曲线阵列馈源双焦抛物反射面空间功率合成天线制造技术

本实用新型专利技术为一种曲线阵列馈源双焦抛物反射面空间功率合成天线，其由反射面和馈源阵列组成；天线的反射面是用一条在水平面上焦距较短的抛物线沿着垂直面上的另一条焦距较长抛物线形成的一个双焦抛物反射面，馈源阵列是将多个喇叭天线排列在由上述长焦抛物线平移到上述短焦抛物线的焦点处形成的抛物线上所组成抛物曲线馈源阵列，每个喇叭天线的相位根据惠更斯——菲聂耳原理进行设置，每个喇叭天线在最大辐射方向上达到最大的同相合成。馈源阵列进行空间功率合成，产生的辐射照射双焦抛物反射面，双焦抛物反射面反射电磁波形成需要的波束以提高天线增益。该天线结构简单，增益高。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及空间功率合成
，具体的说是一种用于空间功率合成的抛 物曲面型反射面天线，是一种将空间中由喇叭阵列辐射出的电磁波进行反射叠加合成的反 射面天线技术。
技术介绍
在雷达、电子对抗和远距离通信中，需要获得大功率的定向电磁辐射波束。当单 个信号源不能产生足够的功率时，需要采用功率合成的方法，把多路较低功率的信号合成 为所需要的大功率辐射，方法有两种一是采用基于电路或波导的功率合成技术，把多路信 号利用电路或波导的合成网络进行功率合成，再通过天线辐射出去，但合成网络本身存在 损耗，降低了功率合成的效率；二是基于自由空间功率合成技术，通过采用空间功率合成天 线，多路功率信号直接通过天线单元辐射到自由空间去，通过控制各路辐射的相位，直接在 自由空间合成定向辐射的大功率电磁波束，由于没有了合成网络的损耗，合成效率较高。空间功率合成天线的主要指标是等效全向辐射功率ERIP，为了提高ERIP，除了增 加功率合成的功放路数外，另外一个有效的办法是增加天线的增益。要提高天线的增益，就 必须提高天线的口径。在微波波段，空间功率合成天线可以采用由多个喇叭天线组成的等 幅同相馈电的线型阵列来进行空间功率合成，用抛物柱面作为反射面来增大天线的口径以 提高天线的增益。放在抛物柱面焦线上喇叭天线阵列辐射出来的电磁波经抛物柱面反射后 在空间合成高功率的尖锐波束。为了进一步提高天线的增益，就必须进一步提高抛物柱面 的长度。然而，抛物柱面天线要求馈源阵列的长度与抛物柱面的长度相同，否则由于抛物柱 面得不到充分的照射而无法提高天线的增益。增大馈源阵列的长度需要更多的喇叭单元或 者更大的阵列单元间距。更多的喇叭单元意味着更多的功放路数，这会大幅度提高系统的 成本；如果增大阵元间距的话，由天线阵列理论，当阵元间距大于1个波长时，天线方向性 图会出现栅瓣，使功率在不需要的方向辐射，这一方面浪费能量，降低功率合成效率，另一 方面会产生不必要的干扰。由于这个因素的限制，现有技术无法得到高增益、窄波束的大功 率辐射。为了解决这一问题，对于线阵空间功率合成天线来说，就必须改进反射面和馈源阵 列的设计。
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有技术的缺点，提供一种新型的反射面空间功率合 成天线，这种天线的反射面是用一条在水平面上焦距较短的抛物线沿着垂直面上的另一条 焦距较长抛物线形成的一个双焦抛物反射面，馈源阵列是将多个喇叭天线排列在由上述长 焦抛物线平移到上述短焦抛物线的焦点处形成的抛物线上所组成抛物曲线馈源阵列，每个 喇叭天线的相位根据惠更斯——菲聂耳原理进行设置，每个喇叭天线在最大辐射方向上达 到最大的同相合成。馈源阵列进行空间功率合成，产生的辐射照射双焦抛物反射面，双焦抛 物反射面反射电磁波形成需要的波束以提高天线增益。为实现本技术的目的采用的技术方案一种曲线阵列馈源双焦抛物反射面空 间功率合成天线，其特征是，由反射面和馈源阵列组成；所述反射面是将位于χ-y平面(水 平面)的第一抛物曲线的顶点放在位于y-ζ平面(垂直平面)的第二抛物曲线上，在保持 第一抛物曲线所在的平面与第二抛物曲线垂直的状态下，由第一抛物曲线沿第二抛物曲线 扫描形成的双焦抛物曲面，其中，第一抛物曲线的焦距F2 <第二抛物曲线的焦距Fl ；所述 馈源阵列是指按第三抛物曲线排列的喇叭天线，所述第三抛物曲线是第二抛物曲线在y-z 平面上沿第二抛物曲线的轴线平移到第一抛物曲线的焦点所形成的抛物曲线；所述喇叭天 线排列时其相位中心在第三抛物曲线上，所有喇叭天线的指向平行，且方向在第一抛物曲 线的张角的中间；所述每个喇叭天线的馈电相位Φ按照如下公式配置权利要求1.