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溶剂型的用于再剥离的粘着剂组合物和用于再剥离的粘着产品制造技术

技术编号:5436114 阅读:156 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种溶剂型的用于再剥离的粘着剂组合物,该溶剂型的用于再剥离的粘 着剂组合物含有玻璃化温度Tg为0℃以上的高Tg聚合物A、Tg比该高Tg 聚合物低且表现出压敏粘着性的低Tg聚合物B、以及溶剂,其特征在于, 在由上述粘着剂组合物得到的粘着剂层中,高Tg聚合物A和低Tg聚合物B 不相溶,且形成为高Tg聚合物A为岛、低Tg聚合物B为海的海岛结构。 能够形成高速剥离性良好的粘着剂层作为光学用薄膜的表面保护薄膜。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及贴着到被粘物上后被再次剥离的用于再剥离的、即使在高速 剥离下也表现出良好的剥离性的用于再剥离的粘着产品和用于制备该粘着 产品的溶剂型的粘着剂组合物。更详细地说,涉及用于保护光学用偏振片(TAC)、相位差板、EMI (电磁波)保护薄膜、防眩薄膜、防反射薄膜等光 学用构件的表面的用于再剥离的粘着产品。
技术介绍
在液晶显示器和等离子显示器等中,具有各种功能的光学用薄膜,例如 光学用偏振片(TAC)、相位差板、EMI (电磁波)保护薄膜、防眩薄膜、防 反射薄膜等被层压使用。为了防止这些光学用薄膜在显示器的制备工序中或性能检查阶段中的表面的损伤,在其表面预先贴着保护薄膜,并在最终制备 复合功能薄膜时或组装液晶面板工序中剥离除去。作为表面保护薄膜,需要不妨碍性能检查的透明性、不允许咬入气泡等 的粘附性,同时需要无粘附到被粘物上后的粘着力增加和被粘物上的浆糊残 留。而且,最近,由于伴随着显示器的大型化,保护薄膜也趋于大面积化, 因此,剥离工序被机械化,其结果,使得能够用机械进行高速剥离也成为重 要的特性要求。但是,由于剥离速度越高,剥离力(粘着力)有增大的倾向,因此要对 剥离机械施加大的负荷。并且,剥离时产生顺利剥离的部分和不易剥离的部 分,出现剥离的同时有咯吱咯吱声的现象(尖啸声(-、乂匕。y夕')剥离),而 且光学用薄膜表面有时会损伤、断裂。因此,进行了多次改善保护薄膜的高速剥离性的尝试。例如,特开42005-146151号公报中公开了,通过在常温下将无粘着性的高Tg的(甲基)丙 烯酸系聚合物和有充分的粘着力的低Tg的(甲基)丙烯酸系聚合物掺合,从而 得到无起泡和剥落(有相应的粘着性)、而且高速剥离性良好的用于保护薄 膜的压敏粘合剂。上述的用于保护薄膜的粘着产品,由于以剥离为前提,与一般的粘着产 品相比被设计成相当低的粘着力(微粘着)。但是,高Tg聚合物的Tg过高 时,由于本来为低水平的粘着力,因此会出现低温时变得几乎没有粘着性、 随时间推移进行交联而变得不能粘附到被粘物上的不良情况。另外, 一般的不同种类的聚合物,除数量很少的例外之外,即使进行惨 合也是不相溶的,虽说是相同的(甲基)丙烯酸系聚合物,但也会产生相分离。 这样互溶性差的粘着剂,存在成为涂层时雾度变大、变得不适合作为光学用 途的保护薄膜的情况。进而,还有为了制备保护薄膜,用溶剂稀释粘着剂组 合物至适宜涂布的粘度时,有变得更易分离、放置一日左右粘着剂组合物就 发生相分离、必须进行再次搅拌混合或变得不能使用的问题。