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大面积高功率微波等离子体环形微波腔及其构成的装置制造方法及图纸

技术编号:6115117 阅读:228 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术公开了一种大面积高功率微波等离子体环形微波腔,主要由两端均密封的环形谐振腔(1)、以及设置在环形谐振腔(1)内部的基片座(6)构成,所述环形谐振腔(1)设置有进气口(2)和抽气口(3),环形谐振腔(1)的下端和上端分别连接有同轴耦合器(4)和微波抑制器(5),且同轴耦合器(4)的一端延伸至环形谐振腔(1)的外部。本实用新型专利技术还公开了一种基于上述大面积高功率微波等离子体环形微波腔构成的装置。本实用新型专利技术能用于大面积、高功率微波等离子体化学气相沉积,制备大面积高品质金刚石厚膜的,多用途的环形微波腔及其构成的装置。(*该技术在2021年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及微波能技术、微波等离子体技术,具体指一种化学与材料气相沉积技术相结合的大面积高功率微波等离子体环形微波腔及其构成的装置
技术介绍
现有微波腔及装置是采用石英钟罩式腔体及中小微波功率的等离子体化学气相沉积装置,其采用天线耦合结构方式,其主要缺点如下1、可施加微波功率较小,通常只适合与5kW以下微波功率;2、微波天线耦合效率较低,可控性也较差;3、腔体内样品台面积较小,通常直径小于200mm,基片直径在Φ80πιπι直径范围;4、制备金刚石材料的速度较慢,制备金刚石膜时其生长速率只有1 μ m/h以下, 沉积金刚石膜较薄,效率低、耗时长,质量不易控制。
技术实现思路
本技术的目的在于克服上述现有技术的缺点和不足,提供一种用于大面积、 高功率微波等离子体化学气相沉积,制备大面积高品质金刚石厚膜的,多用途的环形微波腔及其构成的装置。本技术的目的通过下述技术方案实现大面积高功率微波等离子体环形微波腔,主要由两端均密封的环形谐振腔、以及设置在环形谐振腔内部的基片座构成,所述环形谐振腔设置有进气口和抽气口,环形谐振腔的上端和下端分别连接有同轴耦合器和微波抑制器,且同轴耦合器的一端延伸至环形谐本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.大面积高功率微波等离子体环形微波腔,其特征在于,主要由两端均密封的环形谐振腔(1)、以及设置在环形谐振腔(1)内部的基片座(6)构成,所述环形谐振腔(1)设置有进气口(2)和抽气口(3),环形谐振腔(1)的下端和上端分别连接有同轴耦合器(4)和微波抑制器(5),且同轴耦合器(4)的一端延伸至环形谐振腔(1)的外部。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:季天仁季宇
申请(专利权)人:季天仁季宇刁宇
类型:实用新型
国别省市:90

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