根据足底图像分析数据进行鞋楦设计的方法技术

一种根据足底图像分析数据进行鞋楦设计的方法，包括，足底图形采集、足印分析、数据提取、鞋楦底样设计及鞋楦设计步骤；使用足底扫描系统；足印分析，通过足印分析模块对足部部位特征尺寸及特征线进行测量，并对足底受力部位尺寸进行定位分析及相对尺寸测量，产生相应的数据；将测量、分析计算完成的脚型特征部位尺寸数据及脚底受力部位尺寸提出，进入数据库，进行综合最大值、最小值、平均值的统计和计算，根据统计和计算的数据，与经验数值进行比较，取得鞋楦底数据；根据取得的鞋楦底数据进行鞋楦底样设计；确定鞋楦底数据；完成鞋楦设计和制作。为制楦、制鞋企业提供了一种精确、简便可行的鞋楦定制方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种，应用于制鞋、制楦 行业。
技术介绍
鞋楦是制鞋的模型，它的尺寸和造型关系到鞋的内部空间。随着社会经济的发展， 消费者对鞋的舒适性、合脚性更为关注，个性化定制成为一种时尚。我国在此领域也有不少 相关的研究。一类是传统的纯手工操作，使用千分尺、游标卡尺、布带尺等进行脚型测量，但 需要有一定经验的人员进行操作，人为因素干扰过多等。一类是使用三维脚型扫描测量， 虽然感觉很现代化，但三维测量装置由于缺乏准确的定位系统，不能准确的用于鞋楦的设 计与开发，致使设计出来的鞋楦，还是凭着设计者个人的感觉来判断是否合适，同样缺乏科 学、标准的尺寸控制，且成本高，市场难以应用。故目前，我国在真正的个性化定制上还存在 很多问题。
技术实现思路
本专利技术的目的是要提供一种，以用于 鞋的个性化定制、鞋的模组化定制及专业鞋的定制，能够准确、快捷的设计鞋楦，为制楦、制 鞋企业提供了 一种精确、简便可行的鞋楦定制方法。本专利技术是采用以下技术手段实现的一种，包括，足底图形采集、足印分 析、数据提取、鞋楦底样设计及鞋楦设计步骤；其中，足底图形采集步骤，使用足底扫描系 统；足印分析步骤，通过足印分析模块对足部部位特征尺寸及特征线进行测量，并对足底受 力部位尺寸进行定位分析及相对尺寸测量，产生相应的数据；数据提取步骤，是将测量、分 析计算完成的脚型特征部位尺寸数据及脚底受力部位尺寸提出，进入数据库，进行综合最 大值、最小值、平均值的统计和计算，根据统计和计算的数据，与经验数值进行比较，取得鞋 楦底数据；根据取得的鞋楦底数据进行鞋楦底样设计；确定鞋楦底数据；完成鞋楦设计；完 成鞋楦制作。前述的足部部位特征尺寸包括纵向、横向的长度，角度及足弓指数。前述的足部部位特征线包括脚底中轴线、跖趾围线、第五跖趾外宽度、踵心线、第 一跖趾内宽。前述的足印分析模块，采用专业的分析软件，该软件能够对足部特征部位尺寸进 行纵向、横向的长度测量，角度测量及足弓指数的测量，如脚长向特征部位尺寸、脚宽向特 征部位尺寸、最大承重部位、脚的外旋、内旋度、脚的足弓状况等，并对足底受力部位尺寸进 行定位分析及相对尺寸测量。本专利技术与现有技术相比，具有以下明显的优势好有益效果可用于鞋的个性化定制、鞋的模组化定制及专业鞋的定制，能够准确、快捷的设计鞋楦，减少了人为因素的干扰， 保证了鞋楦及成鞋的设计质量，提高鞋类的设计、和生产水平，提高了生产效率。为制楦、制 鞋企业提供了 一种精确、简便可行的鞋楦定制方法。附图说明图1为本专利技术的流程示意图；图2为在扫描的足底图像上用分析模块进行分析的主要特征线示意图；图3为根据分析数据设计楦底样图；图4为设计完成的鞋楦示意图。其中，图示中的1为脚底中轴线；2为跖趾围线；3为第五跖趾外宽度；4为踵心线； 5为第一跖趾内宽。具体实施例方式下面对本专利技术的具体实施例加以说明请参阅图1所示，为本专利技术的流程示意图。一种根据足底图像分析数据进行鞋楦 设计的方法，包括足底图形采集、足印分析、数据提取、鞋楦底样设计及鞋楦设计等步骤。