【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种，特别涉及一种可使制程简化的。
技术介绍
具有基板及形成于基板相对两侧的双面图案化结构常常会用于电子产品中。例如，电容式触控显示面板，其包括玻璃基板以及形成于玻璃基板相对两侧的图案化电极。在双面图案化结构的制造过程中，为缩短制造时间，通常是在基板的相对两侧先形成第一电极材料层与第二电极材料层，然后再对第一电极材料层与第二电极材料层进行图案化制程，以形成第一图案化电极层与第二图案化电极层。现有技术中，对第一电极材料层与第二电极材料层进行图案化制程的方法是先在第一电极材料层上形成第一保护膜，接着进行微影制程来图案化第二电极材料层，以形成第二图案化电极层。之后，移除第一保护膜并在第二图案化电极层上形成第二保护膜，然后再进行另一微影制程来图案化第一电极材料层，以形成第一图案化电极层。接着，移除第二保护膜。然而，第一保护膜与第二保护膜的形成过程与移除过程无疑会增加双面图案化结构的制造时间，以至于降低双面图案化结构的生产效率。此外，由于需花费第一保护膜与第二保护膜的材料成本，导致双面图案化结构生产成本提高。
技术实现思路
本专利技术提供一种，其可使制程简化，以...
【技术保护点】
１．一种双面图案化结构的制造方法，其特征在于包括：提供基板，该基板的相对的两个表面分别形成第一材料层与第二材料层；在该第一材料层上形成对位标识；在该第二材料层与部分该第一材料层暴露在外时，用该对位标识为光掩模对位基准来图案化该第一材料层与该第二材料层，以形成第一图案化层与第二图案化层。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：张原彰，林事评，周袆平，徐伟智，
申请(专利权)人：新应材股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71
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