两面曝光装置制造方法及图纸

提供一种具有掩模库的两面曝光装置，缩短工件的曝光处理所需要的整体时间，防止生产能力的降低。将被搬运至工件搬入搬出部（２０）的工件（Ｗ）搬运至工件平台（４），将形成于从掩模库（６）所取出的第１面（表面）曝光用掩模的图案对工件（Ｗ）进行曝光。并且，在反转平台部（３０）反转（翻转）工件（Ｗ），并将工件（Ｗ）保管在工件保管部（４０）。这样，曝光１批量的所有工件的第１面（表面）。之后，将掩模更换成第２面（背面）曝光用的掩模，从工件保管部（４０）取出第１面曝光结束的工件，曝光工件的第２面（背面）。完成背面的曝光的工件（Ｗ），利用第１工件搬运机构（５０ｂ），被搬运到工件搬入搬出部（２０）。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种对印刷基板等的工件(work)的两面进行曝光的两面曝光装置。
技术介绍
在印刷基板等中，有在工件的两面制作电路等的图案的情况。为此的曝光装置作为“两面曝光装置”而被公知。作为其中的一例，有记载于专利文献1的两面投影曝光装置。被记载于该专利文献的两面投影曝光装置具备：光照射部，曝光平台，第1及第2掩模，保持这两枚掩模的掩模平台，投影透镜以及使工件反转的反转平台等。该曝光装置在使用第1掩模曝光工件的第1面(表面)之后，通过反转平台使工件反转，使用第2掩模曝光第2面(背面)。由此，在工件的表面曝光形成于第1掩模的图案，而在工件的背面曝光形成于第2掩模的图案。专利文献1：日本专利第4158514号公报在专利文献1所记载的两面投影曝光装置中，工件的曝光处理是所谓的“先入先出”，从先搬入装置的工件开始，依次地对表面与背面进行曝光，并从装置搬出。所以，用于表面的曝光的第1掩模及用于背面的曝光的第2掩模，按每一枚工件的处理来进行切换(更换)。在该文献的图2、图3所记载的实施例的装置中，掩模平台能够装载表面用的第1掩模与背面用的第2掩模这两枚掩模，掩模的更换通过滑动移动掩模平台来进行。所以，掩模的更换时间约为较短的两秒钟。在表面曝光用的掩模与背面曝光用的掩模的更换时间如上述那样较短的情况下，即使按每一枚工件的处理地实施掩模的更换，也不会降低生产能力(through-put)。即，工件的曝光处理的整体时间不会增加。这是因为，掩模的更换能够在曝光装置进行其它动作的期间进行。但是，在专利文献1所记载的曝光装置中，由于滑动移动掩模而进行更换，因而无法实现使用大量掩模、一面更换掩模一面对每一工件曝光不同的大量的图案。另一方面，如图9所示地，为了能够利用曝光装置来应对大量的图案的曝光，有按如下方式构成的结构：将大量掩模保管在掩模库(以下称为库)，利用被称为处理器(handler)的掩模搬运机构，从库中取出需要的掩模，将其替换地装载于掩模平台。在图9中，1是光照射部，例如由灯1a与反射镜1b所构成，从光照射部1所放射的光，经由被载置于掩模平台2上的掩模、投影透镜3，照射到工件平台4上的工件W。在掩模库6中收纳有多个掩模M1，M2，M3，…，更换掩模平台2上的掩模M时，掩模搬运机构5利用工件手柄(work hand)等来保持掩模平台2上的掩模M，沿着轨道5a移动，从而将掩模M收纳于掩模库6的规定位置。另外，掩模搬运机构5从掩模库6取出下一次所使用的掩模，沿着轨道5a移动并被载置于掩模平台2。在采用图9所示的掩模的库与搬运机构的曝光装置的情况下，由于掩模的更换，是进行从掩模平台拆下要更换的掩模并将其搬运回收至库，并将新掩模搬运并载置于掩模-->平台这样的操作，因而对于每一次掩模花费大约30秒钟至30秒钟以上的时间。若掩模的更换时间为大约30秒钟，则在上述专利文献1所述的曝光装置中，该时间无法被合并在曝光装置所进行的其它动作的时间中，从而成为等待掩模更换结束的等待时间。结果，处理一枚工件的时间会变长，而降低生产能力。如上所述地，在切换专利文献1所记载的掩模而进行更换的结构中，能够迅速地进行掩模更换，但难以使用多枚掩模进行曝光，另外，如图9所示地，在具有掩模的库的结构中，能进行多枚掩模的更换，但掩模更换费时，从而存在生产能力降低的问题。
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述情况而做出的，本专利技术的目的在于，在具备能够保管大量掩模而对其进行更换的掩模库的两面曝光装置中，提供一种能够缩短工件的曝光处理所需要的整体时间，防止生产能力降低的两面曝光装置。在本专利技术中，为了解决上述技术问题，对曝光装置设计掩模库与掩模搬运机构，在掩模库中收藏多枚掩模。并且，设置对完成了第1面(表面)的曝光的工件进行保管的工件保管部，而且，在载置并曝光工件的工件平台与工件保管部之间，设置进行工件的反转的反转平台部，在工件平台与反转平台部、反转平台部与工件保管部之间，设置搬运工件的工件搬运机构。于是，如下地进行曝光处理。(1)在掩模平台上载置表面曝光用的第1掩模。使工件表面朝上地被搬入至工件平台，对工件的表面进行曝光。若表面的曝光结束，则将工件从工件平台搬运至反转平台部，反转平台部使工件反转。