另外,将粘着产品在苛刻的条件下从被粘物剥离时,被粘物上会残留一 部分粘着剂而引起被粘物被污染,故要求提高再剥离性。而且,在对被粘物 的适应性(可润湿性(濡;Tl性))的方面也有改善的余地。因此,在本专利技术中,以适用于光学用薄膜的表面保护薄膜为目的,发现 了高速剥离性良好、雾度小而且能够形成粘着剂层的溶剂型的用于再剥离的 粘着剂组合物,所述粘着剂层不易引起被粘物污染等的麻烦,提出了提供良 好的特性的用于再剥离的粘着产品的课题。
技术实现思路
本专利技术的溶剂型的用于再剥离的粘着剂组合物含有玻璃化温度Tg为0 °C以上的高Tg聚合物A、 Tg比该高Tg聚合物低且表现出压敏粘着性的低5Tg聚合物B、以及溶剂,其特征在于,在由上述粘着剂组合物得到的粘着剂层中,高Tg聚合物A和低Tg聚合物B不相溶,且形成为高Tg聚合物A 为岛、低Tg聚合物B为海的海岛结构。另外,本专利技术的用于再剥离的粘着产品的特征在于,在该用于再剥离的 粘着产品中,由上述溶剂型的用于再剥离的粘着剂组合物得到的粘着剂层形 成于支撑基材的至少一面上。附图说明图1为合成例1中得到的粘着剂聚合物溶液的涂层的SEM照片(海岛 结构)。具体实施例方式首先,对本专利技术涉及的溶剂型的用于再剥离的粘着剂组合物进行说明, 但是本专利技术的范围并不限定于这些说明,即使对于以下的例示以外的情况, 也可以在不损害本专利技术的宗旨的范围内作适宜地变更而实施。本专利技术的溶剂 型的用于再剥离的粘着剂组合物是通过干燥(除去溶剂)而成为粘着产品的 物质,是指根据后述的条件测定的在低速剥离下的对亚克力板的180°的粘 着力为10N/25mm以下的情况的物质。另外,在本专利技术中的聚合物中, 均聚物自不必说,还包括共聚物或三元以上的共聚物。本专利技术的单体均 为加成聚合型单体。首先,本专利技术的溶剂型的用于再剥离的粘着剂组合物中的第一必须成分 为玻璃化温度Tg为0'C以上的高Tg聚合物A。通过该高Tg聚合物A的存 在来抑制高速剥离力的增大。在此,聚合物的Tg可以通过DSC (差示扫描热量测定装置)、DTA(差 热分析装置)、TMA (热机械测定装置)求出。另外,均聚物的Tg在各种6文献(例如聚合物手册等)中有记载,因而共聚物的Tg可以由各种均聚物 的Tgn (K)和单体的质量分数(Wn)通过下式求出。 傲1〗丄=11 且在此,wn:各单体的质量分数Tgn:各单体的均聚物的Tg (K)如果例示出主要的均聚物的Tg的话,则聚丙烯酸为105.85°C、聚丙烯 酸甲酯为9.85X:、聚丙烯酸乙酯为-24.15。C、聚丙烯酸正丁酯为-54.15°。、聚 丙烯酸2-乙基己酯为-70.00。C、聚丙烯酸2-羟基乙酯为-15.0(TC、聚甲基丙 烯酸2-羟基乙酯为S4.85。C、聚丙烯酸4-羟基丁酯为-32.00'C、聚甲基丙烯酸 甲酯为104.85°C、聚乙酸乙烯酯为30.00°C、聚丙烯酸苄酯为6.00°C、聚丙 烯腈为125°C、聚苯乙烯为100°C。本专利技术中使用的高丁g聚合物A,只要Tg在0°C以上就没有特别的限定, 可以是均聚物,也可以是两种以上的单体共聚得到的聚合物。在进一步改善 高速剥离性方面,Tg优选为l(TC以上,更优选为2(TC以上,进一步优选为 3(TC以上。