位置侦测的装置及方法制造方法及图纸

技术编号:6217644 阅读:139 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供一种位置侦测的装置与方法,位置侦测的装置包含多数条导电条相叠构成的多数个相叠区,其中相叠于任一相叠区的一对导电条在电性接触形成一接触点时构成一被压触相叠区。依据被压触相叠区,可判断出每一个压触。藉由判断每一个被压触相叠区的接触阻抗,可判断出每一个压触的总接触阻抗,其中跨相叠区的压触的总接触阻抗为相应相同压触的所有相叠区的接触阻抗的并联阻抗。

【技术实现步骤摘要】
该申请为原母案申请,申请号:201010152216.1,申请日:2010年4月16日的分案申请
本专利技术涉及一种位置侦测的装置与方法,特别是涉及一种压触式的位置侦测的装置与方法。
技术介绍
美国专利公开号US2007/0198926中,Jouget et al.揭示了一种压触式位置侦测的装置,包括一上电极层与一下电极层,上、下电极层分别包括多数条不同方向的平行排列导线,并且上下层间分布绝缘粒子(spacer),藉以将上、下电极层隔开。因此当上电极层受到下压时,部份上电极层的导线会与下电极的导线接触,其中所有下电极层导线接地。上电极层的导线是循序被驱动,并且在任一条上电极层导线被驱动时,所有下电极层导线皆会被循序侦测一次,藉此可侦测所有上、下电极层导线相交的相叠点。因此被驱动的上电极层导线与被侦测的下电极层导线因下压而接触时,电流会由被驱动的电极层导线流向被侦测的下电极层导线,藉由侦测下电极层导线的讯号,便可以侦测到哪些相叠点被压触。然而如图1所示,当手指压触时可能同时造成一群相叠点同时被压触,在侦测的过程中会造成在后被侦测的下电极层导线的讯号变小,因此必须针对不同位置的相叠点给予不同的比较值,才能在讯号较小时仍可分辨是否被压触。然而这样的解决办法还是可能因为在前被压触的相叠点数过多而不准确,显然地,各相叠点的比较值的建立、储存都需要花上许多成本,但却又无法保证准确度。此外,当分辨率要求比较高时,就必须增加导线的密度,相对地侦测的频率就必须降低。由此可见,上述现有技术显然存在有不便与缺陷,而极待加以进一步改进。为了解决上述存在的问题,相关厂商莫不费尽心思来谋求解决之道,但长久以来一直未见适用的设计被发展完成,而一般产品及方法又没有适切的结构及方法能够解决上述问题,此显然是相关业者急欲解决的问题。因此如何能创设一种新的技术,实属当前重要研发课题之一,亦成为当前业界极需改进的目标。
技术实现思路
本专利技术的第一目的为提供一种位置侦测的装置与方法,位置侦测的装置包括:一感应器,包括多数条导电条相叠构成的多数个相叠区,其中相叠于任一相叠区的一对被压触导电条因电性接触形成一接触点时构成一被压触相叠区;一驱动器,分别提供一高电位与一低电位;一侦测器,侦侧至少一导电条的一讯号;一选择器,操作性耦合些导电条于驱动器与侦测器;以及一控制器,包括对驱动器、侦测器与选择器进行至少以下控制:直接或通过一延伸电阻间接分别提供高电位与低电位于同一导电条的一第一端-->与一第二端;直接或通过一延伸电阻间接分别提供高电位与低电位于至少一第一导电条的第一端与至少一第二导电条的第一端;侦测些导电条之一与延伸电阻间的讯号;在一对被压触导电条之一被提供高电位与低电位时,侦测对被压触导电条的另一的第一端或第二端之一或两者的电位;以及通过延伸电阻间接提供高电位与低电位于同一导电条的第一端与第二端时,通过侦测导电条与延伸电阻间的讯号,以判断一未被压触电位与一被压触电位。前述的相叠的导电条间由多数个绝缘粒子相隔,未被压触时彼此电性绝缘,并且在被压触时构成被压触相叠区。在上述位置侦测装置中,位置侦测的方法是通过侦测出被压触的相叠区,再依据被压触相叠区分别侦测出位于被压触相叠区上的接触点。被压触相叠区的侦测可以是先侦测被压触的导电条,依据被压触的导电条判断出可能被压触相叠区,再由可能被压触相叠区侦测出被压触相叠区。通过侦测被压触导电条,可以缩小搜寻被压触相叠区的范围,并且通过侦测被压触相叠区,可以缩小搜寻接触点的范围。因此,本专利技术的位置侦测的装置与方法可以快速地侦测出所有的接触点,各接触点的位置可以用二维坐标来表示。