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一种双面图案化结构的制造方法，首先是提供基板，其相对的两个表面分别形成有第一材料层与第二材料层；接着，在第一材料层上形成对位标识；然后，在部分第一材料层与第二材料层暴露在外时，用对位标识为光掩模对位基准来图案化第一材料层与第二材料层，以形成...
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