但是,高Tg聚合物A的Tg过高时,可称为用于再剥离的微粘 着型,有陷入粘着力不足的情况,因此,Tg优选为不足8(TC,更优选为75 C以下,进一步优选为70'C以下。本专利技术的高Tg聚合物A是用于改善高速剥离性的必须成分,但是作为 第二课题在重视雾度的情况下和重视被粘物污染的抑制的情况下,适合的组 成是不同的。因此,将重视雾度的情况的高Tg聚合物记为(A-l)、将重视 被粘物污染的抑制的情况的高Tg聚合物记为(A-2),各自进行说明。 (1)重视雾度的情况的高Tg聚合物(A-l)在减小由本专利技术的粘着剂组合物得到的粘着剂层的雾度的方面,高Tg7聚合物(A-l)优选为具有来自于乙酸乙烯酯的单元。由于乙酸乙烯酯系聚合物的折射率与成为低Tg聚合物B的主体的(甲基)丙烯酸酯系聚合物(特 别是含有丙烯酸2-乙基己酯或丙烯酸丁酯的聚合物)的折射率相似,所以雾 度变小。因此,高Tg聚合物(A-l)优选为由含有70质量%以上的乙酸乙 烯酯的原料单体得到的物质。更优选乙酸乙烯酯为90质量%以上。从雾度 方面考虑,最优选的高Tg聚合物(A-l)为聚乙酸乙烯酯(乙酸乙烯酯均聚 物)。如果使用聚乙酸乙烯酯作为高Tg聚合物(A-l),可以使得到的粘着剂 层的雾度在2%以下,可以合适地用作要求高透明度的光学用薄膜的表面保 护用薄膜。在非乙酸乙烯酯均聚物的情况的高Tg聚合物(A-l)中,优选将均聚物 的本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种溶剂型的用于再剥离的粘着剂组合物,该溶剂型的用于再剥离的粘着剂组合物含有玻璃化温度Tg为0℃以上的高Tg聚合物A、Tg比该高Tg聚合物低且表现出压敏粘着性的低Tg聚合物B、以及溶剂,其特征在于,在由所述粘着剂组合物得到的粘着剂层中,高Tg聚合物A和低Tg聚合物B不相溶,且形成为高Tg聚合物A为岛、低Tg聚合物B为海的海岛结构。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2006.9.21 JP 256312/2006;2007.7.6 JP 178925/20071、一种溶剂型的用于再剥离的粘着剂组合物,该溶剂型的用于再剥离的粘着剂组合物含有玻璃化温度Tg为0℃以上的高Tg聚合物A、Tg比该高Tg聚合物低且表现出压敏粘着性的低Tg聚合物B、以及溶剂,其特征在于,在由所述粘着剂组合物得到的粘着剂层中,高Tg聚合物A和低Tg聚合物B不相溶,且形成为高Tg聚合物A为岛、低Tg聚合物B为海的海岛结构。2、 根据权利要求1所述的溶剂型的用于再剥离的粘着剂组合物,其中, 所述高Tg聚合物A的Tg为0°C以上至小于80°C;所述低Tg聚合物B的 Tg为小于(TC。3、 根据权利要求1或2所述的溶剂型的用于再剥离的粘着剂组合物, 其中,所述高Tg聚合物是由含有70质量%以上的乙酸乙烯酯或丙烯酸甲酯 的原料单体合成的。4、 根据权利要求1-3中任意一项所述的溶剂型的用于再剥离的粘着剂 组合物,其中,该粘着剂组合物为能够配合交联剂使用的物质,所述高Tg 聚合物A和所述低Tg聚合物B都含有能够与所述交联剂反应的官能团。5、 根据权利要求1-4中任意一项所述的溶剂...

【专利技术属性】
技术研发人员:齐藤允彦冈茂
申请(专利权)人:齐藤允彦冈茂
类型:发明
国别省市:JP

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