显示器的修补方法及其修补后的结构技术

技术编号:6089052 阅读:192 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种显示器的修补方法及其修补后的结构,此方法包括提供显示器,所述显示器包括显示面板以及至少一光学膜。光学膜位于显示面板的至少一外表面,且光学膜具有上表层、下表层以及位于上表层以及下表层之间的中间层,且光学膜具有缺陷。接着,进行激光修补程序,以使光学膜的对应缺陷处碳化成黑点,其中激光修补程序是在光学膜的上表层中形成黑点。

Method for repairing display and its repaired structure

A method for repairing a display and its repaired structure includes providing a display comprising a display panel and at least one optical film. The optical film is located on at least one outer surface of the display panel, and the optical film has an upper surface, a lower surface layer and an intermediate layer between the upper surface layer and the lower surface layer, and the optical film has defects. Then, a laser patch is applied so that the corresponding defects of the optical film are carbonized into black spots, wherein the laser patch is formed in the upper surface layer of the optical film.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是涉及一种显示器的修补方法及其修补后的结构
技术介绍
一般液晶面板是由有源元件阵列基板、彩色滤光基板以及配置于前面所述两基板 间的液晶层所构成。此外,前面所述的两基板通常是以框胶粘着,并将液晶封存于其间。另 外,在液晶面板的外表面通常会贴附偏光片,透过偏光片的偏振方向搭配液晶分子的扭转 方向,便可控制显示面板各像素单元的呈现亮态或是暗态。通常,若偏光片中具有缺陷,将 会使得显示面板在操作过程的中在对应所述缺陷处产生亮点缺陷。这主要是因为上述缺陷 会使得显示面板在该处产生漏光,因而该缺陷处即构成亮点缺陷。传统对于偏光片上的缺陷的修补方法是在偏光片的对应缺陷处涂布一层油墨,以 达到遮蔽该缺陷所造成的亮点。然而,因油墨非常容易自偏光片表面脱落,因而此种修补的 效果不理想。
技术实现思路
本专利技术提供一种显示器的修补方法及其修补后的结构,其可以修补显示面板的亮 点缺陷。本专利技术提出一种显示器的修补方法及其修补后的结构,此方法包括提供一显示 器,其包括一显示面板;以及至少一光学膜,位于该显示面板的至少一外表面,其中该光 学膜具有一上表层、一下表层以及位于该上表层以及该下表层之间的一中间层,其中该光 学膜具有一缺陷;以及进行一激光修补程序,以使该光学膜的对应该缺陷处碳化成一黑点, 其中该激光修补程序是在该光学膜的该上表层中形成该黑点。该激光修补程序的波长为 400 800纳米(nm)。该激光修补程序的一激光脉冲时间为< 500fs (飞秒或称为毫微微 秒,即10的-15次方秒)。该激光修补程序的一激光脉冲能量在IMHz的频率下,脉冲能量 为在IMHz的频率下,脉冲能量为> 1.0微焦耳(μ J),其中IMHz的频率为较佳实施方式, 但本专利技术并不依此为限,可依设计的需求做相应的改变。该光学膜的该上表层以及该下表 层的材质包括三乙酰纤维素。该光学膜的该中间层包括聚乙烯醇。该光学膜的总厚度为 100 500微米(μ m)。该激光修补程序是在该光学膜的1 100微米处进行修补。该显 示器进一步包括至少一第一光学膜,位于该光学膜的该上表层、该下表层或是该上表层和 下表层上均有该第一光学膜。该缺陷的尺寸为10 1000微米。该光学膜为偏光片。本专利技术另提出一种修补后的显示器结构,其包括一显示面板;以及至少一光学膜, 位于该显示面板的至少一外表面上,其中该光学膜具有一上表层、一下表层以及位于该上 表层以及该下表层之间的一中间层,且该光学膜的该上表层中具有一碳化黑点。该光学膜 的该上表层以及该下表层的材质包括三乙酰纤维素。该光学膜的该中间层包括聚乙烯醇。 该光学膜的总厚度为100 500微米。该碳化黑点是位于该光学膜的1 100微米深处。 进一步包括至少一第一光学膜,位于该光学膜的该上表层、该下表层或是该上表层和下表层上均有该第一光学膜。该碳化黑点的尺寸为10 1000微米。