本发明专利技术的目的是提供即使不进行化学强化处理等附加处理耐候性也优良、不易发生白斑现象、玻璃化温度在685℃以上、且耐酸性优良的数据存储介质用基板用玻璃。本发明专利技术的数据存储介质用基板玻璃的特征在于，以质量％表示含有47～60％的SiO2、8～20％的Al2O3、0～8％的MgO、0～2.4％的CaO、1～18％的SrO、0～13％的BaO、1～6％的TiO2、1～5％的ZrO2、2～8％的Na2O、1～15％的K2O，K2O/Na2O：2.2～40，玻璃化温度在685℃以上。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及在磁盘、光盘等数据存储介质的基板中使用的基板用玻璃及玻璃基板。
技术介绍
作为磁盘、光盘等数据存储介质基板用玻璃，广泛使用钠钙玻璃。但是，由钠钙玻璃形成的基板可能会因所谓的白斑现象而导致其在库存过程中表面性状发生显著变化。因此，在使用钠钙玻璃作为磁盘基板时，存在形成于基板上的基底膜、磁性膜、保护膜等膜容易剥离的问题。此外，为了使白斑现象不易发生，有对钠钙玻璃进行化学强化处理的方法。 但是，化学强化处理存在工序增加、化学强化处理后的基板表面容易附着污垢等问题。于是，目前提出了即使不进行化学强化处理等附加处理耐候性也优良、不易发生白斑现象的数据存储介质用基板玻璃(专利文献1、专利文献2)。专利文献1 美国专利第6，949，485号公报专利文献2 美国专利第5，599，754号公报专利技术的揭示然而，专利文献2中记载的基板用玻璃的玻璃化温度(Tg)不到680°C，没有玻璃化温度超过680°C的基板用玻璃。另外，专利文献1的例8中揭示了玻璃化温度为710°C的数据存储介质用基板玻璃，但该玻璃的耐酸性极差(将玻璃在90°C的0. lmol/1的HCl水溶液中浸渍20小时后的重量减少量为11. ;3mg/cm2)，有在玻璃的研磨工序和清洗工序中暴露于 PH较低的化学液时容易发生表面粗糙化的问题。于是，本专利技术的目的是提供即使不进行化学强化处理等附加处理耐候性也优良、 不易发生白斑现象、玻璃化温度在680°C以上、且耐酸性优良的数据存储介质用基板用玻^^ ο本专利技术提供一种数据存储介质用基板玻璃，该玻璃的特征在于，以质量％表示含有 47 60% 的 Si02、8 20% 的 A1203、0 8% 的 Mg0、0 6% 的 Ca0、l 18% 的 Sr0、0 13%的Ba0、l 6%的TiO2U 5%的&02、2 8%的Νει20、1 15%的K2O,玻璃化温度在680°C以上。此外，本专利技术也提供由所述数据存储介质用基板玻璃形成的玻璃基板。利用本专利技术，可提供具有以下优点的数据存储介质用玻璃基板。(1)即使不进行化学强化处理耐候性也优良，在库存过程中不易产生附着物(白斑)。(2)可使热膨胀系数与以往使用的钠钙玻璃大致相同或在其以上。(3)可将玻璃化温度提高至680°C以上，所以可进一步增加数据存储介质的记录也/又。(4)耐酸性优良，在玻璃的研磨工序和清洗工序中暴露于PH较低的化学液时不易发生表面粗糙化。(5)密度小，为2.8g/cm3以下，作为数据记录介质使用时可实现轻量化。此外，由于基板不易挠曲，因此可增大记录容量。此外，记录介质受到冲击时不易破裂。(6)杨氏模量高，为75GPa以上，基板不易挠曲，因此可增大记录容量。此外，记录介质受到冲击时不易破裂。(7)可抑制因制造玻璃基板时的失透而导致的原材料利用率的下降。实施专利技术的最佳方式本专利技术的基板用玻璃(下面有时简称为本专利技术的玻璃)可用于磁盘、光盘等数据存储介质用的基板。另外，只要未特别言及，则组成以质量百分率表示。本专利技术的玻璃的耐酸性(将玻璃在90°C的0. lmol/1的HCl水溶液中浸渍20小时后的重量减少量)较好为5mg/cm2以下。更好为lmg/cm2以下，特好为0. 5mg/cm2以下，最好为0. lmg/cm2以下。优选上述耐酸性的原因是在玻璃的研磨工序和清洗工序中暴露于 PH较低的化学液时不易发生表面粗糙化。本专利技术的玻璃在50 350°C下的平均线膨胀系数(下面有时称为热膨胀系数) 较好的是与钠钙玻璃大致相同或在其以上，即75X10_7°C以上。更好为76X10_7°C以上，特好为77X10_7°C以上，最好为78X10_7°C以上。