激光退火方法以及装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及激光退火方法以及装置。在透镜阵列方式的均化器光学系统的情况下，一边使长轴用透镜阵列（２０ａ、２０ｂ）在与线状光束的长轴方向对应的方向（Ｘ方向）往复移动，一边进行激光照射，由此，入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜（长轴用聚光透镜２２）的激光（１）的入射角以及强度按照每次发射而变化，所以，纵向条纹被大幅度降低。另外，一边使短轴用透镜阵列（２６ａ、２６ｂ）在与线状光束的长轴方向对应的方向（Ｙ方向）往复移动，一边进行激光照射，由此，入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜（投影透镜３０）的激光（１）的入射角以及强度按照每次发射而变化，所以，横向条纹被大幅度降低。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及利用激光照射对被照射物的表面进行退火处理的激光退火方法以及直O
技术介绍
近年来，对形成在玻璃等绝缘基板上的非晶半导体膜或结晶性半导体膜采用激光 退火，制作高性能的薄膜晶体管。玻璃基板与以往经常使用的石英基板相比较，具有价格低 廉、加工性优越、能够实现大面积化这样的优点。在半导体膜的结晶化中使用激光的原因在 于，玻璃基板的融点为600°c以下，但若使用激光，则能够不对玻璃基板加热就使非晶半导 体膜溶融、结晶化。采用激光退火形成的晶体硅膜具有较高的迁移率，因而能够形成薄膜晶体管，在 一个玻璃基板上形成像素驱动用和驱动用电路的TFT，并装载在便携用或数码静态摄像机 (digital still camera)等的液晶显示器上，作为商品逐渐普及。目前，激光退火装置将由准分子激光器或固体激光器等激光光源振荡产生的脉冲 激光整形为例如IOOmm 400mmX0. 05mm 0. 5mm的线状光束，将该线状光束照射在玻璃 基板上的非晶硅膜上，使硅膜溶融以及凝固，从而进行结晶化。通过搬送玻璃基板，从而能 够使例如730X920mm的玻璃基板上的硅膜的整个面从非晶硅改变为晶体硅。在使本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种激光退火方法，对由脉冲振荡产生的激光进行整形，在被照射物的表面聚光成线状光束，以重复照射激光的方式使线状光束对被照射物在线状光束的短轴方向相对地扫描，利用激光照射对被照射物的表面进行退火处理，其特征在于，利用长轴用透镜阵列，将激光在与线状光束的长轴方向对应的方向上分割为多个，利用长轴用聚光光学系统，在被照射物的表面，将被所述长轴用透镜阵列分割后的激光在长轴方向上叠加，在激光照射中，使所述长轴用透镜阵列在与线状光束的长轴方向对应的方向上往复移动。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：河口纪仁，川上隆介，西田健一郎，M正木，森田胜，
申请(专利权)人：株式会社IHI，
类型：发明
国别省市：JP[日本]