一种位阻胺类光稳定剂选择性还原氧化石墨烯的方法技术

选择性还原氧化石墨烯材料及其制备方法属纳米科技领域，本发明专利技术具体涉及一种在紫外光辐照下，位阻胺类光稳定剂催化法制备可溶性还原石墨烯材料的技术。本发明专利技术提供的位阻胺类光稳定剂催化还原法具有：(1)基团选择性高，能够选择去除羧基和羰基；(2)产物溶解性好；(3)位阻胺催化剂属于无毒、无金属；(4)位阻胺添加剂具有分散石墨烯的能力，也可以去除；(5)操作方法简单及绿色环保等特点。该技术较好地弥补了传统氧化石墨烯材料还原方式剧毒，高能耗(高温)及还原过程不可控的不足，有望成为石墨烯材料化学工业生产的重要步骤，在石墨烯基光电材料、石墨烯基有机结构材料及有机光电功能器件中有着潜在应用，特别是应用于石墨烯基光电材料。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
１．一种位阻胺类光稳定剂选择性还原氧化石墨烯的方法，其特征在于该还原过程是在紫外光的辐射下，用小分子位阻胺类光稳定剂对氧化石墨烯片层上的官能团进行的选择性催化还原；具体过程包括：在紫外光源的照射下，通过向氧化石墨烯的溶液中加入小分子位阻胺催化剂，然后在２０～１００℃的温度范围内持续搅拌，直至溶液的颜色不再发生改变，然后通过萃取的办法，去除溶液中的小分子位阻胺催化剂，最后通过干燥得到可再分散的还原石墨烯粉体。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：黄维，解令海，赵飞，艾伟，刘举庆，仪明东，张广维，
申请(专利权)人：南京邮电大学，
类型：发明
国别省市：84