足底图形采集，使用足底扫描系统，被测人赤脚站立在该扫描系统上，系统经过扫 描后将图像转移至电脑屏幕，能够真实的表现足底形态及足底静态受力状况；请参阅图2所示，足印分析模块，采用专业的分析软件，该软件能够对足部特征部 位尺寸进行纵向、横向的长度测量，角度测量及足弓指数的测量，如脚长向特征部位尺寸、 脚宽向特征部位尺寸、最大承重部位、脚的外旋、内旋度、脚的足弓状况等，并对足底受力部 位尺寸进行定位分析及相对尺寸测量。前述的数据提取步骤，是将测量、分析计算完成的脚型特征部位尺寸数据及脚底 受力部位尺寸提出，进入数据库，进行综合最大值、最小值、平均值等的统计计算，得出的数 据；请参阅图3、图4所示，前述的鞋楦底样设计及鞋楦设计步骤，根据上述提出并计 算出来的数据，结合经验数值，进行不同种类的鞋楦底样设计，如皮鞋、运动鞋、胶鞋、布鞋 等，并在该鞋楦底样的基础上，按照所需设计鞋楦的品种，进行楦体造型设计。最后应说明的是以上实施例仅用以说明本专利技术而并非限制本专利技术所描述的技术 方案；因此，尽管本说明书参照上述的各个实施例对本专利技术已进行了详细的说明，但是，本 领域的普通技术人员应当理解，仍然可以对本专利技术进行修改或等同替换；而一切不脱离发 明的精神和范围的技术方案及其改进，其均应涵盖在本专利技术的权利要求范围当中。权利要求1.一种，其特征在于包括，足底图形采 集、足印分析、数据提取、鞋楦底样设计及鞋楦设计步骤；其中，所述的足底图形采集步骤，使用足底扫描系统；所述的足印分析步骤，通过足印分析模块对足部部位特征尺寸及特征线进行测量，并 对足底受力部位尺寸进行定位分析及相对尺寸测量，产生相应的数据；所述的数据提取步骤，是将测量、分析计算完成的脚型特征部位尺寸数据及脚底受力 部位尺寸提出，进入数据库，进行综合最大值、最小值、平均值的统计和计算，根据统计和计 算的数据，与经验数值进行比较，取得鞋楦底数据； 根据取得的鞋楦底数据进行鞋楦底样设计； 确定鞋楦底数据； 完成鞋楦设计； 完成鞋楦制作。2.根据权利要求1所述的，其特征在于足 部部位特征尺寸包括纵向、横向的长度，角度及足弓指数。3.根据权利要求1所述的，其特征在于足 部部位特征线包括脚底中轴线、跖趾围线、第五跖趾外宽度、踵心线、第一跖趾内宽。全文摘要一种，包括，足底图形采集、足印分析、数据提取、鞋楦底样设计及鞋楦设计步骤；使用足底扫描系统；足印分析，通过足印分析模块对足部部位特征尺寸及特征线进行测量，并对足底受力部位尺寸进行定位分析及相对尺寸测量，产生相应的数据；将测量、分析计算完成的脚型特征部位尺寸数据及脚底受力部位尺寸提出，进入数据库，进行综合最大值、最小值、平均值的统计和计算，根据统计和计算的数据，与经验数值进行比较，取得鞋楦底数据；根据取得的鞋楦底数据进行鞋楦底样设计；确定鞋楦底数据；完成鞋楦设计和制作。为制楦、制鞋企业提供了一种精确、简便可行的鞋楦定制方法。文档编号G06F17/50GK102063533SQ20101060627公开日2011年5月18日 申请日期2010年12月27日 优先权日2010年12月27日专利技术者孙毅, 金广华 申请人:温州市鹿艺鞋材有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种根据足底图像分析数据进行鞋楦设计的方法，其特征在于：包括，足底图形采集、足印分析、数据提取、鞋楦底样设计及鞋楦设计步骤；其中，所述的足底图形采集步骤，使用足底扫描系统；所述的足印分析步骤，通过足印分析模块对足部部位特征尺寸及特征线进行测量，并对足底受力部位尺寸进行定位分析及相对尺寸测量，产生相应的数据；所述的数据提取步骤，是将测量、分析计算完成的脚型特征部位尺寸数据及脚底受力部位尺寸提出，进入数据库，进行综合最大值、最小值、平均值的统计和计算，根据统计和计算的数据，与经验数值进行比较，取得鞋楦底数据；根据取得的鞋楦底数据进行鞋楦底样设计；确定鞋楦底数据；完成鞋楦设计；完成鞋楦制作。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：孙毅，金广华，
申请(专利权)人：温州市鹿艺鞋材有限公司，
类型：发明
国别省市：33[中国|浙江]