一种溶液供给单元，包括本体、第一供给管及第二供给管。所述本体包括横截面基本为圆形以容纳溶液的腔室，以及连接至所述腔室以使得所述溶液流出的外流部。所述第一供给管设于所述本体的一侧，其相切地连接至所述腔室，并且将第一溶液供给到所述腔室中以使得所述第一溶液在所述腔室中旋转。所述第二供给管具有端部，并且其将第二溶液供给到所述腔室中以使得所述第一溶液与所述第二溶液混合。所述端部形成为穿过所述本体且靠近所述本体的中心轴。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术的实施例涉及溶液供给单元，以及具有该溶液供给单元的基底处理装置。 本专利技术的实施例尤其涉及能够去除光阻蚀剂的溶液供给单元，以及具有该溶液供给单元的基底处理装置。
技术介绍
半导体光刻处理一般包括光阻蚀剂涂覆、光阻蚀剂的曝光、显影、蚀刻、及光阻蚀剂的去除。以光阻蚀剂作为掩膜，进行曝光、显影及蚀刻，然后去除光阻蚀剂。通常使用多种类型的溶液来去除光阻剂，并且通过溶液供给单元将溶液提供至基底。例如，溶液可为硫酸和过氧化氢的混合物，并且溶液可在溶液供给单元中混合。在溶液供给单元中旋转硫酸和过氧化氢，以利用湍流来混合硫酸和过氧化氢。然而，由于硫酸和过氧化氢的比重各不相同，因此硫酸和过氧化氢难以混合。此外，由于硫酸的比重和离心力，难以将过氧化氢提供到溶液供给单元中。即使将过氧化氢提供到溶液供给单元中，混合硫酸和过氧化氢时的沸腾会产生气泡。由于存在气泡，溶液供给单元内部的压力增大，溶液因此流出。然后，溶液供给单元内部的压力减小。由此，溶液的流出量不均勻。此外，气泡随溶液一起流出，因此，难以精确控制溶液的流出量。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供了一种溶液供给单元，其能够均勻地混合溶液以去除光阻蚀剂并且向基底提供恒定量的溶液。本专利技术的实施例还提供了具有所述溶液供给单元的基底处理装置。根据本专利技术的实施例，溶液供给单元包括本体、第一供给管及第二供给管。所述本体包括横截面基本为圆形以容纳溶液的腔室，以及连接至所述腔室以使得所述溶液流出的外流部。所述第一供给管设于所述本体的一侧，其相切地连接至所述腔室，并且将第一溶液供给入所述腔室以使得所述第一溶液在所述腔室中旋转。所述第二供给管具有端部，并且其将第二溶液供给入所述腔室以使得所述第一溶液与所述第二溶液混合。所述端部形成为穿过所述本体且靠近所述本体的中心轴。实施例中，所述溶液供给单元还包括旋转阻碍部，其设在所述外流部中以减缓所述第一溶液和第二溶液的混合溶液的旋转，从而防止所述混合溶液在旋转状态下流出。实施例中，所述旋转阻碍部为具有多个通孔的板。实施例中，所述溶液供给单元还包括连接至所述外流部的分支管，所述分支管使所述混合溶液相互分开地流出。实施例中，所述溶液供给单元具有多个外流部以防止所述第一和第二溶液的混合溶液在旋转状态下流出。实施例中，所述本体还包括连接至所述腔室的排出部，所述排出部将气泡从所述腔室排出至所述腔室的上部。所述气泡在混合所述第一和第二溶液时产生。实施例中，所述第一溶液的比重大于所述第二溶液。实施例中，所述第一溶液为硫酸，而所述第二溶液为过氧化氢。实施例中，经由所述第一供给管供给所述第一溶液的第一位置比经由所述第二供给管供给所述第二溶液的第二位置高，或者基本相同。实施例中，所述第一供给管的横截面积大于所述第二供给管的横截面积。根据本专利技术的另一实施例，基底处理装置包括支撑部和溶液供给单元。所述支撑部支撑基底，所述基底上形成有光阻蚀剂层。所述溶液供给单元设于所述支撑部上方以将溶液供给至所述基底。所述溶液去除所述光阻蚀剂层。所述溶液供给单元包括本体、第一供给管及第二供给管。所述本体包括横截面基本为圆形以容纳溶液的腔室，以及连接至所述腔室以使得所述溶液流出的外流部。所述第一供给管设于所述本体的一侧，其相切地连接至所述腔室，并且将第一溶液供给入所述腔室以使得所述第一溶液在所述腔室中旋转。所述第二供给管具有端部，并且其将第二溶液供给入所述腔室以使得所述第一溶液与所述第二溶液混合。所述端部形成为穿过所述本体且靠近所述本体的中心轴。根据本专利技术，经由延伸至所述腔室内部的第二供给管提供过氧化氢。由此，提供过氧化氢时，过氧化氢受在所述腔室内部旋转的硫酸的比重和离心力的影响较小。此外，由于硫酸和过氧化氢之间的比重差以及由硫酸与所供给单元的碰撞造成的湍流，硫酸和过氧化氢得以均勻混合。