【技术实现步骤摘要】
本专利技术特别涉及表面具有不同三维纳米渐变体阵列结构的，属于高分子材料纳米结构膜领域。
技术介绍
光学高分子材料由于表面普遍存在光学反射，在实际应用中不仅会造成反光炫目，降低视野或图像显示的清晰度或图像显示的清晰度，而且会导致能量损耗、光能利用效率的降低，因此抗反射膜的设计已成为光学和光电器件设计的关键因素。传统的高分子抗反射膜大多采用多层结构或者多孔结构，多层结构抗反射膜折射率不能连续变化，并且层间存在黏附性和热失配等问题，不适合工作条件比较复杂的环境；而多孔膜的制备技术，如 breath-figure法、相分离法、溶胶-凝胶法、共混法，很难有效调控折射率的变化趋势，并且往往需要借助有机溶剂，环境污染比较严重。此外，以上两种结构抗反射膜的制造工艺繁琐，不适用于高性能高分子基材抗反射膜的大面积制造，很难真正实现产业化。纳米仿生研究发现，某些昆虫的复眼或翅膀表面具有的三维纳米突起阵列结构是一种非常高效的抗反射结构，由于其折射率从空气到本体材料连续逐渐变化，能够对入射光进行调制，实现宽光谱广角抗反射。通过模拟这种生物体表层纳米结构，有望设计出具有宽光谱广角减反性能的...
【技术保护点】
１．一种宽光谱广角抗反射高分子纳米仿生膜，其特征在于：该纳米仿生膜的构筑单元为三维渐变纳米突起阵列结构和／或三维渐变纳米孔道阵列结构，所述三维渐变纳米突起阵列结构和三维渐变纳米孔道阵列结构分别由复数个尺寸均匀，中轴线与基面垂直，轮廓连续或非连续变化，尺寸从上至下逐渐变大或逐渐变小，并且呈有序的二维排列组合的纳米突起和纳米孔道组成；该纳米仿生膜的折射率从基底折射率到空气折射率渐变。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：高雪峰，金鑫，李娟，朱杰，陈周群，周传强，
申请(专利权)人：中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所，
类型：发明
国别省市：32
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