【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及干涉膜厚仪等，特别是涉及对作为测量对象的检查工件的光反射率进 行测量的反射率测量装置及反射率测量方法。
技术介绍
如专利文献1所示，所谓的干涉膜厚仪，向作为测量对象的膜体等检查工件照射 测量光，或得干涉光的光谱，根据测量得到的光谱求出检查工件的膜厚，所述干涉光由被检 查工件表面反射的反射光与透过检查工件的内部并在相反一侧的界面上反射后从表面出 来的透过反射光形成。在这样的干涉膜厚仪中，需要测量检查工件的光学反射率。为此，以往如图1所 示，从光源1’分别向反射率已知且固定的校正试样SP,及对光完全不反射的黑试样SPb照 射光，测量在各种情况下的光检测器2’的输出值。然后用以下公式(计算式1)求出检查 工件SPs的光学反射率Rs。此外，测量黑试样SPb是因为由于在没有反射光的状态下，光检 测器2’的输出值显示偏移量，所以要消除该偏移量。其中，Is是关于检查工件SPs的光检测器2’的输出值，Ir是关于校正试样SPr的 光检测器2’的输出值，Ib是关于黑试样SPb的光检测器2’的输出值，R,是校正试样SP,的 光学反射率(已知)。专利文献1 日本专利公开公...
【技术保护点】
一种干涉膜厚仪，其特征在于包括：下述（１）～（４）所示的检测头、光检测器、内部反射机构以及反射率计算部，（１）所述检测头，用于把测量光射向对象物，并且导入来自所述测量光所照射的所述对象物的反射光；（２）所述光检测器，检测接收到的光的强度，所述光检测器的光接收部被配置在导入所述检测头内的所述反射光到达的位置；（３）所述内部反射机构，位于所述检测头内的一部分所述测量光到达的位置，并且配置在使被所述内部反射机构反射的光到达所述光检测器的光接收部的位置，所述内部反射机构的光反射率是固定的；（４）所述反射率计算部，在从属测量期间内，测量：第一输出值，该第一输出值是在实际上光没有被导入...
【技术特征摘要】
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