【技术实现步骤摘要】
本技术属于多晶硅化工领域，涉及一种还原炉炉筒清洗装置。
技术介绍
多晶硅，是单质硅的一种形态，是极为重要的优良半导体材料。多晶硅是电子工业中广泛用于制造半导体收音机、录音机、电冰箱、彩电、录像机、电子计算机等的基础材料。目前，在西门子法生产多晶硅过程中，大多采用化学气相沉积法生产多晶硅棒。化学气相沉积法是指用多晶硅还原炉底板上的电极来通电，将置于电极上的发热载体(硅芯棒，直径约8mm)加热至1100°C以上，通入三氯氢硅和高纯氢气，发生还原反应，采用化学气相沉积技术生成的高纯硅沉积在硅芯棒上，使硅棒不断长大，直到硅棒的直径达到150 mm 左右，然后断电断原料停炉，取出硅棒。对于采用化学气相沉积技术生产高纯多晶硅，通过化学气相沉积反应得到高纯多晶硅棒后，需要将多晶硅棒从多晶硅还原炉底板取出，再次装载硅芯棒进行生产。每个生产周期完成之后，需要清洁还原炉炉筒及底板，以除去表面污染物。目前多晶硅企业一般使用的炉筒清洗方法是通过喷淋装置，使用热碱液及脱盐水对炉筒内壁进行喷淋清洗，之后再用白布蘸取无水乙醇将炉筒内壁及底部接触面擦洗干净，最后在炉筒内架梯或平台，作业人员人工手持氮气软管，进入炉筒内再将炉筒彻底吹干。由于炉壁温度较高，达到30(TC左右，炉壁上会沉积不定型低温硅，这种装置只能除掉部分污染物，无法完全清除掉炉筒内壁沉积的低温硅等大部分污染物。随着生长周期次数增多，炉壁上沉积的污染物会越积越多。根据热辐射原理，炉壁越粗糙，炉壁吸收的热量就越多，需要通过通更多的电来维持炉内反应气场温度，因而生长过程中的能耗就会增加，成本增高，产能也会受到影响。
技术实现思路
本技...
【技术保护点】
１．一种还原炉炉筒清洗装置，其特征在于：包括支架（１）、电机（２）、圆盘（３）和刷把（４），所述电机（２）设置在支架（１）的顶部，用于驱动圆盘（３）旋转，所述圆盘（３）设置在电机（２）的上方，所述刷把（４）设置在圆盘（３）的两侧，刷把（４）与喷淋管连接，还原炉炉筒（５）的两侧设置有导轨槽，还原炉炉筒的外侧设置有与导轨槽相匹配的导轨（６）。
【技术特征摘要】
1.一种还原炉炉筒清洗装置，其特征在于包括支架(1)、电机(2)、圆盘(3)和刷把 (4)，所述电机(2)设置在支架(1)的顶部，用于驱动圆盘(3)旋转，所述圆盘(3)设置在电机 (2)的上方，所述刷把(4)设置在圆盘(3)的两侧，刷把(4)与喷淋管连接，还原炉炉...
【专利技术属性】
技术研发人员：宋光海，陈清利，
申请(专利权)人：四川瑞能硅材料有限公司，
类型：实用新型
国别省市：51
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