【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种抗反射膜，尤其涉及一种宽频带抗反射膜及具有该宽频带抗反射膜的光学元件。
技术介绍
目前，大多用于相机等成像装置上的光学元件，如透镜、棱镜等，为防止光线穿过 时入射光线的光量衰减，均在透镜、棱镜等光学元件的入射面或出射面上沉积可见光区域 (约400-750nm)的抗反射膜。该种抗反射膜的特性是对可见光的反射率很低，而对可见 光区域外的光线(如红外光)则具有较高的反射率。但是，光学元件上的抗反射膜一般 都是针对光线垂直入射到光学元件的表面进行设计的，而事实上当光线以一定角度入射 到光学元件的表面时，抗反射膜的光谱曲线将向蓝光方向产生一定的偏移，因此红光区域 (620-750nm)的反射率将会大大增加。 因此，当成像镜头内的光学元件具有所述可见光区域的抗反射膜时，以较大角度 进入该光学元件的红光将会被大量反射，其中一部分红光将在该成像镜头会被多次反射， 并最终传递到成像器件，从而对成像产生不良影响。当数码相机的镜头存在所述可见光区 域的抗反射膜时，所得的影像除了包括一个主像外，可能还会存在一个由所述被多次反射 的红光所成的附属影像，即所谓的鬼影。专...
【技术保护点】
一种用于光学元件的宽频带抗反射膜，其由所述光学元件表面向远离该光学元件表面的方向依次包括第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层及第七膜层；所述第一膜层、第三膜层、第五膜层及第七膜层为折射率约为２．３－２．５的低折射率材料层，所述第二膜层、第四膜层及第六膜层为折射率约为１．３８－１．４６的高折射率材料层；所述第一膜层的膜厚约为０．１２２ｄ－３．０５２ｄ，第二膜层的膜厚约为０．２６７ｄ－０．３７０ｄ，第三膜层的膜厚约为０．４２７ｄ－０．６１０ｄ，第四膜层的膜厚约为０．７６０ｄ－０．９２４ｄ，第五膜层的膜厚约为０．３０５ｄ－０．３７８ｄ，第六膜层的膜厚约为０．...
【技术特征摘要】
一种用于光学元件的宽频带抗反射膜，其由所述光学元件表面向远离该光学元件表面的方向依次包括第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层及第七膜层；所述第一膜层、第三膜层、第五膜层及第七膜层为折射率约为2.3-2.5的低折射率材料层，所述第二膜层、第四膜层及第六膜层为折射率约为1.38-1.46的高折射率材料层；所述第一膜层的膜厚约为0.122d-3.052d，第二膜层的膜厚约为0.267d-0.370d，第三膜层的膜厚约为0.427d-0.610d，第四膜层的膜厚约为0.760d-0.924d，第五膜层的膜厚约为0.305d-0.378d，第六膜层的膜厚约为0.575d-0.718d，第七膜层的膜厚约为1.160d-1.342d，其中，d＝λ/(4n)，λ为约450-600nm的入射光波长，n表示对应膜层的折射率。2. 如权利要求1所述的宽频带抗反射膜，其特征在于，所述高折射率材料选自五氧化 三钛、二氧化钛、五氧化二钽等材料中之一种或几种的混合。3. 如权利要求1所述的宽频带抗反射膜，其特征在于，所述低折射率材料为二氧化硅。4. 如权利要求1所述的宽频带抗反射膜，其特征在于，所述第一膜层、第二膜层、第三 膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层及第七膜层的厚度依次约为0. 244d、0. 348d、0. 509d、 0. 812d、0. 366d、0. 618d、l. 318d。5. 如权利要求1所述的宽频带抗反射膜，其特征在于，所述第一膜层、第二膜层、第三 膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层及第七膜层的厚度依次约为2. 685d、0. 312d、0. 506d、0. 869d、0. 333d、0. 657d、l. 221d。6. 如权利要求l...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈冠廷，黄俊翔，叶信宗，张炜修，林光伟，林玫君，
申请(专利权)人：鸿富锦精密工业深圳有限公司，鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：94[中国|深圳]
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