光刻设备和监控方法技术

本发明专利技术公开了一种光刻设备和监控方法，所述光刻设备包括辐射束监控设备，所述辐射束监控设备包括被配置以产生衍射图案的光学元件和成像检测器，所述成像检测器被设置在所述光学元件的后面，但不在所述光学元件的焦平面中，使得所述成像检测器能够检测所述辐射束的空间相干性和发散度的综合结果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底的目标上的机器。例如，可以将光刻设备 用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成 装置用于生成对应于IC的单层的电路图案，且可以将该图案转移到具有辐射敏感材料(抗 蚀剂)层的衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯) 上。通常，单个衬底将包含被连续曝光的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括所谓 步进机，在所述步进机中，通过将整个图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标 部分；以及所谓扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述 图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。光刻设备使用辐射束照射图案形成装置，并且因此提供被投影到衬底上的图案化 的辐射。选择辐射束的性质，用于在衬底上提供高品质的图像。可以被选择的辐射束的性 质之一是辐射束内的辐射的角度分布。这一性质通常被称为照射模式。通常使用的照射模 式包括环状模式、双极模式以及四极模式。在将给定的图案投影到衬底上时，所选择的照射模式将依赖本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻设备，所述光刻设备包括辐射束监控设备，所述辐射束监控设备包括：光学元件，所述光学元件被配置以产生衍射图案；和成像检测器，所述成像检测器被设置在所述光学元件的后面，但不位于所述光学元件的焦平面中，使得所述成像检测器能够检测所述光刻设备的辐射束的空间相干性和发散度的综合结果。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：BJ克拉塞斯，P范德维恩，HP高德福莱德，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]