一种无蜡抛光操作台制造技术

本实用新型专利技术公开了一种无蜡抛光操作台，所述操作台包括一操作台主体，所述操作台主体的台面的一侧设置有第一旋转台，所述操作台还包括一剥离装置，所述剥离装置包括第二旋转台、两个可转动定位端子以及淋洗管道，所述操作台主体的台面的另一侧为斜面，所述第二旋转台设置在所述斜面上，所述两个可转动定位端子对称的设置在所述斜面上，并与所述第二旋转台相配合，所述淋洗管道沿所述斜面的高端侧设置，所述斜面的低端开设有一排水口。本实用新型专利技术能够在使用单面抛光机进行无蜡抛光时减少操作带来的不良，并减少操作时间，同时具有方便快捷、易于实施的特点。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种抛光机构，主要涉及一种用于硅片抛光的抛光操作台。
技术介绍
硅片作为在我们最为常用的一种半导体器材，已融入到我们生活的方方面面之 中，比如随着微电子技术的进步，体积小巧而功能强大的硅片，不单单正悄悄走进航空航 天、工业、农业和国防等重要领域，也正悄悄步入每一个寻常的家庭中。这是由于，在米粒大 的硅片上，可以集成上数万个晶体管，从而是整块硅片具有惊人的计算能力，也具有神话般 的存储能力，从而辅助各种工作器件进行计算工作。尤其是现在主流的硅片，在其小巧的体 积上可以集成15. 6万个晶体管，这便是多学科协同努力的结晶，也是科学技术进步硅片制 造过程的又一个里程碑。无蜡抛光操作台是为硅片在单面抛光机进行抛光时手动贴付硅片和剥离硅片使 用的。目前对于使用单面抛光机进行无蜡抛光在贴付和剥离时只是采用一个平坦的台面进 行。这种方法有三种不足之处(1)在进行手动贴付的时候需要使用水枪进行冲洗，会导致水溅到操作者及周 围；(2)在剥离的时候无法进行淋洗，导致硅片表面有研磨剂残留影响硅片的质量；(3)现有做法对操作者操作极为不便，容易造成硅片表面伤等不良。
技术实现思路
本技术针对现有操作台使用单面抛光机进行抛光时所存在的缺陷，而提供一 种新型的无蜡抛光操作台，该操作台能够在使用单面抛光机进行无蜡抛光时减少因操作带 来的不良，并减少操作时间，同时具有方便快捷、易于实施的特点。为了达到上述目的，本技术采用如下的技术方案一种无蜡抛光操作台，所述操作台包括一操作台主体，所述操作台主体的台面的 一侧设置有第一旋转台，所述操作台还包括一剥离装置，所述剥离装置包括第二旋转台、两 个可转动定位端子以及淋洗管道，所述操作台主体的台面的另一侧为斜面，所述第二旋转 台设置在所述斜面上，所述两个可转动定位端子对称的设置在所述斜面上，并与所述第二 旋转台相配合，所述淋洗管道沿所述斜面的高端侧设置，所述斜面的低端开设有一排水口。所述操作台主体的台面上设置外侧挡板，所述外侧挡板分布在所述淋洗管道的外 侧。所述操作台还包括工具抽屉，所述工具抽屉设置在所述操作台主体台面的下方。所述操作台主体上设置有可刹静音轮。本技术只需在硅片抛光加工时加以使用，便能够大大减少使用单面抛光机进 行硅片的传统无蜡抛光时，因操作的不便所带来的影响到硅片加工质量的问题，并可以有 效减少操作时间，提高加工的效率，同时具有方便快捷、易于实施的特点。使用本无蜡抛光操作台后，在硅片进行手动贴付和剥离时能够减少手动操作步 骤，从而减少划伤污迹等不良的产生，同时使操作变的简便。以下结合附图和具体实施方式来进一步说明本技术。附图说明图1为本技术的俯视图；图2为本技术的平视图；图3为本技术的侧视图。具体实施方式为了使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下 面结合具体图示，进一步阐述本技术。参阅图1，本技术提供的无蜡抛光操作台的结构，其主要由操作台主体1，第 一旋转台2，第二旋转台3，两个可转动定位端子4、5，淋洗管道6，外侧挡板7组成。其中操作台主体1用于承载所有设备的一个支架，其上的台面分为两部分，第一 部分Ia为平面，该平面上设置有第一旋转台2，从而形成操作台的贴付部分，用于抛光。参见图3，操作台主体1台面的第二部分Ib为一斜面，其上设置有第二旋转台3。 同时，淋洗管道6沿斜面的高端设置，其上开设有进水口 8。两个可转动定位端子4、5对称 设置在该斜面上，并与第二旋转台3相配合。