此外，在混合硫酸和过氧化氢过程中生成的气泡经由所述溶液供给单元的出口排出。所述溶液供给单元经由排出部将硫酸和过氧化氢的混合溶液供给至所述基底。由此， 可精确控制所排出溶液的量。此外，使用旋转阻碍部，可排出不处于旋转状态的混合溶液，由此可防止混合溶液分散。附图说明参考附图，通过描述本专利技术的详细实施例可更清楚地了解本专利技术的上述其其他特征，其中图1为示出根据本专利技术实施例的溶液供给单元的侧剖视图；图2为示出图1溶液供给单元的平面剖视图；图3为示出根据本专利技术另一实施例的外流部的放大剖视图；图4为示出根据本专利技术再一实施例的溶液供给单元的侧剖视图；图5为示出根据本专利技术再一实施例的溶液供给单元的侧剖视图；图6为示出根据本专利技术再一实施例的基底处理装置的侧剖视图。具体实施例方式参见示出实施例的附图，下文将更详细地描述各种实施例。然而，本专利技术可以以许多不同形式实现，并且不应解释为受在此提出之实施例的限制。相反，提出这些实施例是为了达成充分及完整公开，并且使本
的技术人员完全了解本专利技术的范围。这些附图中，为清楚起见，可能放大了层及区域的尺寸及相对尺寸。应理解，当将元件或层称为在另一元件或层“上”、“连接至”或“耦合至”另一元件或层之时，其可为直接在另一元件或层上、直接连接或耦合至其它元件或层，或者存在居于其间的元件或层。与此相反，当将元件称为“直接在另一元件或层上”、“直接连接至”或“直接耦合至”另一元件或层之时，并不存在居于其间的元件或层。整份说明书中类似标号表示类似的元件。如本文中所使用的，用语“及/或”包括一或多个相关的所列项目的任何或所有组合。应理解，尽管本文中使用第一、第二、第三等表述来描述多个元件、组件、区域、层及/或部分，但这些元件、组件、区域、层及/或部分并不受这些用语的限制。这些用语仅用于使一个元件、组件、区域、层或部分与另一个区域、层或部分区别开来。由此，下文所称之第一元件、组件、区域、层或部分也可称为第二元件、组件、区域、层或部分，而不脱离本专利技术的教导。与空间相关的表述，如“在· · ·之下”、“在· · ·下方”、“下”、“在· · ·之上”、“上”等，在本文中使用是为了容易地表述如图所示的一个元件或部件与另一元件或部件的关系。应理解，这些与空间相关的表述除图中所示方位之外，还意欲涵盖该设备在使用或工作中的不同方位。例如，若图中的该设备翻转，描述为在其它元件或部件“下方”或“之下”的设备则会确定为在其它元件或部件“之上”。由此，该示范性的表述“在...下方”可同时涵盖 “在...上方”与“在...下方”两者。该设备可为另外的朝向(旋转90度或其它朝向)， 并且本文中所使用的这些与空间相关的表述亦作相应的解释。本文中所使用的表述仅用于描述特定的实施例，并且并不意欲限制本专利技术。如本文中所述的，单数形式的冠词意欲包括复数形式，除非其上下文明示。还应理解，当本说明书中使用表述“包括”之时，明确说明了存在所描述的部件、整体、步骤、操作、元件及/或组件，但并不排除存在或附加有一个或多个其它部件、整体、步骤、操作、元件、组件及/或它们的组合。对于本专利技术的实施例，本文中是参照本专利技术的理想化实施例(以及中间结构)的示意剖视图来描述的。照此，预期会产生例如因制造工艺及/或公差而造成形状上的变化。 由此，本专利技术的实施例不应解释为将其限制成本文所示的特定区域形状，还应包括例如，因制造而导致的形状偏差。例如，示为矩本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种溶液供给单元，包括：本体，其包括横截面基本为圆形以容纳溶液的腔室，以及连接至所述腔室以使得所述溶液流出的外流部；设于所述本体一侧的第一供给管，其相切地连接至所述腔室，并且将第一溶液供给到所述腔室中以使得所述第一溶液在所述腔室中旋转；及具有端部的第二供给管，其将第二溶液供给到所述腔室中以使得所述第一溶液与所述第二溶液混合，并且所述端部形成为穿过所述本体且靠近所述本体的中心轴。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：朴贵秀，卢焕益，姜丙喆，赵源泌，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：KR
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