基于谐振频率的压力传感器制造技术

技术编号:6843492 阅读:233 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了一种用于感测过程流体的压力的压力传感器,所述压力传感器包括被暴露到过程流体的压力的传感器主体。传感器主体响应于所述压力变形。从传感器主体悬挂的膜片具有响应于传感器主体的变形而改变的张力。膜片的谐振频率被测量。测量的谐振频率指示过程流体的管路压力和隔离填充流体系统的完整性。除测量谐振频率之外,振动模式本身可以用作用于评定传感器健康状态的诊断工具。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在工业过程控制系统中使用类型的压力变送器。更具体地,本专利技术涉及一种在压力变送器中使用的压力传感器。
技术介绍
压力变送器在工业过程控制系统中用于监测过程流体的压力。压力变送器包括连接到过程流体并提供响应过程流体施加的压力的输出的压力传感器。一种众所周知类型的压力变送器为可从Chanhassen,Minnesota的Rosemount股份有限公司获得的Model 3051 变送器。例如,在美国专利第5,094,109号中也显示了压力变送器。在测量压差的许多设备中,还常常需要获得管路压力测量值(即,管或管道中的过程流体的压力)。例如,管路压力可以用于确定过程流体的质量流或者用于其它控制应用。然而,当除了压差测量之外还需要管路压力测量时,典型地需要另外的压力传感器。该另外的压力传感器需要额外的部件并连接到过程流体。这些额外部件导致增加了复杂性和费用,并且增加出现故障的可能性。进一步地,许多压力感测技术通过隔离结构连接到过程流体,所述隔离结构使用暴露于过程流体的隔离膜片和将压力传感器连接到隔离膜片的隔离填充流体。该隔离结构可能潜在性地成为过程装置中的误差、复杂性和潜在故障本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于感测过程流体的压力的压力传感器,包括:可变形传感器主体,所述可变形传感器主体被暴露到所述过程流体的压力,其中所述传感器主体响应于所述压力而变形;膜片,所述膜片通过所述传感器主体被悬挂,并且具有响应于所述传感器主体的变形而改变的张力;和谐振频率传感器,所述谐振频率传感器被构造成感测所述膜片的谐振频率,所述谐振频率指示所述过程流体的压力。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:安德鲁·J·克洛辛斯基查尔斯·R·威勒克斯
申请(专利权)人:罗斯蒙德公司
类型:发明
国别省市:US

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1