在斜面的低端处开设有排水口 9，这便于水及 时排出。通过上述技术方案形成操作台的剥离部分。进一步，本技术在操作台主体1的台面上设置有外侧挡板7，以便阻止水的溅出ο参见图2，本技术在操作台主体1上设置有放置操作工具的工具抽屉10，其位 于台面的下方。为了便于操作台的移动，本技术在操作台主体1上设置可刹静音轮11。由上述技术方案形成的无蜡抛光操作台分为左右2个部分，右边是进行抛光的， 左边是进行剥离的，抛光边是水平的一个平面，而剥离面是一个向里倾斜的斜面。本技术在使用时，操作台主体1是承载所有设备的一个支架，第一旋转台2是 实施贴付抛光的主要设备，贴付时陶瓷板放置在第一旋转台2上，通过转动第一旋转台2， 作业者把硅片逐枚贴付在陶瓷板载具上。抛光结束后，作业者把陶瓷板放到第二旋转台3上进行剥离，该设备在剥离过程 带有自动淋洗装置，能够使无蜡抛光机进行无蜡抛光时减少操作带来的不良，并减少操作 时间，同时具有方便快捷、易于实施的特点。如果需要进行双面抛光，紧接着把陶瓷板挪到 右侧，进行反面贴付。以上显示和描述了本技术的基本原理、主要特征和本技术的优点。本行 业的技术人员应该了解，本技术不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述 的只是说明本技术的原理，在不脱离本技术精神和范围的前提下，本技术还 会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本技术范围内。本技术要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。权利要求1.一种无蜡抛光操作台，所述操作台包括一操作台主体，所述操作台主体的台面的一 侧设置有第一旋转台，其特征在于，所述操作台还包括一剥离装置，所述剥离装置包括第二 旋转台、两个可转动定位端子以及淋洗管道，所述操作台主体的台面的另一侧为斜面，所述 第二旋转台设置在所述斜面上，所述两个可转动定位端子对称的设置在所述斜面上，并与 所述第二旋转台相配合，所述淋洗管道沿所述斜面的高端侧设置，所述斜面的低端开设有 一排水口。2.根据权利要求1所述的一种无蜡抛光操作台，其特征在于，所述操作台主体的台面 上设置外侧挡板，所述外侧挡板分布在所述淋洗管道的外侧。3.根据权利要求1所述的一种无蜡抛光操作台，其特征在于，所述操作台还包括工具 抽屉，所述工具抽屉设置在所述操作台主体台面的下方。4.根据权利要求1所述的一种无蜡抛光操作台，其特征在于，所述操作台主体上设置 有可刹静音轮。专利摘要本技术公开了一种无蜡抛光操作台，所述操作台包括一操作台主体，所述操作台主体的台面的一侧设置有第一旋转台，所述操作台还包括一剥离装置，所述剥离装置包括第二旋转台、两个可转动定位端子以及淋洗管道，所述操作台主体的台面的另一侧为斜面，所述第二旋转台设置在所述斜面上，所述两个可转动定位端子对称的设置在所述斜面上，并与所述第二旋转台相配合，所述淋洗管道沿所述斜面的高端侧设置，所述斜面的低端开设有一排水口。本技术能够在使用单面抛光机进行无蜡抛光时减少操作带来的不良，并减少操作时间，同时具有方便快捷、易于实施的特点。文档编号B24B29/02GK201863106SQ201020547710公开日2011年6月15日 申请日期2010年9月29日 优先权日2010年9月29日专利技术者冒飞 申请人:上海申和热磁电子有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种无蜡抛光操作台，所述操作台包括一操作台主体，所述操作台主体的台面的一侧设置有第一旋转台，其特征在于，所述操作台还包括一剥离装置，所述剥离装置包括第二旋转台、两个可转动定位端子以及淋洗管道，所述操作台主体的台面的另一侧为斜面，所述第二旋转台设置在所述斜面上，所述两个可转动定位端子对称的设置在所述斜面上，并与所述第二旋转台相配合，所述淋洗管道沿所述斜面的高端侧设置，所述斜面的低端开设有一排水口。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：冒飞，
申请(专利权)人：上海申和热磁电子有限公司，
类型：实用新型
国别省市：31