一种ZnS红外光学窗口制造技术

本实用新型专利技术公开了一种ZnS红外光学窗口。所述的ZnS红外光学窗口的抗反射表面由ZnS衬底上柱状或孔洞面形的二维亚波长结构单元通过周期性排列而构成。制备时，先通过光刻技术把图形复制在涂覆于双面光学抛光的ZnS衬底上的光刻胶膜层中后，采用反应离子刻蚀技术在ZnS衬底上刻蚀出二维亚波长结构表面。本实用新型专利技术制备的具有抗反射表面的ZnS红外光学窗口，在8～12μm波段具有很好的红外透射性能。本实用新型专利技术所提供的具有抗反射表面的ZnS红外光学窗口，其抗反射表面由柱状或孔洞面形的二维亚波长结构单元周期性排列而成，结构参数较大、高宽比较小，准备方法简单、经济、效率高，抗反射效果理想。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于红外光学窗口
，特别涉及一种具有抗反射表面的硫化锌 (ZnS)红外光学窗口。
技术介绍
硫化锌(ZnS)是长波红外波段(8 12 μ m)的最有前途的红外光学窗口材料之一，但是由于其表面反射太高，所以用作红外光学窗口时必须进行抗反射处理。目前，ZnS抗反射主要是通过抗反射薄膜来实现。但是抗反射薄膜是在衬底材料表面沉积一层或多层不同的其他材料，而多层材料间的折射率匹配、界面及附着性等一直是光学薄膜所面临的问题。抗反射表面是一种完全不同于抗反射薄膜的技术，是在衬底材料本身的表面上刻蚀制备出来的一种微纳米结构排列而成的表面，与衬底浑然一体；此外，可通过调整抗反射表面的结构参数(周期、占空比及高度)而达到与衬底折射率的匹配。因此，抗反射表面克服了抗反射薄膜所面临的折射率匹配、界面及附着性等问题。与本专利技术最接近的现有技术，是文献“红外透射材料抗反射表面织构的设计、 制备禾口测量性能” (Douglas S. Hobbs and Bruce D. MacLeod. "Design, fabrication, and measured performance of ant本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种ＺｎＳ红外光学窗口，用双面光学抛光的ＺｎＳ衬底进行单面刻蚀而成；其特征在于，所述的ＺｎＳ红外光学窗口的抗反射表面为由若干个柱状面形或孔洞面形结构单元周期性排列而成；柱状面形或孔洞面形结构单元周期性排列时，在平行于ＺｎＳ衬底上表面的ｘ方向和ｙ方向上，周期Ｔ、占空比ｆ以及二维亚波长结构单元的宽度ｗ、结构单元间的间隔ｄ分别相等，即具有对称性，其中占空比ｆ＝ｗ／Ｔ；所述的柱状面形或孔洞面形结构单元的周期Ｔ为３．０～４．０μｍ，占空比ｆ为５０～８０％，高度ｈ为１．０～２．５μｍ。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李阳平，刘正堂，徐启远，武倩，
申请(专利权)人：西北工业大学，
类型：实用新型
国别省市：87