真空台遮罩、真空固定装置及工件真空固定到其上的方法制造方法及图纸

本发明专利技术揭露一种用于各种形状及/或尺寸的工件的真空台遮罩、真空固定装置及工件真空固定到其上的方法，其中，真空固定台界定遮罩支撑平面。有孔的真空台遮罩可选择性地定位在所述遮罩支撑平面上，所述真空固定台及所述真空台遮罩被构造成通过在所述遮罩支撑平面中对所述真空台遮罩与所述真空固定台进行适当的相对定位来界定多个可选择的不同的相邻真空孔阵列。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术大体上涉及真空固定装置(vacuum hold-down apparatus)，更具体而言， 涉及采用真空固定装置的检验系统。
技术介绍
据信，以下美国专利代表了所属领域的现状5, 671910及5，709，023,6, 422，548 及 7，469，886。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种真空固定装置。根据本专利技术一方面提供一种用于各种形状及/或尺寸的工件的真空固定系统。该系统包括真空固定台以及有孔的真空台遮罩。真空固定台界定遮罩支撑平面。有孔的真空台遮罩可选择性地定位在遮罩支撑平面上，真空固定台及真空台遮罩被构造成通过在遮罩支撑平面中对真空台遮罩与真空固定台进行适当的相对定位来界定多个可选择的不同的相邻真空孔阵列。根据本专利技术的较佳实施例，真空固定台在其支撑表面上排列有真空孔口(vacuum orifice)阵列；并且真空台遮罩在其上面形成有至少两个孔阵列，所述至少两个孔阵列相互偏置，所述至少两个孔阵列中的每一者均可与真空孔口阵列的至少某些真空孔口对齐， 所述至少两个孔阵列中的每一者的每一个孔均被构造成位于所述工件中的至少一者的下根据本专利技术的较佳实施例，真空台遮罩在其支撑表面上排列有孔阵列，该遮罩被构造成位于所述工件中的至少一者的下面；并且真空固定台在其上面形成有至少两个真空孔口阵列，所述至少两个真空孔口阵列相互偏置，该遮罩的孔中的至少某些可与所述至少两个孔口阵列中的每一者的孔口对齐。根据本专利技术另一方面提供一种用于各种形状及/或尺寸的工件的真空固定系统。 该系统包括真空固定台以及真空台遮罩。真空固定台在其支撑表面上排列有真空孔口阵列。真空台遮罩在其上面形成有至少两个孔阵列，所述至少两个孔阵列相互偏置，所述至少两个孔阵列中的每一者均可与真空孔口阵列的至少某些真空孔口对齐，所述至少两个孔阵列中的每一者的每一个孔均被构造成位于所述工件中的至少一者的下面。根据本专利技术的又一方面提供一种用于各种形状及/或尺寸的工件的真空固定系统。该系统包括真空台遮罩以及真空固定台。真空台遮罩在其支撑表面上排列有孔阵列，5该遮罩被构造成位于所述工件中的至少一者的下面。真空固定台在其上面形成有至少两个真空孔口阵列，所述至少两个真空孔口阵列相互偏置，该遮罩的孔中的至少某些可与所述至少两个孔口阵列中的每一者的孔口对齐。 较佳地，每一个孔的横截面尺寸至少略大于每一真空孔口的横截面尺寸。较佳地，真空台遮罩位于真空固定台的上方。作为另外一种选择，真空台遮罩位于真空固定台的增压室(plenum)内。根据本专利技术的较佳实施例，所述至少两个阵列的区域至少部分地重叠。根据本专利技术的较佳实施例，真空固定台在其上面排列有支撑表面阵列，并且真空台遮罩在其上面形成有孔阵列。根据本专利技术的较佳实施例，真空台遮罩具有孔阵列，该遮罩被构造成位于所述工件中的至少一者的下面，并且真空固定台在其上面形成有至少两个支撑表面阵列，所述至少两个阵列中的不同阵列的支撑表面具有不同的横截面构形，所述至少两个阵列中的每一阵列的支撑表面具有相同的横截面构形，该遮罩的孔被构造成不覆在所述至少两个支撑表面阵列中的至少一者的支撑表面上。较佳地，真空台遮罩位于支撑表面的上方。较佳地，真空台遮罩可相对于真空固定台定位在至少两个可选择的位置处。另外或作为另外一种选择，真空台遮罩包括四个孔阵列。根据本专利技术的较佳实施例，真空台遮罩可相对于真空固定台定位在四个可选择的位置处。另外，所述四个可选择的位置是由真空固定台的隅角界定。根据本专利技术的再一方面提供一种用于真空固定台以及各种形状及/或尺寸的工件的真空台遮罩。真空固定台在其支撑表面上排列有真空孔口阵列。