(2)反转后的工件被搬运至工件保管部。工件保管部依次保管反转后的工件。将此针对于1批的所有工件(1批由20枚～50枚的工件所构成)来进行。即，针对于全部工件，仅先曝光表面，经反转而以第2面(背面)朝上的状态进行暂时保管。(3)然后，将掩模平台的掩模更换成背面曝光用的第2掩模，之后，从工件保管部取出背面朝上的工件，搬运至工件平台，进行背面的曝光。完成背面的曝光的工件被搬出至装置的外面。一直进行直到被保管在工件保管部的所有工件没有为止。即，背面的曝光按与曝光表面的顺序(保管于工件保管部的顺序)相反的顺序来处理。另外，在曝光表面或背面的途中，例如以A→B→C…的方式更换掩模，在1批的工件的表面(或是背面)以A图案，B图案，C图案，…的方式曝光不同的图案也可以。另外，也可以将完成表面的曝光的工件不进行反转地保管在工件保管部，为了曝光背面，在从工件保管部移动至工件平台时，在反转平台部进行反转。即，在本专利技术中，如下地解决上述技术问题。(1)一种两面曝光装置，具备：照射曝光光的光照射部；保持形成有图案的掩模的掩模平台；载置工件的曝光平台；用于在工件的第1面(表面)曝光图案的第1掩模；用于在第2面(背面)曝光图案的第2掩模；保管上述第1掩模与第2掩模的掩模库；在上述掩模库与上述掩模平台之间搬运掩模的掩模搬运机构；将形成于第1与第2掩模的掩模图案投影在被载置于上述曝光平台的工件的面上的投影透镜；将第1面曝光了的工件反转的反-->转平台部；以及对来自上述光照射部的曝光光的照射、利用上述掩模搬运机构的第1掩模及第2掩模的更换、利用上述反转平台部的工件的反转、上述工件的搬运进行控制的控制部，其特征在于：具备对多个第1面曝光了的工件进行保管的工件保管部，上述控制部针对于由多个工件构成的1批的工件的所有工件，首先曝光第1面并保管在上述工件保管部，对1批工件的所有工件完成第1面的曝光之后，将第1掩模更换成第2掩模，曝光第2面。(2)在上述(1)中，由多个掩模群构成工件的第1面(表面)曝光用掩模，上述控制部在上述1批的工件的第1面的曝光途中，更换第1掩模，在上述1批的工件的第1面，曝光不同的掩模图案。(3)在上述(1)中，由多个掩模群构成工件的第2面(背面)曝光用掩模，上述控制部在上述1批的工件的第2面的曝光途中，更换第2掩模，在上述1批的工件的第2面，曝光不同的掩模图案。(4)在上述(1)，(2)，(3)中，上述控制部同时地进行曝光后的工件的利用上述反转平台部的反转及上述第1掩模与第2掩模的更换。在本专利技术中，能够得到以下的效果。(1)由于首先针对于1批的所有工件进行表面的曝光、然后进行背面的曝光，因而掩模的更换在1批的曝光处理中进行1次即可。因此，即使掩模的更换时间变长，也不会极度地增加工件的曝光处理的整体时间。所以能够防止生产能力的降低。(2)由于具备保管大量掩模的掩模库，因而在工件的第1面(表面)或第2面的曝光途中更换掩模，能够在1批的工件表面(或背面)进行不同的图案曝光。在这种情况下，由于在本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种两面曝光装置，具备：光照射部，照射曝光光；掩模平台，保持形成有图案的掩模；工件平台，载置工件；第１掩模，用于对工件的第１面曝光图案；第２掩模，用于对工件的第２面曝光图案；掩模库，保管上述第１掩模与第２掩模；掩模搬运机构，在上述掩模库与上述掩模平台之间搬运掩模；投影透镜，将形成于第１掩模与第２掩模的掩模图案，投影到载置于上述工件平台的工件的面上；反转平台，将第１面被曝光了的工件反转；及控制部，对来自上述光照射部的曝光光的照射、利用上述掩模搬运机构的第１掩模及第２掩模的更换、利用上述反转平台的工件的反转、上述工件的搬运进行控制，其特征为：具备对第１面被曝光了的多个工件进行保管的工件保管部，上述控制部，对由多个工件所构成的１批工件的所有工件，首先曝光第１面，并保管在上述工件保管部，对１批工件的所有工件完成了第１面的曝光之后，将第１掩模更换成第２掩模，曝光第２面。

【技术特征摘要】
JP 2009-8-28 197960/20091.一种两面曝光装置，具备：光照射部，照射曝光光；掩模平台，保持形成有图案的掩模；工件平台，载置工件；第1掩模，用于对工件的第1面曝光图案；第2掩模，用于对工件的第2面曝光图案；掩模库，保管上述第1掩模与第2掩模；掩模搬运机构，在上述掩模库与上述掩模平台之间搬运掩模；投影透镜，将形成于第1掩模与第2掩模的掩模图案，投影到载置于上述工件平台的工件的面上；反转平台，将第1面被曝光了的工件反转；及控制部，对来自上述光照射部的曝光光的照射、利用上述掩模搬运机构的第1掩模及第2掩模的更换、利用上述反转平台的工件的反转、上述工件的搬运进行控制，其特征为：具备对第1面被曝光了的多个工件进行保...

【专利技术属性】
技术研发人员：佐藤善彦，友永竹彦，
申请(专利权)人：优志旺电机株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]