涂布装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种涂布装置，涉及液晶面板制造领域，以解决涂布过程生产节拍大，生产效率低的问题。该涂布装置，包括：喷涂模块和清洗模块，所述清洗模块包括第一清洗子模块和第二清洗子模块，其中，所述第一清洗子模块、第二清洗子模块分别位于待喷涂基板相对应的两端之外。本实用新型专利技术实施例用于基板涂布。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及液晶面板制造领域，尤其涉及一种光刻胶用涂布装置。
技术介绍
在TFT-IXD (薄膜场效应管液晶显示器)面板加工过程当中，主要包括镀膜、涂胶、 显影及刻蚀等几道工艺，从而得到相应的TFT图案。其中，在MASK工艺当中，需在镀膜完成之后的基板之上先涂布感光材料，之后进行曝光，再将曝光后的基板进行显影。这其中，涂布感光材料部分又包括预涂胶、高速甩胶、低压干燥和端面清洁四个单元。对于涂胶过程而言，设备使用率和生产节拍是影响涂胶设备产能的重要指标。其中，设备使用率受生产管理，设备维护，备件库存等因素影响，存在上限。涂胶过程是将感光材料线性涂布在基板上。传统的涂胶方式是以一张基板为周期，喷涂模块从基板一端运动到另一端，同时将感光材料涂布在基板上，然后返回到初始位置的清洗模块中进行化学品处理，从而保证其下次涂布均勻性。其中，喷涂模块在完成一张基板的感光材料涂布之后，从基板一端返回到另一端初始位置的清洗模块中的动作严格意义上属于无效动作。因此，现有技术增加了涂胶单元的生产节拍，降低了生产效率。
技术实现思路
本技术的实施例提供一种涂布装置，以解决涂布过程生产节拍大，生产效率低的问题。为达到上本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种涂布装置，包括：喷涂模块和清洗模块，其特征在于，所述清洗模块包括第一清洗子模块和第二清洗子模块，其中，所述第一清洗子模块、第二清洗子模块分别位于待喷涂基板相对应的两端之外。

【技术特征摘要】
1.一种涂布装置，包括喷涂模块和清洗模块，其特征在于，所述清洗模块包括第一清洗子模块和第二清洗子模块，其中，所述第一清洗子模块、第二清洗子模块分别位于待喷涂基板相对应的两端之外。2.根据权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，所述第一清洗子模块、第二清洗子模块平行设置。3.根据权利要求1或2所述的涂布装置，其特征在于，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：战戈，张琨鹏，焦宇，
申请(专利权)人：北京京东方光电科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：11