该遮罩包括基板，在该基板上形成有至少两个孔阵列，所述至少两个孔阵列相互偏置，所述至少两个孔阵列中的每一者均可与真空孔口阵列的至少某些真空孔口对齐。根据本专利技术的较佳实施例，所述至少两个孔阵列的每一个孔的横截面尺寸至少略大于真空孔口阵列的每一真空孔口的横截面尺寸。另外或作为另外一种选择，真空台遮罩包括四个孔阵列。另外或作为另外一种选择，所述至少两个阵列的区域至少部分地重叠。根据本专利技术的还有一方面提供一种用于将各种形状及/或尺寸的工件真空固定到真空固定台上的方法，其中真空固定台在其支撑表面上排列有真空孔口阵列。该方法包括以下步骤将真空台遮罩放置到真空固定台的支撑表面上，真空台遮罩在其上面形成有至少两个孔阵列，所述至少两个孔阵列相互偏置，所述至少两个孔阵列中的每一者均可与真空孔口阵列的至少某些真空孔口对齐，所述至少两个孔阵列中的每一者均被构造成位于所述工件中的一者的下面；将遮罩定位在支撑表面上，使得所述至少两个孔阵列中的一者与真空孔口阵列的至少某些真空孔口对齐；以及将所述各种形状及/或尺寸的工件中的为第一尺寸/形状的工件放置到真空固定台上，覆在遮罩的至少一部分上并且覆在所述至少两个孔阵列中的与真空孔口阵列的至少某些真空孔口对齐的一者上。较佳地，该方法还包括以下步骤从真空固定台移除第一尺寸/形状的工件；将遮罩重新定位在支撑表面上，使得所述至少两个孔阵列中的另一者与真空孔口阵列的至少某些真空孔口对齐；以及将所述工件中的一个第二尺寸/形状的工件放置到真空固定台上，覆在遮罩的至少一部分上并且覆在所述至少两个孔阵列中的与真空孔口阵列的至少某些真空孔口对齐的所述另一者上面。另外，所述至少两个阵列的区域至少部分地重叠。 附图说明 结合附图阅读以下详细说明，将会更清楚地理解和领会本专利技术，在附图中图1为采用根据本专利技术的各种实施例进行构造和操作的真空固定装置的检验系统的简化示意图；图2为典型真空台遮罩的简化平面图，该典型真空台遮罩适用于本专利技术的真空固定装置且其上面形成有多个孔阵列，这些孔阵列相互偏置；图3A及图3B分别为以第一相互对齐排列方式保持在根据本专利技术实施例的真空固定装置上的为第一尺寸的第一平面工件的平面图及剖面图，图3B为沿图3A中的线A-A截取的剖视图；图4A及图4B分别为以第二相互对齐排列方式保持在根据本专利技术实施例的真空固定装置上的为第二尺寸的第二平面工件的平面图及剖面图，图4B为沿图4A中的线A-A截取的剖视图；图5A及图5B分别为以第三相互对齐排列方式保持在根据本专利技术实施例的真空固定装置上的为第三尺寸的第三平面工件的平面图及剖面图，图5B为沿图5A中的线A-A截取的剖视图；图6A及图6B分别为以第四相互对齐排列方式保持在根据本专利技术实施例的真空固定装置上的为第四尺寸的第四平面工件的平面图及剖面图，图6B为沿图6A中的线A-A截取的剖视图；图7为检验系统的简化示意图，该检验系统采用根据本专利技术的实施例进行构造和操作的真空固定装置；图8为图7的真空固定装置在无真空台遮罩时的简化俯视图；图9为图7的真空固定装置的真空台遮罩的简化俯视图；图IOA及图IOB分别为以第一相互对齐排列方式保持在图7至图9的真空固定装置上的为第一尺寸的第一平面工件的平面图及剖面图，图IOB为沿图IOA中的线B-B截取的剖视图；图IlA及图IlB分别为以第二相互对齐排列方式保持在图7至图9的真空固定装置上的为第二尺寸的第二平面工件的平面图及剖面图，图IlB为沿图IlA中的线B-B截取的剖视图；图12A及图12B分别为以第三相互对齐排列方式保持在图7至图9的真空固定装置上的为第三尺寸的本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种用于各种形状及／或尺寸的工件的真空固定系统，其特征在于，所述系统包括：真空固定台，界定遮罩支撑平面；以及有孔的真空台遮罩，其可选择性地定位在所述遮罩支撑平面上，所述真空固定台及所述真空台遮罩被构造成通过在所述遮罩支撑平面中对所述真空台遮罩与所述真空固定台进行适当的相对定位来界定多个可选择的不同的相邻真空孔阵列。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：A·卡兹，
申请(专利权)人：以色列商奥宝科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：IL