端口，其包括靠近上部部分的圆锥形壁进入到反应器内部容积中的侵入部。具有侵入部的出口端口构造和用于原料更均匀分布的进料端口构造也可用于具有其他几何形状的反应器容器。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及等离子体气化反应器，其具有可促进例如合成气制备的工艺的特征， 特别是包括反应器容器上部部分构造；反应器出口端口构造；和/或反应器进料端口构造， 与其中使用所述这些特征的等离子体气化反应器和系统的其他方面结合。
技术介绍
介绍
技术介绍
来简要描述本专利技术的来龙去脉。等离子体气化反应器(有时称为PGR)是已知的，并且用于处理各种不同材料中的任何一种，包括例如废金属、有害废物、其他市政或工厂废物和垃圾填埋材料，以获得例如金属等可用材料，或使不期望的废物玻璃化，以更易于处置。对此类应用的关注还在继续。 (在本专利技术的说明书中，“等离子体气化反应器”和“PGR”用来指同一一般类型的反应器，无论用于气化还是用于玻璃化，或者既用于气化又用于玻璃化)。除了上述用途之外，PGR还适用于进行燃料改良或产生适用作燃料的气化反应产物，具有或不具有后序处理。PGR及其多种用途描述于例如2005年中或末出版的Industrial Plasma Torch System, Westinghouse Plasma Corporation, Descriptive Bulletin 27-501 ；本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种等离子体气化反应器，包括：带有耐火衬里的反应器容器，其包括底部部分和上部部分；所述底部部分容纳碳质层，并且布置有具有一个或多个等离子体炬端口的侧壁，在每一个等离子体炬端口中容纳等离子体炬，所述一个或多个等离子体炬具有在所述碳质层中建立至少约６００℃的高温的能力；并且所述上部部分从所述底部部分延伸到在所述上部部分上方的顶部，并且包括圆锥形壁，所述圆锥形壁的横截面直径从所述圆锥形壁的与所述底部部分连接的底端向所述圆锥形壁的与所述顶部连接的顶端基本上连续地增大。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：S·V·迪格，
申请(专利权)人：阿尔特NRG公司，
类型：发明
国别省市：CA