一种InGaN太阳能电池外延片及其制备方法技术

技术编号:6983486 阅读:298 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了一种InGaN太阳能电池外延片及其制备方法。所述外延片的结构从下至上依次为衬底、缓冲层、n型层、吸收层Ⅰ、吸收层Ⅱ和p型层,所述吸收层Ⅰ为量子阱层结构,吸收层Ⅱ是非故意掺杂InGaN。本发明专利技术在现有量子阱太阳能电池的结构基础上增加了i型InGaN吸收层的结构,由于量子阱吸收层Ⅰ和InGaN吸收层Ⅱ的吸收限不同,可以有效拓宽吸收谱;同时,由于i型InGaN层也可以吸收光子,引入此层可以增加吸收层的总厚度,从而提高了光电转换效率,提高了太阳能电池的整体性能。本发明专利技术提供了所述外延片的制备方法,简单易行,成本较低,制备条件精确,可实现工业化生产。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于半导体光电子器件
,特别是涉及一种InGaN太阳能电池及其制备方法。
技术介绍
近年来,以GaN、InGaN为代表的III族氮化物太阳能电池成为人们研究的热点。研究表明,InN的禁带宽度为0. 7eV,这意味着通过调节hfahN三元合金中的InN组分,其对应的吸收光谱的波长几乎完整地覆盖了整个太阳光谱。由于h组分的连续可调,能够达到设计的理想禁带宽度组合,而易获得更高的转换效率,多结InGaN电池光电转换效率最高可达太阳能电池的最大转化效率72%。现有的InGaN太阳能电池基本都是单结的,即吸收层只有一个,如一层未掺杂 InGaN层或hGaN/GaN量子阱。InGaN太阳能电池主要是普通的P_I_N结构,如图6所示, 一般包括衬底、缓冲层、η型层、吸收层、ρ型层。其中衬底材料可采用蓝宝石、SiC、Si、GaN 等。吸收层可以采用一定厚度的非故意掺杂的hGaN层,也可采用hGaN/GaN量子阱结构。 虽然InGaN带边吸收强烈,但是其吸收谱却很窄,采用一定厚度的非故意掺杂的InGaN层, 或采用InGaN/GaN量子阱结构,只能在较窄的光波范围产生较强的吸收。要提本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种InGaN太阳能电池外延片,其特征在于所述外延片的结构从下至上依次为衬底、缓冲层、n型层、吸收层Ⅰ、吸收层Ⅱ和p型层,所述吸收层Ⅱ位于吸收层Ⅰ和p型层之间。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:李述体张康
申请(专利权)人:华南师范大学
类型:发明
国别省市:81

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