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本发明提供一种干涉膜厚仪及反射率测量方法。本发明的干涉膜厚仪（１００），可以省略每次测量检查工件的光反射率时都必须进行的附带测量（特别是测量校正试样），可以促进缩短测量时间及简化装置结构。在检测头（４）内部配置光反射率固定的内部反射机构（８...
该专利属于株式会社堀场制作所所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社堀场制作所授权不得商用。

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