用于监测光刻胶保存时间的方法和系统技术方案

本发明专利技术涉及用于监测光刻胶保存时间的方法和系统。该方法包括识别光刻胶的类型；确定与所述识别的光刻胶的类型相对应的理论保存期限；测量所述光刻胶的光刻胶瓶的温度；当所述测量的光刻胶瓶的温度大于0℃时记录所述光刻胶瓶的使用时间；以及当所述记录的所述光刻胶瓶的使用时间达到或者超过所述理论保存期限时发出报警信号。该系统包括识别单元、温度测量单元、控制单元、存储单元和报警单元。根据本发明专利技术的用于监测光刻胶保存时间的方法和系统，不仅可以大大地减少人工监测导致的错误和误差，而且可以节省工程师或者科研人员的时间与精力，并且可以重复多次使用，从而节约了成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光刻胶的保存，特别涉及用于监测光刻胶保存时间的方法和系统。
技术介绍
在印刷电路和集成电路的制造以及印刷制版等过程中，广泛地使用光刻胶。光刻 胶又称光致抗蚀剂，是由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液 体。感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，特 别是溶解性和亲和性等发生明显变化。光刻胶主要用于将光刻掩膜板上的图形转移到晶片 (wafer)表面的氧化层中，并且在后续工序中保护下面的材料。由此可见，光刻胶在半导体 的制造工艺中扮演了十分重要的角色。但是光刻胶的保存条件比较严格，在温度、湿度、光 线以及保存时间上都有限制，特别是开瓶使用后的光刻胶，一旦吸潮，其物理化学性能均下 降很快以至于发生变质，使用超过保存期限而发生变质的光刻胶会导致在显影时光刻胶脱 落、金属沟槽浮渣以及通孔偏差(via missing)等严重问题，影响了产品的合格率。通常，在0°C以下，许多光刻胶的保存期限在三到六个月或者更长时间。在室温 (230C )条件下，主要因为温度高于长时间保存光刻胶的温度，因此光刻胶的保存期限通常 不超过一个月甚至本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种用于监测光刻胶的保存时间的方法，包括如下步骤：识别光刻胶的类型；确定与所述识别的光刻胶的类型相对应的理论保存期限；测量所述光刻胶的光刻胶瓶的温度；当所述测量的光刻胶瓶的温度大于０℃时记录所述光刻胶瓶的使用时间；以及当所述记录的所述光刻胶瓶的使用时间达到或者超过所述理论保存期限时发出报警信号。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：武咏琴，张力群，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造上海有限公司，
类型：发明
国别省市：31