【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光刻
，具体为。
技术介绍
光刻技术是用于在衬底表面上印刷具有特征的构图。这样的衬底可包括用于制造半导体器件、多种集成电路、平面显示器(例如液晶显示器)、电路板、生物芯片、微机械电子芯片、光电子线路芯片等的基片。经常使用的基片为半导体晶圆或玻璃基片。在光刻过程中，掩膜板放置在平台上，通过处在光刻设备内的曝光装置，将特征构图投射到掩膜板表面。为制作标准版，需将版图中心和掩膜板中心重合，两个中心的重合程度很大的影响了标准版的质量以及以后的器件制作。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供，利用成像系统的高精准平台和激光位移控制器，以解决光刻过程中版图中心和掩模板中心不重合导致光刻质量降低的问题。为了达到上述目的，本专利技术所采用的技术方案为，其特征在于包括以下步骤 (1)将待曝光制作的掩模板置于成像系统底部的高精准平台上，建立掩模板坐标，在掩模板坐标中以平行于掩模板两相对侧边方向为X向，平行于掩模板另外两相对侧边方向的为Y向，采用配置有激光位移传感器的CCD相机采集掩模板在高精准平台上的图像，调节高精准平台使CCD相机的坐标原点落入高精准平台中，并通...
【技术保护点】
１．一种激光位移传感器控制的预对准方法，其特征在于：包括以下步骤：（１）将待曝光制作的掩模板置于成像系统底部的高精准平台上，建立掩模板坐标，在掩模板坐标中以平行于掩模板两相对侧边方向为Ｘ向，平行于掩模板另外两相对侧边方向的为Ｙ向，采用配置有激光位移传感器的ＣＣＤ相机采集掩模板在高精准平台上的图像，调节高精准平台使ＣＣＤ相机的坐标原点落入高精准平台中，并通过ＣＣＤ相机采集图像并找到ＣＣＤ相机的初焦面；（２）移动高精准平台，激光位移传感器自动寻找高精准平台上掩模板某个边界，并通过ＣＣＤ相机记录掩模板某个边界上一点在ＣＣＤ相机坐标中的坐标值（Ｘ１，Ｙ１）；（３）再次移动高精准平台...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：焦朋，朱亮，张德运，
申请(专利权)人：合肥芯硕半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：34
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