【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种大气压低温等离子体电刷发生装置及其阵列组合，常应用于物质 表面清理，材料性质改良，杀菌和环境净化等领域的设备。
技术介绍
近年来，等离子体技术(等离子体处理工艺)被广泛地应用于半导体制造、物质材 料表面清理与改良，杀菌等工业领域。等离子体技术在上述众多工业领域的成功应用缘于 等离子体的非平衡特性。在非平衡态等离子体体系中，存在着大量的低温化学活性物种，当 这些活性物种与其它物质表面接触时，能够在不影响这些物质整体性质的情况下，改良物 质表面特性。在传统的工业领域中，主要依靠低压辉光放电非平衡等离子体进行材料处理，而 该等离子体产生过程需要昂贵的真空设备，还存在被处理物质与真空装置兼容困难的不利 因素。巨大金额真空设备的投资，较高设施维护修理费用以及操作控制的复杂性等因素限 制了低压辉光放电非平衡等离子体处理工艺的大范围使用。相对带有真空设备的低压辉光等离子体发生装置而言，大气压低温等离子体电刷 发生装置要廉价许多，也不需要被处理物质处在真空环境中。近几十年来，人们都致力于 大气压非平衡等离子体设备的研发，然而报道的仅仅是为数不多的几种大气压等离...
【技术保护点】
一种大气压低温等离子体电刷发生装置，包括主体腔室和两个电极，主体腔室具有进气端口和出气端口，其特征在于：所述出气端口为窄缝状，主体腔室内靠近该出气端口的部分形成窄缝腔体，所述两个电极的放电端位于所述窄缝腔体处。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：段忆翔，赵卫，汤洁，
申请(专利权)人：中国科学院西安光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：87
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