优选上述热膨胀系数的原因是热膨胀系数被要求与安装在数据存储介质用基板上的插孔的金属的热膨胀系数(典型的是 100X 10_7°C以上)更为接近，至少在以往使用的钠钙玻璃的热膨胀系数以上。本专利技术的玻璃的玻璃化温度在680°C以上。更好为685°C以上，最好为690°C以上。 玻璃化温度在680°C以上的原因是容易增大数据存储介质的存储密度。即，为增大存储密度，有效的是增加作为磁记录层的磁性层的矫顽力，为此，需要在更高的温度下进行在形成磁性层时实施的热处理。如果数据存储介质用基板中使用的玻璃的玻璃化温度不到680°C， 则可能无法在所要的温度下进行所述热处理。本专利技术的玻璃的粘度达到104dPa .s时的温度T4和液相温度IY的差ΔΤ( = Tl-T4) 较好为50°C以下，S卩ΔΤ彡50°C。如果ΔΤ超过50°C，则成形可能会变得困难。更好为 30°C以下，特好为0°C以下。优选上述Δ T的原因是在通过浮法、熔融法、下引法、加压法等进行大量生产时，可抑制因失透而导致的原材料利用率下降。其中，较好的是通过浮法将本专利技术的玻璃成形。本专利技术的玻璃的密度较好为2. 8g/cm3以下。更好为2. 77g/cm3以下，最好为2. 75g/ cm3以下。优选上述密度的原因是实施数据记录介质的轻量化。此外也因为在为了增加记录介质的记录容量而进行基板的薄板化、减小记录介质和读取头的间隔时，抑制伴随所述基板的薄板化而发生的挠曲或翘曲。此外也因为在记录介质受到冲击时，可使基板不易挠曲，抑制应力的产生，使破裂不易发生。本专利技术的玻璃的杨氏模量、即本专利技术的玻璃基板的杨氏模量较好为75GPa以上。 更好为76GPa以上，特好为78GPa以上，最好为SOGPa以上。优选上述杨氏模量的原因是 在为了增加记录介质的记录容量而进行基板的薄板化、减小记录介质和读取头的间隔时，抑制伴随所述基板的薄板化而发生的挠曲或翘曲。此外也因为在记录介质受到冲击时，可使基板不易挠曲，抑制应力的产生，使破裂不易发生。接着，以氧化物为基准、如无特别限定则以质量百分率表示，对本专利技术的基板用玻璃的组成(各成分的含量)进行说明。SiO2是形成玻璃骨架的必需成分。如果不足47%，则玻璃变得不稳定。此外，耐候性、耐酸性、杨氏模量可能会下降。更好为48%以上，特好为49%以上，最好为50%以上。 如果超过60%，则热膨胀系数过小，制作玻璃时的熔化温度过高。较好为57%以下。此外，SiO2的以摩尔百分率表示的含量较好为59%以上。如果SiO2不到59摩尔％，则耐酸性可能会下降。Al2O3具有提高玻璃的耐候性和杨氏模量的效果，是必需成分。此外也具有提高玻璃化温度的效果。如果不足8%，则所述效果不明显。较好为10%以上，更好为11%以上。 如果超过20%，则熔融玻璃的粘度过高，成形、特别是浮法成形变得困难。此外，液相温度也过高。较好为18%以下，更好为17%以下，特好为16%以下。MgO不是必需成分，但具有使熔融玻璃的粘度下降、使玻璃容易熔融、提高杨氏模量的效果，至多可以含有8%。如果超过8%，则有化学耐久性恶化、玻璃变得不稳定、液相温度也过高的可能。在欲使所述ΔΤ更小等情况下，较好为7%以下。含有MgO的情况下， 较好的是含有以上。CaO不是必需成分，但具有使熔融玻璃的粘度下降、提高杨氏模量或使玻璃容易熔融的效果，至多可以含有6%。如果CaO超过6%，则有玻璃的化学耐久性恶化、玻璃变得不稳定、液相温度过高的可能。较好为5.5%以下。另外，欲降低液相温度或欲使所述Δ本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种数据存储介质用基板玻璃，其特征在于，以质量％表示含有４７～６０％的ＳｉＯ２、８～２０％的Ａｌ２Ｏ３、０～８％的ＭｇＯ、０～２．４％的ＣａＯ、１～１８％的ＳｒＯ、０～１３％的ＢａＯ、１～６％的ＴｉＯ２、１～５％的ＺｒＯ２、２～８％的Ｎａ２Ｏ、１～１５％的Ｋ２Ｏ，Ｋ２Ｏ／Ｎａ２Ｏ：２．２～４０，玻璃化温度在６８５℃以上。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：永井研辅，中岛哲也，前田敬，长嶋达雄，
申请(专利权)人：旭硝子株式会社，
类型：发明
国别省市：JP
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