该光学膜为偏光片。基于上述,本专利技术采用激光修补程序以使光学膜的对应缺陷处碳化成黑点。由于 碳化黑点可以遮蔽光学膜的缺陷所造成的漏光,因而可以使得所述缺陷不会造成显示面板 的亮点缺陷。为让本专利技术的上述特征和优点能更明显易懂,下文特举实施例,并配合所附图式 作详细说明如下。附图说明图1是根据本专利技术一实施例的显示器的修补方法的剖面示意图;图2 图3是对应图1的区域R的放大示意图;图4是根据本专利技术另一实施例的光学膜的剖面示意图。主要元件符号说明100显示面板102第一基板102a,110a夕卜表面104像素阵列层110第二基板112电极层/彩色滤光层120显示介质200、300光学膜202缺陷204碳化黑点210下表层212中间层214上表层220、240光学膜230、250粘着层L激光修补程序R区域Dl、D2厚度/深度具体实施例方式图1是根据本专利技术一实施例的显示器的修补方法的剖面示意图。请参照图1,本实 施例的修补方法首先提供显示器,显示器包括显示面板100以及至少一光学膜200,300。显示面板100包括第一基板102、像素阵列层104、第二基板110、电极层/彩色滤 光层112以及显示介质120。第一基板102与第二基板110彼此相对设置,且第一基板102与第二基板110的材 质各自可为玻璃、石英、有机聚合物、或是不透光/反射材料(例如导电材料、金属、硅片、 陶瓷、或其它可适用的材料)、或是其它可适用的材料。像素阵列层104设置在第一基板102上。像素阵列层104包括多条扫描线(未绘 示)、多条数据线(未绘示)以及多个像素结构(未绘示),且每一像素结构与对应的一条 扫瞄线以及对应的一条数据线电性连接。根据本实施例,每一像素结构具有有源元件以及 像素电极。有源元件可为底部栅极型薄膜电晶体或是顶部栅极型薄膜电晶体,其包括栅极、 沟道、源极以及漏极。电极层/彩色滤光层112设置在第二基板110上。更详细来说,设置在第二基板 110上的膜层112可为电极层、彩色滤光层或是电极层与彩色滤光层。根据一实施例,膜层 112是由彩色滤光层以及覆盖彩色滤光层的电极层所构成。在此,电极层为透明导电层,其 材质包括金属氧化物,例如是铟锡氧化物或者是铟锌氧化物。彩色滤光层可包括红、绿、蓝 色滤光图案。另外,彩色滤光层更可包括设置遮光图案,其又可称为黑矩阵。显示介质120位于第一基板102以及第二基板110之间。显示介质120可包括液 晶分子、电泳显示介质或是其它可适用的显示介质。另外,光学膜200、300位于显示面板100的外表面。更详细来说,光学膜300是设 置在显示面板100的第一基板102的外表面10 上。光学膜200是设置在显示面板100 的第二基板110的外表面IlOa上。换言的,在第一基板102的外表面10 贴附有光学膜 300,而像素阵列层104则是设置在相对于第一基板102的外表面10 的内表面上。在第 二基板110的外表面IOOa贴附有光学膜200,而电极层/彩色滤光层112则是设置在相对 于第二基板110的外表面IOOa的内表面上。根据本实施例,上述的光学膜200、300为偏光 片。值得一提的是,本实施例是以显示面板100的两外表面各自设置有光学膜200、 300为例,但本专利技术不限于此。根据其他实施例,也可以仅在显示面板100的第一基板102 的外表面10 设置光学膜300,或是仅在显示面板100的第二基板110的外表面IlOa设置 光学膜200。特别是,在本实施例中,光学膜200中具有缺陷202。上述的缺陷202可为颗粒、凹 痕或是其他种可能导致显示面板漏光的缺陷。上述的缺陷202的尺寸实质上为10 1000 微米(um),。因此,本实施例以激光修补程序L的方式来修补上述的漏光缺陷,详细说明如 下。图2是图1的区域R的放大示意图。请同时参照图1以及图2,在本实施例中,光 学膜200具有上表层214、下表层210以及位于上表层214以及下表层210之间的中间层 212。根据本实施例,光学膜200的上表层214以及下表层210的材质包括三乙酰纤维素 (TAC),光学膜200的中间层212包括聚乙烯醇(PVA)。以图2的实施例为例,光学膜200的缺陷202是位于上表层214。接着,进行激光修 补程序L,以使光学膜200的对应缺陷处202碳化本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示器的修补方法,包括:提供一显示器,其包括:一显示面板;以及至少一光学膜,位于该显示面板的至少一外表面,其中该光学膜具有一上表层、一下表层以及位于该上表层以及该下表层之间的一中间层,其中该光学膜具有一缺陷;以及进行一激光修补程序,以使该光学膜的对应该缺陷处碳化成一黑点,其中该激光修补程序是在该光学膜的该上表层中形成该黑点。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:梁嘉杉张一凡洪彬哲
申请(专利权)人:友达光电股份有限公司
类型:发明
国别省市:71

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