一种生产电容器用的镀膜制造技术

技术编号:5928691 阅读:177 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术一种生产电容器用的镀膜,它包括基膜[2]和蒸镀在基膜[2]上的金属镀层[1],其特征是所述的基膜[2]上下双面镀有金属镀层[1],所述的基膜[2]为聚酯,所述的金属镀层[1]为镀铝。本发明专利技术生产出的电容器,成体低,产品体积小,损耗角正切值小。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种生产电容器用的镀膜
技术介绍
CBB8UCL21及耐大电流电容器使用场非常广泛,常用于显示设备,如音响,视听设 备,通信器材,电子设备的滤波,降噪,隔直流,以及焊机上耐大电流冲击等电容器。常用的 CBB8UCL21及耐大电流电容器的镀膜是采用纸作为基膜,铝箔作为镀膜。上述镀膜的缺点 是产品的体积较大,损耗角正切值大。
技术实现思路
本专利技术的目的就是解决现有电容器用的镀膜产品的体积大,损耗角正切值大的问题。本专利技术采用的技术方案是一种生产电容器用的镀膜,它包括基膜和蒸镀在基膜 上的金属镀层,其特征是所述的基膜上下双面镀有金属镀层,所述的基膜为聚酯,所述的金 属镀层为镀铝。本专利技术有益效果是生产成本降低20%,产品的体积减小15%,损耗角正切值大 控制在0. 以下。附图说明图1为本专利技术结构示意图。图中,1、金属镀层,2、基膜。具体实施例方式本专利技术一种生产电容器用的镀膜,如图1所示,它包括基膜2和蒸镀在基膜2上的 金属镀层1,所述的基膜2上下双面镀有金属镀层1,所述的基膜2为聚酯,所述的金属镀层 1为镀铝。权利要求1. 一种生产电容器用的镀膜,它包括基膜和蒸镀在基膜上的金属镀层,其 特征是所述的基膜上下双面镀有金属镀层,所述的基膜为聚酯,所述的金属镀 层为镀铝。全文摘要本专利技术一种生产电容器用的镀膜,它包括基膜和蒸镀在基膜上的金属镀层,其特征是所述的基膜上下双面镀有金属镀层,所述的基膜为聚酯,所述的金属镀层为镀铝。本专利技术生产出的电容器,成体低,产品体积小,损耗角正切值小。文档编号H01G4/002GK102110527SQ20091025167公开日2011年6月29日 申请日期2009年12月28日 优先权日2009年12月28日专利技术者佘强, 钱加圣 申请人:铜陵市东市电子有限责任公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种生产电容器用的镀膜,它包括基膜[2]和蒸镀在基膜[2]上的金属镀层[1],其特征是所述的基膜[2]上下双面镀有金属镀层[1],所述的基膜[2]为聚酯,所述的金属镀层[1]为镀铝。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:佘强钱加圣
申请(专利权)人:铜陵市东市电子有限责任公司
类型:发明
国别省市:34[中国|安徽]

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