【技术实现步骤摘要】
本技术属于晶片处理设备领域，尤其是一种晶片在清洗完成后进行脱水的晶片清洗自动脱水机。
技术介绍
在晶片加工工厂里，腐蚀工序加工完成后，通常需要清洗，再用无水乙醇脱水，然后烘干。由于无水乙醇易燃，在脱水特别是烘干过程中容易造成安全事故，同时受无水乙醇质量的好坏，会造成晶片脱水不彻底，带来水印、脏污等问题。
技术实现思路
本技术针对上述技术中存在的不足之处，提出一种晶片清洗自动脱水机，它具有脱水彻底的优点，防止产生事故。实现本技术目的的技术方案如下晶片清洗自动脱水机，它包括机箱，机箱内设有驱动机构，一电源开关以及时间继电器与驱动机构连接并控制其工作，机箱内还设有转盘与驱动机构连接，转盘上设有若干网篮，机箱侧面设有用于排水的放水管。所述的驱动机构包括电机以及带、第一带轮、第二带轮，第二带轮固定在转盘底下，第一带轮与电机固定连接，带设在第一带轮与第二带轮之间。将经过清洗的晶片放入转盘中，设置脱水时间，按下开关，电机带动装有晶片的网篮高速旋转，通过离心力的作用，将晶片中的水分迅速抛出，减少了进入烘烤箱的烘干时间。本技术的有益效果是杜绝了无水乙醇脱水的安全隐患，提高了晶片清洗的质量和烘干效率。附图说明图1为本技术的结构示意图。具体实施方式如图1所示，晶片清洗自动脱水机，它包括机箱1，机箱1内设有驱动机构，一电源开关6以及时间继电器7与驱动机构连接并控制其工作，机箱1内还设有转盘2与驱动机构连接，转盘2上设有若干网篮3，机箱2侧面设有用于排水的放水管8。其中，驱动机构可以包括电机5以及带9、第一带轮4、第二带轮10，第二带轮10固定在转盘2底下，第一带轮4与电机5固定连接...
【技术保护点】
１．晶片清洗自动脱水机，其特征在于：它包括机箱，机箱内设有驱动机构，一电源开关以及时间继电器与驱动机构连接并控制其工作，机箱内还设有转盘与驱动机构连接，转盘上设有若干网篮，机箱侧面设有用于排水的放水管。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：任先林，刘杰，
申请(专利权)人：常州松晶电子有限公司，
类型：实用新型
国别省市：32
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