【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种显影装置和一种图像形成设备。
技术介绍
日本专利申请特开平10-31368号公报公开的显影装置包括可旋转地面向作为感光体的旋转鼓设置的第一套筒部件和第二套筒部件。第二套筒部件在外径方面小于第一套筒部件,并布置在第一套筒部件下方。在第一套筒部件和第二套筒部件内分别固定有固定式永磁体。JP-A No. 2002468386的显影装置包括面向感光体可旋转地设置的两个显影套筒。在两个显影套筒内设置磁极,设在感光体旋转方向上游侧的显影套筒内的磁极角大于设在感光体旋转方向下游侧的显影套筒内的磁极角。
技术实现思路
本专利技术提供一种显影装置和一种图像形成设备,其中可容易地将两个显影剂保持体的表面上的显影剂保持量调节至目标值。根据本专利技术第一方面的显影装置包括第一显影剂保持体,该第一显影剂保持体包括第一筒部件和第一磁体,所述第一筒部件面向旋转的潜像保持体的外周面布置,并旋转而使得该第一筒部件在面向所述潜像保持体的位置处的运动方向为与该潜像保持体的运动方向相反的方向,所述第一磁体布置在所述第一筒部件内,并产生在所述第一筒部件外沿周向分布的磁场,所述第一显影剂保持体保持显影剂,用于使所述潜像保持体上的潜像显影;第二显影剂保持体,该第二显影剂保持体包括第二筒部件和第二磁体,所述第二筒部件面向所述潜像保持体的外周面布置,与所述第一显影剂保持体相比位于所述潜像保持体的旋转方向的下游侧,并且旋转而使得所述第二筒部件在面向所述潜像保持体的位置处的运动方向为与该潜像保持体的运动方向相同的方向,所述第二磁体布置在所述第二筒部件内,并产生在所述第二筒部件外沿周向分布的磁 ...
【技术保护点】
1.一种显影装置,该显影装置包括:第一显影剂保持体,该第一显影剂保持体包括第一筒部件和第一磁体,所述第一筒部件面向旋转的潜像保持体的外周面布置,并旋转而使得该第一筒部件在面向所述潜像保持体的位置处的运动方向为与该潜像保持体的运动方向相反的方向,所述第一磁体布置在所述第一筒部件内,并产生在所述第一筒部件外沿周向分布的磁场,所述第一显影剂保持体保持显影剂,用于使所述潜像保持体上的潜像显影;第二显影剂保持体,该第二显影剂保持体包括第二筒部件和第二磁体,所述第二筒部件面向所述潜像保持体的外周面布置,与所述第一显影剂保持体相比位于所述潜像保持体的旋转方向的下游侧,并且旋转而使得所述第二筒部件在面向所述潜像保持体的位置处的运动方向为与该潜像保持体的运动方向相同的方向,所述第二磁体布置在所述第二筒部件内,并产生在所述第二筒部件外沿周向分布的磁场,所述第二显影剂保持体保持所述显影剂,用于使所述潜像保持体上的潜像显影;以及调节机构,该调节机构调节所述第一磁体与所述第二磁体在周向上的相对位置。
【技术特征摘要】
2010.03.18 JP 2010-0629881.一种显影装置,该显影装置包括第一显影剂保持体,该第一显影剂保持体包括第一筒部件和第一磁体,所述第一筒部件面向旋转的潜像保持体的外周面布置,并旋转而使得该第一筒部件在面向所述潜像保持体的位置处的运动方向为与该潜像保持体的运动方向相反的方向,所述第一磁体布置在所述第一筒部件内,并产生在所述第一筒部件外沿周向分布的磁场,所述第一显影剂保持体保持显影剂,用于使所述潜像保持体上的潜像显影;第二显影剂保持体,该第二显影剂保持体包括第二筒部件和第二磁体,所述第二筒部件面向所述潜像保持体的外周面布置,与所述第一显影剂保持体相比位于所述潜像保持体的旋转方向的下游侧,并且旋转而使得所述第二筒部件在面向所述潜像保持体的位置处的运动方向为与该潜像保持体的运动方向相同的方向,所述第二磁体布置在所述第二筒部件内,并产生在所述第二筒部件外沿周向分布的磁场,所述第二显影剂保持体保持所述显影剂,用于使所述潜像保持体上的潜像显影;以及调节机构,该调节机构调节所述第一磁体与所述第二磁体在周向上的相对位置。2.如权利要求1所述的显影装置,其中,所述调节机构通过移动所述第一磁体侧来调节所述第一磁体和所述第二磁体在所述周向上的相对位置。3.如权利要求1所述的显影装置,其中,在所述第一显影剂保持体面向所述第二显影剂保持体的位置,所述第一磁体的磁通密度为该第一磁体的最大磁通密度的预定比例的范围在所述周向上比所述第二磁体的磁通密度为该第二磁体的最大磁通密度的预定比例的范围窄。4.如权利要求1所述的显影装置,其中,在所述第一磁体的面向所述潜像保持体的位置,所述第一磁体的磁通密度为该第一磁体的最大磁通密度的预定比例的范围在所述周向上比在所述第二磁体的面向所述潜像保持体的位置所述第二磁体的磁通密度为该第二磁体的最大磁通密度的预定比例的范围宽。5.一种图像形成设备,该图像形成设备包括作为潜像保持体的感光体;对所述感光体进行充电的充电单元;曝光单元,该曝光单元在所述感光体的表面被充电之后对该表面进行曝光;权利要求1至4中任一项所述的显影装置,该显影装置利用显影剂使通过所述曝光单元进行的曝光而在所述感光体上形成的潜像显影;以及转印单元,该转印单元...
【专利技术属性】
技术研发人员:大场正太,稻叶繁,越智隆,
申请(专利权)人:富士施乐株式会社,
类型:发明
国别省市:JP
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