由于本专利技术采用较宽的导电条,导电条涵盖的侦测范围大于现有技术,因此得到优于先前技术的分辨率。此外,本专利技术能同时侦测出多个不同压触物压触的接触点,可用以追踪后续压触,并判断出不同的手势。本专利技术的第二目的在提供一种判断压触的总接触阻抗的装置与方法,在前述的本专利技术的位置侦测装置中,更包括:判断压触在该些相叠区上的每一个压触,以及每一个压触的一总接触阻抗,其中跨相叠区的压触的该总接触阻抗为多数个相叠区的一接触阻抗的并联阻抗。前述的控制器更包括依据每一压触的该总接触阻抗追踪每一压触的后续压触,其中每一压触与每一后续压触的该总接触阻抗的差在一预设范围内,并且相应于相同压触的该被压触相叠区为相邻的相叠区。依据总接触阻抗,可判断出笔、手指或手掌的压触。在总接触阻抗小于一门坎限值时,可判断为多压触于一群相邻的被压触相叠区,反之,为单压触相叠区。本专利技术的第三目的在提供一种依据位置判断接触阻抗的装置与方法,在前述的本专利技术的位置侦测装置中,接触阻抗是依据被压触相叠区的一对导电条之一与另一在接触点的电位与接触点或相叠区的位置来判断。本专利技术的接触阻抗可以是依据接触点位置或相叠区位置来判断,前者可以得到较精确的接触阻抗,后者可以在不知道接触点前就判断出大致的接触阻抗,省去侦测将被忽视的接触点位置,可大幅度提升效能。此外,在接触点或相叠区位置为已知的前提下,仅需判断被压触导电条之一与另一位于接触点上的电位,即能判断出接触阻抗,省去其它的讯号侦测。本专利技术的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据前述的本专利技术提出的一种判断接触阻抗的装置与方法,该控制器对于该接触阻抗的判断包括:判-->断接触点/或相叠区的一第一维度位置与一第二维度位置,并且依据第一维度位置与第二维度位置判断出一第一维度阻抗与一第二维度阻抗;在一对导电条之一与另一分别被提供高电位与低电位时侦测接触点或相叠区在该对导电条上之一与另一的一第一接触电位与一第二接触电位;以及判断出接触阻抗,其中接触阻抗为(R1+R2)/(((VH-VL)/(P1-P2))-1),其中R1、R2、VH、VL、P1、P2分别为第一维度阻抗、第二维度阻抗、高电位、低电位、第一接触电位与第二接触电位。本专利技术的第四目的在提供一种具手掌忽视的位置侦测的装置与方法,在前述的本专利技术的位置侦测装置中,控制器更包括判断该些压触中被排除的压触,其中被排除的压触的总接触阻抗小于一门坎限值。本专利技术能依据总接触阻将各压触区分为笔、手指或手掌的压触,因此能据此将手掌的压触忽视,在书写过程中手掌不需要悬空,手掌可置放在感应器上书写。本专利技术的第五目的在提供一种校正位置误差的装置与方法,在前述的本专利技术的位置侦测装置中,当导电条存在因跨同层导电条的压触的并联阻抗时,侦测到的接触点位置会偏向跨同层导电条的压触,造成误差。本专利技术的接触点误差校正能校正误差,校正出正确的压触的位置。本专利技术的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据前述的本专利技术的位置侦测装置,控制器对于被压触相叠区的接触点的判断包括:轮流选择对导电条之一与另一分别作为一被驱动导电条与一被侦测导电条;在提供一高电位与一低电位于被驱动导电条两端时侦测被侦测导电条的电位作为一位置电位;电性耦合一延伸电阻与被驱动导电条以构成一延伸导电条;在延伸导电条未被压触时提供高电位与低电位于延伸导电条以侦测延伸电阻与被驱动导电条间的电位作为一未压触电位;在延伸导电条被压触时提供高电位与低电位于延伸导电条以侦测延伸电阻与被驱动导电条间的电位作为一被压触电位;以及依据位置电位、被驱动导电条的未压触电位本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种位置侦测的方法,其特征在于包含:提供复数条导电条相叠构成的复数个相叠区;依据相叠于每个相叠区的一对导电条间是否为通路判断是否为一被压触相叠区;判断相应于每一个被压触相叠区的一接触点的位置;进行一过滤程序以提供位置落于相应的相叠区的一预设范围内的该接触点的位置;以及依据被提供的接触点位置判断出至少一压触的位置。