一种曲线阵列馈源双焦抛物反射面空间功率合成天线，其特征是，由反射面和馈源 阵列组成；所述反射面是将位于χ-y平面的第一抛物曲线的顶点放在位于y-ζ平面的第二 抛物曲线上，在保持第一抛物曲线所在的平面与第二抛物曲线垂直的状态下，由第一抛物 曲线沿第二抛物曲线扫描形成的双焦抛物曲面，其中，第一抛物曲线的焦距Fl <第二抛物 曲线的焦距F2 ；所述馈源阵列是指按第三抛物曲线排列的喇叭天线，所述第三抛物曲线是 第二抛物曲线在y-z平面上沿第二抛物曲线的轴线平移到第一抛物曲线的焦点所形成的 抛物曲线；所述喇叭天线排列时其相位中心在第三抛物曲线上，所有喇叭天线的指向平行， 且方向在第一抛物曲线的张角的中间；所述每个喇叭天线的馈电相位Φ按照如下公式配 置17 φ — - i——I A式中Φ为喇叭天线的馈电相位，λ为电磁波波长，1为喇叭天线的相位中心到第二抛 物曲线的焦点的距离。2.根据权利要求1所述的曲线阵列馈源双焦抛物反射面空间功率合成天线，其特征 是，所述反射面是指采用对电磁波有良好反射的铜、铝或铁制成的反射面。3.根据权利要求1所述的曲线阵列馈源双焦抛物反射面空间功率合成天线，其特征 是，所述第二抛物曲线焦距Fl的选取应保证所述馈源阵列对第二抛物曲线的焦点的张角 等于第二抛物曲线对该焦点的张角；第一抛物曲线的焦距F2的选取应保证第一抛物曲线 对它的焦点的张角等于所述喇叭天线在x_y平面上辐射方向性图主波瓣的IOdb宽度。专利摘要本技术为一种曲线阵列馈源双焦抛物反射面空间功率合成天线，其由反射面和馈源阵列组成；天线的反射面是用一条在水平面上焦距较短的抛物线沿着垂直面上的另一条焦距较长抛物线形成的一个双焦抛物反射面，馈源阵列是将多个喇叭天线排列在由上述长焦抛物线平移到上述短焦抛物线的焦点处形成的抛物线上所组成抛物曲线馈源阵列，每个喇叭天线的相位根据惠更斯——菲聂耳原理进行设置，每个喇叭天线在最大辐射方向上达到最大的同相合成。馈源阵列进行空间功率合成，产生的辐射照射双焦抛物反射面，双焦抛物反射面反射电磁波形成需要的波束以提高天线增益。该天线结构简单，增益高。文档编号H01Q13/02GK201877576SQ20102058589公开日2011年6月22日 申请日期2010年10月28日 优先权日2010年10月28日专利技术者熊尚书, 褚庆昕, 谢泽明 申请人:华南理工大学本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种曲线阵列馈源双焦抛物反射面空间功率合成天线，其特征是，由反射面和馈源阵列组成；所述反射面是将位于ｘ－ｙ平面的第一抛物曲线的顶点放在位于ｙ－ｚ平面的第二抛物曲线上，在保持第一抛物曲线所在的平面与第二抛物曲线垂直的状态下，由第一抛物曲线沿第二抛物曲线扫描形成的双焦抛物曲面，其中，第一抛物曲线的焦距Ｆ１＜第二抛物曲线的焦距Ｆ２；所述馈源阵列是指按第三抛物曲线排列的喇叭天线，所述第三抛物曲线是第二抛物曲线在ｙ－ｚ平面上沿第二抛物曲线的轴线平移到第一抛物曲线的焦点所形成的抛物曲线；所述喇叭天线排列时其相位中心在第三抛物曲线上，所有喇叭天线的指向平行，且方向在第一抛物曲线的张角的中间；所述每个喇叭天线的馈电相位φ按照如下公式配置：（ｍａｔｈ）??（ｍｒｏｗ）?（ｍｉ）＆ｐｈｉ；（／ｍｉ）?（ｍｏ）＝（／ｍｏ）?（ｍｏ）－（／ｍｏ）?（ｍｉ）ｊ（／ｍｉ）?（ｍｆｒａｃ）?（ｍｒｏｗ）?（ｍｎ）２（／ｍｎ）?（ｍｉ）＆ｐｉ；（／ｍｉ）?（／ｍｒｏｗ）?（ｍｉ）＆ｌａｍｂｄａ；（／ｍｉ）?（／ｍｆｒａｃ）?（ｍｉ）ｌ（／ｍｉ）?（／ｍｒｏｗ）?（／ｍａｔｈ）式中：φ为喇叭天线的馈电相位，λ为电磁波波长，ｌ为喇叭天线的相位中心到第二抛物曲线的焦点的距离。...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：谢泽明，褚庆昕，熊尚书，
申请(专利权)人：华南理工大学，
类型：实用新型
国别省市：81