【技术实现步骤摘要】
一种有蜡抛光的抛光垫专用刷子
本技术涉及一种刷子，尤其是涉及一种有蜡抛光的抛光垫专用刷子。
技术介绍
硅片进行有蜡抛光后，需用用刷子对抛光垫进行刷洗，以防止抛光液在抛光垫上长时间滞留而形成结晶，而结晶会对硅片产生损伤，降低抛光质量。另外，对抛光垫进行刷洗有助于其表面结构的回复，延长了抛光垫的使用寿命，也保证了硅片抛光效果的一致性。现有的刷子是设备自带的一小型刷子，每次抛光完成后会自动对抛光垫进行刷洗，但其不能彻底清除抛光垫表面空隙中残余的抛光液和细微的结晶，不利于抛光垫表面结构的回复。另外，由于自带刷子尺寸较小，刷洗过程中使得抛光垫受力不均，这会对抛光垫的表面状态产生一定影响。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种结构简单、提高抛光质量的有蜡抛光的抛光垫专用刷子。本技术的技术方案是:一种有蜡抛光的抛光垫专用刷子，包括圆盘状的刷体，所述刷体的顶面带有若干凸起或凹陷，所述刷体的底面分布有刷毛，所述刷毛呈环形分布。优选地，所述刷体的材质为聚氯乙烯，所述刷毛的材质为尼龙。优选地，所述刷体的直径为48cm,厚度为3cm,所述刷毛的长度为1.5cm。本技术具有的优点和积极效果是:由于采用上述技术方案，保持了抛光垫的洁净，保持了抛光速率和抛光质量，也提高了抛光垫的使用寿命。由此可见，本方案的使用提高了产品的合格率和生产效率，同时减低了能耗，节约了成本，提高了效益。【附图说明】图1是本技术的结构示意图；图2是本技术的仰视图；图3是本技术的俯视图。【具体实施方式】下面结合附图及【具体实施方式】对本技术作进一步说明。如图1至图3所示，本技术包括圆盘状的刷体1，所述刷体I的顶面...
【技术保护点】
一种有蜡抛光的抛光垫专用刷子，其特征在于：包括圆盘状的刷体（1），所述刷体（1）的顶面带有若干凸起或凹陷，所述刷体（1）的底面分布有刷毛（2），所述刷毛（2）呈环形分布。
【技术特征摘要】
1.一种有蜡抛光的抛光垫专用刷子，其特征在于:包括圆盘状的刷体(1)，所述刷体(I)的顶面带有若干凸起或凹陷，所述刷体(I)的底面分布有刷毛(2)，所述刷毛(2)呈环形分布。2.根据权利要求1所述的有蜡抛光的抛光垫专用刷...
【专利技术属性】
技术研发人员：张宇，王力，石明，曲涛，李翔，
申请(专利权)人：天津中环领先材料技术有限公司，
类型：新型
国别省市：天津;12
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