【技术特征摘要】
US 2009-9-23 61/245,063;US 2010-2-5 61/301,6611.一种位置侦测的方法,其特征在于包含:提供复数条导电条相叠构成的复数个相叠区;依据相叠于每个相叠区的一对导电条间是否为通路判断是否为一被压触相叠区;判断相应于每一个被压触相叠区的一接触点的位置;进行一过滤程序以提供位置落于相应的相叠区的一预设范围内的该接触点的位置;以及依据被提供的接触点位置判断出至少一压触的位置。2.如权利要求1所述的位置侦测的方法,其特征在于更包括判断每一被压触相叠区相应的一压触,其中相应于相同压触的该被压触相叠区为相邻的相叠区。3.如权利要求2所述的位置侦测的方法,其特征在于当至少一压触具有至少一接触点的位置落于相应的相叠区外时,只提供所有接触点皆落于相应的相叠区内的该压触的一压触位置。4.如权利要求3所述的位置侦测的方法,其特征在于该压触位置是依据相应于同压触的所有接触点的位置来判断。5.如权利要求3所述的位置侦测的方法,其特征在于更包括:判断每一个被压触相叠区的一接触阻抗;以及判断每一个压触的一总接触阻抗,该总接触阻抗为相应相同压触的所有相叠区的该接触阻抗的并联阻抗。6.如权利要求5所述的位置侦测的方法,其特征在于该总接触阻抗小于一门坎限值的该压触的位置不被判断。7.如权利要求5所述的位置侦测的方法,其特征在于该接触阻抗是依据该对导电条之一与另一在该接触点的电位与该接触点的位置来判断,该接触阻抗的判断包括:判断该接触点的一第一维度位置与一第二维度位置,并且依据该第一维度位置与该第二维度位置判断出一第一维度阻抗与一第二维度阻抗;在该对导电条之一与另一分别被提供一高电位与一低电位时感测该接触点在该对导电条上之一与另一之一第一接触电位与一第二接触电位;以及判断出该接触阻抗,其中该接触阻抗为(R1+R2)/(((VH-VL)/(P1-P2))-1),其中R1、R2、VH、VL、P1、P2分别为该第一维度阻抗、该第二维度阻抗、该高电位、该低电位、第一接触电位、第二接触电位。8.如权利要求5所述的位置侦测的方法,其特征在于该接触阻抗是依据该对导电条之一与另一在该接触点的电位与该被压触相叠区的位置来判断,该接触阻抗的判断包括:依据该被压触相叠区的位置判断出一第一维度阻抗与一第二维度阻抗;在该对导电条之一与另一分别被提供一高电位与一低电位时感测该接触点在该对导电条上之一与另一的一第一接触电位与一第二接触电位;以及判断出该接触阻抗,其中该接触阻抗为(R1+R2)/(((VH-VL)/(P1-P2))-1),其中R1、R2、VH、VL、P1、P2分别为该第一维度阻抗、该第二维度阻抗、该高电位、该低电位、第一接触电位、第二接触电位。9.如权利要求1所述的位置侦测的方法,其特征在于该相叠区的该接触点的判断包括:轮流选择该对导电条之一与另一分别作为一被驱动导电条与一被感测导电条;在提供一高电位与一低电位于该被驱动导电条两端时感测该被感测导电条的电位作为一位置电位;以及依据该些位置电位判断该接触点的位置。10.如权利要求1所述的位置侦测的方法,其特征在于该相叠区的该接触点的判断包括:轮流选择该对导电条之一与另一分别作为一被驱动导电条与一被感测导电条;在提供一高电位与一低电位于该被驱动导电条两端时感测该被感测导电条的电位作为一位置电位;电性耦合一延伸电阻与该被驱动导电条以成为一延伸导电条;在该延伸导电条未被压触时提供该高电位与该低电位于该延伸导电条以感测该延伸电阻与该被驱动导电条间的电位作为一未压触电位;在该延伸导电条被压触时提供该高电位与该低电位于该延伸导电条以感测该延伸电阻与该被驱动导电条间的电位作为一被压触电位;以及依据该位置电位、该被驱动导电条的该未压触电位与该被压触电位判断该接触点在该被驱动导电条的位置。11.一种位置侦测的装置,其特征在于包括:一感应器,包括复数条导电条相叠构成的复...

【专利技术属性】
技术研发人员:叶尚泰陈家铭何顺隆
申请(专利权)人:禾瑞亚科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:71[中国|台湾]

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